一种VCSELWafer测试系统技术方案

本发明专利技术涉及一种VCSEL Wafer测试系统，包括底座、测试台、电极测试组件和功能测试组件，其中测试台活动设置于底座，用于安装晶圆，电极测试组件包括测试座和探针，测试座安装于底座，测试座上开设有贯穿测试座的测试空腔，探针连接于测试座并延伸至测试空腔内，用于抵接并检测晶圆，功能测试组件包括轨道和多个具有不同测试功能的独立测试模块，独立测试模块用于穿过测试空腔对晶圆进行检测。相比于现有技术，本发明专利技术将测试台和独立测试模块分别设置于电极测试组件的两侧，使二者运动互不干涉，且使得测试空腔上方预留有足够的操作空间，使整个系统能够有效地将多种不同的测试功能集成到一起，具备很好的应用前景。具备很好的应用前景。具备很好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种VCSEL Wafer测试系统


[0001]本专利技术涉及芯片测试设备
，尤其涉及一种VCSEL Wafer测试系统。

技术介绍

[0002]VCSEL是Vertical Cavity Surface Emitting Laser的首字母缩写，即垂直腔表面发射激光器。VCSEL是一种半导体激光二极管，以砷化镓等半导体材料为基础研制，有别于LED(发光二极管)和LD(Laser Diode，激光二极管)等其他光源。与传统的边发射(Edge emitter)激光器不同，VCSEL是从顶部表面垂直发射高功率光学激光束，具有体积小、圆形输出光斑、天然2D机构光、单纵模输出、阈值电流小、工作温度范围大、价格低廉、易集成为大面积阵列等优点，广泛应用与光通信，光互连，光存储等领域。
[0003]VCSEL Wafer即VCSEL晶片，对其进行测试是其生产中很重要的一个环节，因其测试在国内起步较晚，测试工艺还不成熟，而且没有统一标准。所以国内生产的测试系统测试功能也各不相同，都是针对客户产品的工艺需求来设计，例如，中国专利技术专利CN2107本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种VCSEL Wafer测试系统，其特征在于，包括：底座；测试台，活动设置于所述底座，用于安装晶圆；电极测试组件，包括测试座和探针，所述测试座安装于所述底座，所述测试座上开设有贯穿所述测试座的测试空腔，所述测试空腔位于所述测试台的运动轨迹上方，所述探针连接于所述测试座并延伸至所述测试空腔内，用于抵接并检测晶圆；功能测试组件，包括轨道和多个具有不同测试功能的独立测试模块，所述轨道连接于所述底座，多个所述独立测试模块均活动连接于所述轨道，所述独立测试模块的运动轨迹经过所述测试空腔上方，所述独立测试模块用于穿过所述测试空腔对晶圆进行检测。2.根据权利要求1所述的VCSEL Wafer测试系统，其特征在于，所述测试空腔为柱体形状，所述测试台包括一个用于安装晶圆的安装面，所述测试空腔的延伸方向垂直于所述安装面。3.根据权利要求2所述的VCSEL Wafer测试系统，其特征在于，所述探针包括探针杆和探针头，所述探针杆贴合所述测试空腔的内壁延伸，所述探针杆的一端连接于所述测试座，另一端形成弯折，所述探针头连接于所述探针杆的另一端，用于抵接并检测晶圆。4.根据权利要求3所述的VCSEL Wafer测试系统，其特征在于，所述电极测试组件还包括驱动器，所述驱动器连接于所述测试座，所述探针杆的一端...

【专利技术属性】
技术研发人员：马超，汤国忠，黄秋元，周鹏，
申请(专利权)人：武汉普赛斯电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：