一种超细团聚球形粉体直接制备的雾化器及粉体制备装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及粉体制备技术领域，具体涉及一种超细团聚球形粉体直接制备的雾化器及粉体制备装置。雾化器包括进料管、进气管和气料混合腔；进料管可拆卸穿插于气料混合腔内，气料混合腔上开设有喷口，进料管的出料端与喷口相对设置，气料混合腔内设置有第一环形凸台，进料管的外壁上设置有第二环形凸台，第一环形凸台与第二环形凸台之间通过垫片密封配合；气料混合腔与进料管之间存在气流通道，气流通道环绕在进气管的周围；进气管与气流通道相通，进气管的出气端与进料管的侧壁相对。本发明专利技术提供的超细团聚球形粉体直接制备的雾化器及粉体制备装置，粉体的粒径范围不易容易出现较大的波动，粉体流化因子波动较小，进而，提高了涂层沉积的稳定性。沉积的稳定性。沉积的稳定性。

Atomizer and powder preparation device for direct preparation of ultrafine agglomerated spherical powder

【技术实现步骤摘要】
一种超细团聚球形粉体直接制备的雾化器及粉体制备装置


[0001]本专利技术涉及等离子物理气相沉积用热障涂层用粉体制备
，具体而言，涉及一种超细团聚球形粉体直接制备的雾化器及粉体制备装置。

技术介绍

[0002]热障涂层(Thermal Barrier Coating，TBC)被广泛应用于燃气涡轮发动机热端部件表面，是燃气涡轮发动机高压涡轮叶片三大关键制造技术之一，是现代高性能燃气涡轮发动机不可或缺的热防护技术，其具有良好的隔热、抗高温氧化和腐蚀性能，会显著提高热端部件服役温度和服役寿命。目前获得批量应用的热障涂层制备技术主要有大气等离子喷涂(Atmosphericplasma spraying，APS)和电子束物理气相沉积(Electron
‑
beam physical vapourdeposition，EB
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PVD)，其中大气等离子喷涂原料通常为D50在几十微米的球形或近球形粉体，粉体常见粒度范围为10～110μm或45～75μm，具有良好的流动性和适度的松装密度，可以获得微结构和性能可控层状结构的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超细团聚球形粉体直接制备的雾化器，其特征在于，包括用于注入料浆的进料管(110)、用于通入高压气体的进气管(110)和气料混合腔(130)；所述进料管(110)可拆卸穿插于所述气料混合腔(130)内，所述气料混合腔(130)上开设有喷口(131)，所述进料管(110)的出料端与所述喷口(131)相对设置，所述气料混合腔(130)内设置有第一环形凸台(132)，所述进料管(110)的外壁上设置有第二环形凸台(111)，所述第一环形凸台(132)与所述第二环形凸台(111)之间通过垫片(140)密封配合；所述气料混合腔(130)与所述进料管(120)之间存在气流通道(133)，且所述气流通道(133)环绕在所述进气管(120)的周围；所述进气管(120)与所述气流通道(133)相通，且所述进气管(120)的出气端与所述进料管(110)的侧壁相对。2.根据权利要求1所述的雾化器，其特征在于，所述气流通道(133)为螺旋形通道；和/或，所述进料管(110)的位于所述第二环形凸台(111)与所述出料端之间的部位为直筒管道，且所述直筒管道与所述第二环形凸台(111)垂直，所述进气管(110)的出气端的气流方向与所述直筒管道垂直。3.根据权利要求2所述的粉体制备装置，其特征在于，所述气料混合腔(130)的处于所述第一环形凸台(132)与所述喷口(131)之间的区域为柱形腔体，所述直筒管道的外壁上开设有螺旋形凹槽。4.根据权利要求1所述的粉体制备装置，其特征在于，所述气料混合腔(130)上开设有进料口，所述进料口与所述喷口(131)相对设置，所述进料管(110)为圆筒形直管；和/或，所述气料混合腔(130)上开设有进气口，所述进气口与所述进气管(120)螺纹配合。5.一种粉体制备装置，其特征在于，包括权利要求1
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【专利技术属性】
技术研发人员：何箐，由晓明，邹晗，张雨生，
申请(专利权)人：北京金轮坤天特种机械有限公司，
类型：发明
国别省市：