一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法技术

本发明专利技术提供一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法，本申请提供的碘鎓硼酸盐引发剂应用于阴图平印版前体，热成像数字速度更快，有着优异的耐印力，同时改善了版材存放结晶问题，曝光成像后图文可视性也有提高。阴图平印版为免处理平印版，在用红外激光扫描曝光后，可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷，即该平印版为阴图在机显影型免处理版。为阴图在机显影型免处理版。

【技术实现步骤摘要】
一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法


[0001]本专利技术涉及阴图平印版，尤其涉及一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法。

技术介绍

[0002]本专利技术涉及可在机（on
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press）显影的阴图印版前体，该前体可通过光辐射进行曝光。具体地讲，本专利技术涉及具有辐射敏感层的可在机显影的印版前体。
[0003]平版印刷版前体一般包含涂覆在基材的亲水表面上的辐射敏感涂层。辐射敏感涂层通常包括一种或多种分散于有机聚合物粘合剂中的对辐射敏感的组分。在将一部分涂层曝光于辐射后（通常称为曝光成像），涂层中的已曝光部分变得比未曝光部分更易或更难在特定的液体（显影剂）中显影。当已曝光部分或区域在显影剂中变得难以显影，并且未曝光部分在显影过程中被除去时，一般认为这种印版前体为负性平印版前体。在合适的液体中显影后，已成像区域（图文区域）印刷时接受油墨，而基材亲水表面所暴露出的表面排斥油墨。
[0004]在阴图制版平版印刷版前体中使用的辐射敏感的可光致聚合组合物通常包含可自由基聚合的组分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于：该引发剂为二芳基碘鎓硼酸盐化合物，该化合物含有如下结构：R3、R4可在苯环上除R1、R2之外的任何位置；其中R1和R2独立为各自具有2
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9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基，R1和R2可以相同或不同；R3和R4独立地是卤素、羟基、羧基、氨基 、烷基、烷氧基、酯基、硝基等不同于R1和R2的有机基团，R3和R4可以相同或不同；是有机阴离子。2. 根据权利要求1所述的碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于： R1和R2独立地是烷基基团。3.根据权利要求1所述的碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于：R1、R2独立地各自具有3
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6个碳原子。4.根据权利要求1所述的碘鎓硼酸盐引发剂，其特征在于：是四苯基硼酸阴离子。5.一种阴图平印版前体，其特征在于：包含可成像层，可成像层包含聚合物粘合剂、可聚合/交联的组分、红外辐射吸收剂和引发剂，所述引发剂包括权利要求1
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4任一权利要求所述的碘鎓硼酸盐引发剂。6. 根据权利要求5所述的阴图平印版前体，其特征在于：聚合物粘合剂占可成像层重量的20%
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40%，可聚合/交联的组分占可成像层重量的10%
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70%，红外辐射吸收剂占可成像层重量的0.5 %
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30%，所述的碘鎓硼酸盐引发剂占可成像层重量的1 %
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20%。7. 根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴兆阳，杨青海，高英新，吴俊君，杨婧，刘延安，靳立坤，王澄艳，马涛，
申请(专利权)人：乐凯华光印刷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：