低粘结力全息膜、其制备方法及在制备AR显示元件中的应用技术

本发明专利技术提供了一种低粘结力全息膜在制备AR显示元件中的应用，所述低粘结力全息膜包括依次叠置的：基底、低粘结力层、光学膜层、全息曝光后的光致聚合物薄层与保护膜层。与现有技术相比，本发明专利技术提供的低粘结力全息膜采用低粘接力层加全息膜层的结构，使得既能保证全息膜的曝光均匀性，又能在全息曝光处理后具有低粘、易撕取、不残胶等优点。无论对于平面界面还是曲面界面都可以实现良好的贴合应用，解决了AR全息膜在全息曝光前后的贴合与转移过程中的技术问题，本发明专利技术还提供了一种工艺友好、通用性强的全息膜制备方法，尤其满足了其在AR眼镜和AR

【技术实现步骤摘要】
低粘结力全息膜、其制备方法及在制备AR显示元件中的应用


[0001]本专利技术属于光学材料
，尤其涉及一种低粘结力全息膜、其制备方法及在制备AR显示元件中的应用。

技术介绍

[0002]光敏全息材料作为一种特殊的信息存储材料已经在激光防伪
获得了广泛应用。而全息材料经过激光干涉全息曝光处理后会形成具有折射率差的体全息体光栅，由此全息体光栅构成的结构是一种性能优异的AR显示元件，因此其在AR眼镜、AR抬头显示(AR
‑
HUD)等领域的应用已经得到了广泛关注和研究。
[0003]全息材料在AR显示中的应用都要经过全息曝光形成全息体光栅这个过程，曝光时要求全息材料具有平整的表面，一方面是为了避免杂光干扰，另一方面避免由于反光造成的干涉条纹的影响。一般的操作是直接将全息材料涂布在平面基底上，曝光处理后全息体光栅在该平面基底上形成，但这种方法只能是全息材料层和该平面基底一起作为最终的AR显示元件，极大的限制了其应用。比如一些具有屈光矫正的镜片和汽车挡风玻璃等非平面界面其本身不能作为全息材料涂布和曝光的基底(用于曝光的基底必须是平面)，就无法实现曲面界面的AR显示，因此在实际应用中需要具有全息体光栅结构的全息膜进行曲面贴合。
[0004]光敏全息膜因其适用于产线卷对卷涂布，量产性好而成为AR显示的优选方案，光敏材料涂布在光学膜层基底上形成光敏全息膜。全息膜贴合到平面基底上以保障曝光效果，在曝光结束后又可以从平面基底上揭下来重新与其他平面界面如光学棱镜、平面玻璃或树脂等贴合，也可以与屈光镜片、汽车挡风玻璃等非平面界面进行贴合，从而得到各种形式的AR显示元件，如AR眼镜或AR
‑
HUD等。另外，由于可以去除原来用于曝光的平面基底，具有全息体光栅结构的全息膜本身并不会额外增加AR显示元件的厚度和重量，这对于AR眼镜的佩戴舒适性非常有帮助，对于AR
‑
HUD的显示也大有裨益。因此一种具有低粘接力易撕的全息膜开发成为必要。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术要解决的技术问题在于提供一种低粘结力全息膜、其制备方法及在制备AR显示元件中的应用。
[0006]本专利技术提供了一种低粘结力全息膜在制备AR显示元件中的应用，所述低粘结力全息膜包括依次叠置的：
[0007]基底、低粘结力层、光学膜层、全息曝光后的光致聚合物膜层与保护膜层。
[0008]优选的，所述低粘结力全息膜应用于制备非平面AR显示元件。
[0009]优选的，所述低粘结力层的剥离力小于20gf/25mm。
[0010]优选的，所述低粘结力层为静电吸附层、低粘结力胶黏剂层或UV减黏胶层；
[0011]所述保护膜层选自TAC膜、PMMA膜、COP膜、PET膜、PE膜或OCA膜。
[0012]优选的，所述光学膜层的厚度为20～80μm。
[0013]优选的，所述全息曝光后的光致聚合物膜层的厚度为15～50μm。
[0014]本专利技术还提供了一种低粘结力全息膜的制备方法，包括：
[0015]S1)在避光的条件下将光致聚合物材料涂布在光学膜层上，低温固化成膜后，得到复合光致聚合物膜层的光学膜层；
[0016]S2)在复合光致聚合物膜层的光学膜层的光致聚合物膜层表面贴合保护膜，得到全息膜；
[0017]S3)在基底表面涂布低粘结力胶，然后贴合全息膜，且全息膜的光学膜层表面与低粘结力胶贴合，得到复合基底的全息膜；
[0018]或者在全息膜的光学膜层表面涂布低粘结力胶，贴合基底后，得到复合基底的全息膜；
[0019]或者将全息膜的光学膜层表面进行电晕处理，贴合基底后，得到复合基底的全息膜；
[0020]S4)将所述复合基底的全息膜经全息曝光后，得到具有显示功能的低粘结力全息膜；
[0021]S5)将步骤S4得到的全息膜与基底分离，被分离后的全息膜直接与终端基底表面贴合得到各种形式的AR显示元件。
[0022]优选的，所述步骤S1)中涂布的线速度为10～60m/min；低温固化成膜的温度为40℃～80℃。
[0023]优选的，所述步骤2)中贴合保护膜速度为20～60m/min。
[0024]优选的，所述步骤S2)中贴合保护膜后还包括收卷，得到全息膜；所述收卷的张力为6
×
10～18
×
10N。
[0025]本专利技术提供了一种低粘结力全息膜在制备非平面的AR显示元件中的应用，所述低粘结力全息膜包括依次叠置的：基底、低粘结力层、光学膜层、全息曝光后的光致聚合物膜层与保护膜层。与现有技术相比，本专利技术提供的低粘结力全息膜采用低粘接力层加全息膜层的结构，使得既能保证全息膜的曝光均匀性，又能再在全息曝光处理后具有低粘、易撕取、不残胶等优点。无论对于平面界面还是曲面界面都可以实现良好的贴合应用，解决了AR全息膜在全息曝光前后的贴合与转移过程中的技术问题，本专利技术还提供了一种工艺友好、通用性强的全息膜制备方法，尤其满足了其在AR眼镜和AR
‑
HUD等新型曲面显示器件上的应用。
附图说明
[0026]图1为本专利技术提供的低粘结力全息膜的制备流程示意图；
[0027]图2为本专利技术实施例2中制备的AR智能眼镜所显示的实像和虚像结合的场景照片。
具体实施方式
[0028]下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都
属于本专利技术保护的范围。
[0029]本专利技术提供了一种低粘结力全息膜在制备AR显示元件中的应用，所述低粘结力全息膜包括依次叠置的：基底、低粘结力层、光学膜层、全息曝光后的光致聚合物膜层与保护膜层。
[0030]进一步优选的，本专利技术提供了一种低粘结力全息膜在制备非平面的AR显示元件中的应用。
[0031]在本专利技术中，基底用于全息曝光时作为平整的平面来支撑膜材，因此所述基底优选为透明平面基底，更优选为玻璃或塑料。
[0032]所述基底的表面设置有低粘结力层；在本专利技术中低粘结力层的剥离力优选小于20gf/25mm，以便于后续使用过程中将全息膜从基底上去除，解决了AR全息膜在全息曝光前后的贴合与转移过程中的技术问题；所述低粘结力层优选为静电吸附层、低粘结力胶黏剂层或UV粘结胶层。
[0033]所述低粘结力层的表面设置有光学膜层；所述光学膜层的厚度优选为20～80μm，更优选为40～80μm；在本专利技术提供的实施例中，所述光学膜层的厚度具体为40μm、60μm或80μm；所述光学膜层的种类为本领域技术人员熟知的光学膜层即可，并无特殊的限制，本专利技术中优选为TAC薄膜或PMMA薄膜。
[0034]所述光学膜层的表面设置有全息曝光后的光致聚合物薄膜层；所述光致聚合物薄膜层由光致聚合物材料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低粘结力全息膜在制备AR显示元件中的应用，所述低粘结力全息膜包括依次叠置的：基底、低粘结力层、光学膜层、全息曝光后的光致聚合物膜层与保护膜层。2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述低粘结力全息膜应用于制备非平面AR显示元件。3.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述低粘结力层的剥离力小于20gf/25mm。4.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述低粘结力层为静电吸附层、低粘结力胶黏剂层或UV减黏胶层；所述保护膜层选自TAC膜、PMMA膜、COP膜、PET膜、PE膜或OCA膜。5.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述光学膜层的厚度为20～80μm。6.根据权利要求1所述的应用，其特征在于，所述全息曝光后的光致聚合物膜层的厚度为15～50μm。7.一种低粘结力全息膜的制备方法，其特征在于，包括：S1)在避光的条件下将光致聚合物材料涂布在光学膜层上，低温固化成膜后，得到复合光致聚合物膜层的光学膜层；S2)在复合光致聚合物膜层的光学膜层的光致聚合物膜层表面贴合保护...

【专利技术属性】
技术研发人员：李彬彬，陈伟清，张卓鹏，魏一振，
申请(专利权)人：杭州光粒科技有限公司，
类型：发明
国别省市：