有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法技术

本发明专利技术提供有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。第2显示区域可以包含：第2电极；和在俯视时被第2电极包围的透射区域。透射区域可以包含：第1透射区域；和隔着第2电极与第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是，第1透射区域具有第1形状，第2透射区域具有与第1形状不同的第2形状。不同的第2形状。不同的第2形状。

【技术实现步骤摘要】
有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法


[0001]本公开的实施方式涉及有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。

技术介绍

[0002]近年，在智能手机或平板电脑等电子设备中，市场正在要求高精细的显示装置。显示装置例如具有400ppi以上或800ppi以上等的像素密度。
[0003]由于具有良好的响应性和/或低功耗，因此有机EL显示装置受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知通过蒸镀使构成像素的材料附着于基板上的方法。例如，首先，准备以与元件对应的图案形成有阳极的基板。接着，经由掩模的贯通孔使有机材料附着在阳极上，由此在阳极上形成有机层。接着，经由掩模的贯通孔使导电性材料附着在有机层上，由此在有机层上形成阴极。
[0004]专利文献1：日本特许第3539597号公报
[0005]阴极的面积越大，则阴极的电阻越低。另一方面，阴极的面积越大，则有机器件中的光的透射率越降低。

技术实现思路

[0006]本公开的一个实施方式的有机器件可以具备：基板；位于所述基板上的第1电极；位于所述第1电极上的有机层；以及位于所述有机层上的第2电极。在沿着所述基板的法线方向观察的情况下，所述有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的所述第2电极；和第2显示区域，其包含具有比所述第1占有率小的第2占有率的所述第2电极。所述第2显示区域可以包含：所述第2电极；和在俯视时被所述第2电极包围的透射区域。所述透射区域可以包含：第1透射区域；和隔着第2电极与所述第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是，所述第1透射区域具有第1形状，所述第2透射区域具有与所述第1形状不同的第2形状。
[0007]根据本公开的一个实施方式，能够提高有机器件中的光的透射率。
附图说明
[0008]图1是示出本公开的一个实施方式的有机器件的一例的俯视图。
[0009]图2是示出有机器件的第2显示区域的俯视图。
[0010]图3是示出第2显示区域的第2电极的一例的俯视图。
[0011]图4是示出第2显示区域的透射区域的分类方法的一例的俯视图。
[0012]图5是示出像素组的一例的俯视图。
[0013]图6是示出第2电极的支电极的一例的俯视图。
[0014]图7是示出在图3的有机器件中由标注有标号VII的双点划线所包围的区域的俯视图。
[0015]图8是示出从图7的有机器件去除了第2电极的状态的俯视图。
[0016]图9是图7的有机器件的沿A
‑
A线的剖视图。
[0017]图10是图7的有机器件的沿B
‑
B线的剖视图。
[0018]图11是示出具备掩模装置的蒸镀装置的一例的图。
[0019]图12是示出掩模装置的一例的俯视图。
[0020]图13是示出掩模装置的掩模的俯视图。
[0021]图14是示出第1掩模装置和第2掩模装置的图。
[0022]图15是示出掩模的截面结构的一例的图。
[0023]图16是示出第1掩模的一例的俯视图。
[0024]图17是示出第2掩模的一例的俯视图。
[0025]图18是示出掩模层叠体的一例的俯视图。
[0026]图19是示出掩模层叠体的重叠区域的分类方法的一例的俯视图。
[0027]图20是示出重叠区域的支区域的一例的俯视图。
[0028]图21是示出参考方式的第2显示区域的一例的俯视图。
[0029]图22是示出第2显示区域的一例的俯视图。
[0030]图23是示出掩模层叠体的一例的俯视图。
[0031]图24是示出第1掩模的一例的俯视图。
[0032]图25是示出第2掩模的一例的俯视图。
[0033]图26是示出第3掩模的一例的俯视图。
[0034]图27是示出第2显示区域的一例的俯视图。
[0035]图28是示出掩模层叠体的一例的俯视图。
[0036]图29是示出第1掩模的一例的俯视图。
[0037]图30是示出第2掩模的一例的俯视图。
[0038]图31是示出例1的第2电极的俯视图。
[0039]图32是示出第2电极的衍射特性的评价方法的图。
[0040]图33是示出例1的第2电极的评价结果的图。
[0041]图34是示出例1的第2电极的评价结果的图。
[0042]图35是示出例2的第2电极的俯视图。
[0043]图36是示出例2的第2电极的评价结果的图。
[0044]图37是示出例2的第2电极的评价结果的图。
[0045]图38是示出有机器件的一例的俯视图。
[0046]图39是示出第2显示区域的一例的俯视图。
[0047]图40是示出用于形成抑制层的掩模的一例的俯视图。
[0048]图41是示出形成抑制层的工序的一例的剖视图。
[0049]图42是示出用于形成第2电极的掩模的一例的俯视图。
[0050]图43是示出形成第2电极的工序的一例的剖视图。
[0051]图44是示出形成第2电极的工序的一例的剖视图。
[0052]图45是示出去除第2电极的工序的一例的剖视图。
[0053]图46是示出例3的第2电极的俯视图。
[0054]图47是示出例4的第2电极的俯视图。
[0055]图48是示出例5的第2电极的俯视图。
[0056]图49是示出例6的第2电极的俯视图。
具体实施方式
[0057]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则“基板”、“基材”、“板”、“片”以及“膜”等、表示成为某结构的基础的物质的用语并不是仅根据称呼上的不同来互相区别的。
[0058]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则关于对形状和几何学上的条件以及它们的程度进行指定的例如“平行”、“垂直”等用语、或者长度、角度的值等，并不限定于严格的含义，而是包含可以期待同样功能的程度的范围在内来进行解释。
[0059]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则在某个部件或某个区域等的某个结构处于其它部件或其它区域等的其它结构的“上”或“下”、“上侧”或“下侧”、或者“上方”或“下方”的情况下，包含某个结构与其它结构直接接触的情况。而且，还包含如下情况：在某个结构与其它结构之间包含有另外的结构，即，还包含间接地接触的情况。另外，只要没有特别说明，则对于“上”、“上侧”或“上方”、或者“下”、“下侧”或“下方”这样的语句，也可以使上下方向反转。
[0060]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则存在这样的情况：对于同一部分或具有相同功能的部分标记相同的标号或类似的标号，并省略其重复的说明。另外，存在为了便于说明而使附图的尺寸比例与实际的比例不同的情况、或者将结构的一部分从附图省略的情况。
[0061]在本说明书和本附图中，只要没有特别说明，则本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机器件，其中，所述有机器件具备：基板；第1电极，其位于所述基板上；有机层，其位于所述第1电极上；以及第2电极，其位于所述有机层上，在沿着所述基板的法线方向观察的情况下，所述有机器件具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的所述第2电极；和第2显示区域，其包含具有比所述第1占有率小的第2占有率的所述第2电极，所述第2显示区域包含：所述第2电极；和在俯视时被所述第2电极包围的透射区域，所述透射区域包含：第1透射区域；和隔着所述第2电极而与所述第1透射区域相邻的第2透射区域，所述第1透射区域具有第1形状，所述第2透射区域具有与所述第1形状不同的第2形状。2.根据权利要求1所述的有机器件，其中，所述第1透射区域的面积与所述第2透射区域的面积不同。3.根据权利要求1所述的有机器件，其中，所述透射区域包含隔着所述第2电极而与所述第1透射区域和所述第2透射区域相邻的第3透射区域，所述第3透射区域具有与所述第1形状和所述第2形状不同的第3形状。4.根据权利要求3所述的有机器件，其中，所述透射区域包含隔着所述第2电极而与所述第1透射区域和第2透射区域相邻的第4透射区域，所述第4透射区域具有与所述第1形状和所述第2形状不同的第4形状。5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的有机器件，其中，80％以上的所述透射区域相当于所述第1透射区域。6.根据权利要求1至4中的任意一项所述的有机器件，其中，所述第2显示区域具有80％以上的第1分断率，所述第1分断率是第1分断数相对于包含4个所述有机层的像素组的个数的合计的百分比，所述第1分断数是分断像素组的个数，连结所述分断像素组的4个所述有机层的路径部分地包含所述透射区域。7.根据权利要求1至4中的任意一项所述的有机器件，其中，在所述第2显示区域中，所述第2电极包含干电极和与所述干电极连接的支电极，所述支电极包含：电极第1方向上的2个第1电极端；和与所述电极第1方向交叉的电极第2方向上的1个第2电极端，所述2个第1电极端和所述1个第2电极端与所述透射区域相接。8.根据权利要求7所述的有机器件，其中，所述第2电极包含第1层和第2层，
所述第1显示区域包含沿着元件第2方向以第23周期排列的电极重叠区域，所述电极重叠区域在俯视时包含所述第1层和所述第2层，所述第1电极端的宽度为所述第23周期的0.4倍以上。9.根据权利要求7所述的有机器件，其中，所述第2电极包含第1层和第2层，所述第1显示区域包含沿着元件第1方向以第13周期排列的电极重叠区域，所述电极重叠区域在俯视时包含所述第1层和所述第2层，所述第2电极端的宽度为所述第13周期的0.4倍以上。10.一种掩模组，其中，所述掩模组具备2片以上的掩模，所述掩模具备遮蔽区域和贯通孔，重叠有2片以上的所述掩模的掩模层叠体具备在沿着所述掩模的法线方向观察的情况下与所述贯通孔重叠的贯通区域，在沿着所述掩模的法线方向观察的情况下，所述掩模层叠体具备：掩模第1区域，其包含具有第1开口率的所述贯通区域；和掩模第2区域，其包含具有比所述第1开口率小的第2开口率的所述贯通区域，所述掩模第2区域包含：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村阳子，大八木康之，谷口幸夫，堀口龙二，井上功，
申请(专利权)人：大日本印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：