成像光学系统、取像模组和电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种成像光学系统、取像模组和电子装置。成像光学系统沿光轴从物侧至像侧依次包括具有光焦度的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜和第六透镜。成像光学系统满足条件式：HFOV>25度，f/TTL>1；其中，HFOV为成像光学系统的最大视场角的一半，f为成像光学系统的有效焦距，TTL为第一透镜的物侧面到成像面于光轴上的距离。本发明专利技术实施方式的成像光学系统，可以得到长焦、成像品质良好的镜头。的镜头。的镜头。

【技术实现步骤摘要】
成像光学系统、取像模组和电子装置


[0001]本专利技术涉及光学成像技术，特别涉及一种成像光学系统、取像模组和电子装置。

技术介绍

[0002]近年来，具有摄像功能的便携式电子产品快速革新，消费者对智能手机等电子产品的要求也越来越高，搭载于其上的摄像镜头也开始多样化发展，特别是近来在拍照功能中提出了双摄、三摄模组等概念，光学镜头也出现大孔径+广角、长焦+大像面等更高的规格，在此基础上还有兼顾良好的分辨率，光学设计的难度陡然增加。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施方式提供一种成像光学系统、取像模组和电子装置。
[0004]本专利技术实施方式的成像光学系统，所述成像光学系统沿着光轴从物侧至像侧依次包括：具有光焦度的第一透镜；具有光焦度的第二透镜；具有光焦度的第三透镜；具有光焦度的第四透镜；具有光焦度的第五透镜；具有光焦度的第六透镜；所述成像光学系统满足条件式：HFOV>25度，f/TTL>1；其中，HFOV为所述成像光学系统的最大视场角的一半，f为所述成像光学系统的有效焦距，TTL为所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统沿着光轴从物侧至像侧依次包括：具有光焦度的第一透镜；具有光焦度的第二透镜；具有光焦度的第三透镜；具有光焦度的第四透镜；具有光焦度的第五透镜；具有光焦度的第六透镜；所述成像光学系统满足条件式：HFOV>25度，f/TTL>1；其中，HFOV为所述成像光学系统的最大视场角的一半，f为所述成像光学系统的有效焦距，TTL为所述第一透镜的物侧面到所述成像面于光轴上的距离。2.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述第一透镜具有正光焦度，所述第一透镜的物侧面于近光轴处为凸面；所述第二透镜具有负光焦度；所述第五透镜具有负光焦度，所述第五透镜的物侧面于近光轴处为凹面。3.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件式：0<T56/CT6<0.93；其中，T56为所述第五透镜与所述第六透镜于所述光轴上的空气间隔，CT6为所述第六透镜在所述光轴上的中心厚度。4.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述第六透镜的物侧面于近光轴处为凸面，所述第六透镜的像侧面于近光轴处为凹面，所述第六透镜的物侧面和像侧面中至少一个具有反曲点。5.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件式：0<|f5/f6|<2.6；其中，f5为所述第五透镜的焦距，f6为所述第六透镜的焦距。6.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件式：0.46<ImgH/f<0.52；其中，ImgH为所述成像光学系统的最大视场角所对应的像高的一半。7.根据权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，所述成像光学系统满足以下条件式：
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【专利技术属性】
技术研发人员：谢晗，李明，邹海荣，
申请(专利权)人：江西晶超光学有限公司，
类型：发明
国别省市：