【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造气体的方法和气体制造装置
[0001]本专利技术涉及一种用于将气体导入到液体中的方法，其中以顺序脉冲的方式用气体填充布置在液体表面下方并由液位沿向下方向限定的气体容积，其中气体同时将液体从顶部向底部排出气体提升通道，直到液位下降到气体流出通道的入口横截面下方，其中气体随后向下通过气体上升通道从气体容积中流出，偏转部分在底部邻接气体上升通道，沿向上的方向通过入口横截面并通过在顶部处邻接入口横截面的气体流出通道到达表面，其中液体的阻塞流流过气体提升入口下方的补偿入口到达入口横截面，并且被气体夹带，直到液体填充偏转部分，从而关闭气体的入口横截面。
[0002]本专利技术还涉及一种气体导入装置，该气体导入装置包括由上壁和侧壁限定的向下开口的气体收集室、用于将气体导入气体收集室的气体入口、用于通过提升气体来排空气体收集室的气体提升通道，其中气体提升通道包括在气体收集室的顶部上的气体提升入口、在气体提升通道的底部处的偏转部分、在偏转部分的顶部处的入口横截面(其中气体流出通道邻接在偏转部分的顶部处)、以及在气体提升器入口下方的补偿入口，其...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于将气体(1)导入液体(2)中的方法，所述方法包括：以顺序脉冲的方式用所述气体(1)填充布置在所述液体(2)的表面(4)下方并由所述液体(2)的液位(5)沿向下方向限定的气体容积(6)，其中所述气体(1)同时将所述液体(2)从顶部向底部排出气体提升通道(14、25、30、46、57、70)，直到所述液位(5)下降到气体流出通道(13、29、42、53、73)的入口横截面(12、24、43、55、72)下方；随后所述气体(1)向下流过所述气体提升通道(14、25、30、46、57、70)和在底部邻接所述气体提升通道的偏转部分(11、45、56、71)，沿向上的方向通过所述入口横截面(12、24、43、55、72)并通过在顶部处邻接所述入口横截面(12、24、43、55、72)的气体流出通道(13、29、42、53、73)到达所述表面(4)，其中所述液体的阻塞流(18)流过所述气体提升入口(16、32、60、69)下方的补偿入口(17、21、33、48、62、75)到达所述入口横截面(12、24、43、55、72)，并且被所述气体(1)夹带直到所述液体(2)填充所述偏转部分(11、45、56、71)，从而关闭所述气体(1)的入口横截面(12、24、43、55、72)；其特征在于：在所述液位(5)已经下降到所述入口横截面(12、24、43、55、72)下方之后，最初只有所述气体(1)流过所述气体出口通道(13、29、42、53、73)，直到所述液位(5)上升到所述补偿入口(17、21、33、48、62、75)上方，以及然后仅所述阻塞流(18)穿过所述补偿入口(17、21、33、48、62、75)到达所述入口横截面(12、24、43、55、72)。2.一种用于在浸没在液体(2)中的膜过滤器(64)中过滤液体(2)的方法，所述膜过滤器包括膜(76)，其中将气体(1)从下方导入所述膜过滤器(64)中以清洁所述膜(76)，其特征在于，所述气体(1)根据权利要求1所述的方法流过所述气体流出通道(13、29、42、53、73)，并且随后被导入所述膜过滤器(64)中。3.一种气体导入装置(3.19、26、27、28、41、50、63)，包括：－向下打开的气体收集室(7、23、34、44、51、65)，其由上壁(8、22、39、54、68)和侧壁(9、20、40、47、52、66)限定；－气体入口(10、36、37、38、67)，其构造成使气体(1)进入气体收集室(7、23、34、44、51、65)；－气体提升通道(14、25、30、46、57、70)，其构造成将气体提升出气体收集室(7、23、34、44、51、65)并排空气体收集室(7、23、34、44、51、65)，其中气体提升通道(14、25、30、46、57、70)包括在气体收集室(7、23、34、44、51、65)的顶部中的气体提升入口(16、32、60、69)；－在所述气体提升通道(14、25、30、46、57、70)的底部处的偏转部分(11、45、56、71)；－入口横截面(12、24、43、55、72)，其被布...
【专利技术属性】
技术研发人员：克劳斯，
申请(专利权)人：迈姆比昂有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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