一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用技术

技术编号:33991051 阅读:16 留言:0更新日期:2022-07-02 09:41
本发明专利技术涉及一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用,属于聚酰亚胺技术领域,解决了现有技术中聚酰亚胺薄膜在高温下透明性变差、浊度与黄度变大的问题。本发明专利技术提供的高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法包括如下步骤:步骤1:制备聚酰胺酸溶液;步骤2:将聚酰胺酸溶液部分酰亚胺化,得到前驱体溶液;步骤3:在前驱体溶液中加入端基保护剂,成膜,进行酰亚胺化;步骤4:后处理得到高性能聚酰亚胺薄膜。本发明专利技术提供的聚酰亚胺薄膜制备方法实现了对分子链中活性端基的有效保护,并使薄膜的聚集态结构更趋稳定,有效改善了聚酰亚胺薄膜在高温环境下的光学稳定性,在电子、微电子、光学显示、光通信等领域具有重要应用。领域具有重要应用。领域具有重要应用。

【技术实现步骤摘要】
一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用


[0001]本专利技术涉及聚酰亚胺
,尤其涉及一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法及应用。

技术介绍

[0002]光电技术的飞速发展对高性能光学膜材料提出了迫切的应用需求,具有良好透明性、质轻、韧性等优点的聚合物光学材料受到越来越多的重视。在众多的聚合物材料中,透明聚酰亚胺材料因其突出的耐热性能同时兼具优异机械性能、化学稳定性等特性,已成为柔性光电领域首选的聚合物基板材料。特别是在新型显示领域,国内外显示企业开发了基于透明聚酰亚胺为盖板和基板的新型柔性显示器件。三星、华为等公司也发布了以透明聚酰亚胺薄膜为盖板材料的折叠手机,展现出了巨大的市场应用前景。此外,透明聚酰亚胺材料在柔性电子、微电子、信息通讯等其他领域也具有极为广泛应用。
[0003]在显示器件的制备过程中,基板材料通常需要经历一系列高温处理工艺。以OLED显示技术为代表,作为显示驱动的关键组件TFT的制备工艺温度很高,高温处理温度超过350℃,短时活化及去氢工艺甚至高达450~500℃。因此,作为显示应用最有希望的透明聚合物基板材料,本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高性能聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1:制备聚酰胺酸溶液;步骤2:将聚酰胺酸溶液部分酰亚胺化,得到前驱体溶液;步骤3:在前驱体溶液中加入端基保护剂,得到封端的前驱体溶液,成膜,进行酰亚胺化;步骤4:后处理得到高性能聚酰亚胺薄膜。2.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤2中的酰亚胺化包括采用热酰亚胺化法或化学酰亚胺化法。3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤2中的酰亚胺化为化学酰亚胺化。4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤2中采用热酰亚胺化法时加热温度为40~95℃,反应时间0.5~24小时。5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤2中采用化学酰亚胺化法时催化...

【专利技术属性】
技术研发人员:范琳王畅鸥翟磊何民辉莫松
申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1