一种氧化铈的合成方法及其使用方法技术

本发明专利技术提供了一种氧化铈的合成方法及其使用方法。所述氧化铈的合成方法，包括将铈源水溶液添加至沉淀剂水溶液中，生成原料溶液；充分搅拌所述原料溶液，进行沉淀反应；过滤所述原料溶液，得到凝胶态氢氧化铈；配置所述凝胶态氧化铈分散液，将所述分散液置于密闭容器内加热反应。使用本发明专利技术中的合成方法合成的氧化铈粒径分布均一、易于分散，具有良好的抛光应用特性。应用特性。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化铈的合成方法及其使用方法


[0001]本专利技术涉及化学机械抛光领域，尤其涉及一种氧化铈的合成方法及其使用方法。

技术介绍

[0002]氧化铈是一种重要的抛光磨料，在集成电路CMP中有着广泛应用。在较低的固含量下就可达到高的抛光效果，使其作为磨料在化学机械抛光液领域备受关注。比如，以氧化铈作为磨料应用于浅沟槽隔离(STI)工艺抛光已有大量报道(如ZL201310495424.5，ZL200510069987.3)。同时，以氧化铈为磨料的化学机械抛光液，在性能和成本上相比于使用传统的氧化硅或氧化铝材料作为磨料的抛光液具有更大的应用前景和市场优势。
[0003]研究表明，以氧化铈作为磨料时，其自身的颗粒特性对抛光效果的影响至关重要。如在STI抛光应用中，有文献报道氧化铈颗粒尺寸、形貌特征对抛光过程中缺陷的产生和抛光速率选择比均有着重要影响。同时，氧化铈颗粒表面Ce离子价态分布对抛光特性起着关键影响。
[0004]本专利技术通过合成全四价铈的氧化铈纳米颗粒，实现对氧化铈颗粒表面价态组成的控制合成。所合成的氧化铈应用于CMP抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化铈的合成方法，其特征在于，包括将铈源水溶液添加至沉淀剂水溶液中，生成原料溶液；充分搅拌所述原料溶液，进行沉淀反应；过滤所述原料溶液，得到凝胶态氢氧化铈；配置所述凝胶态氧化铈分散液，将所述分散液置于密闭容器内加热反应。2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，将所述分散液置于密闭容器内加热至120℃
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250℃反应。3.如权利要求2所述的合成方法，其特征在于，将所述分散液置于密闭容器内加热至180℃
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200℃反应。4.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，将所述分散液置于密闭容器内加热反应2.0
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8.0小时。5.如权利要求4所述的合成方法，其特征在于，将所述分散液置于密闭容器内加热反应4.0
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6.0小时。6.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述铈源与所述沉淀剂的摩尔比为(1.0/4.0)
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(1.0/6.0)。7.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，所述铈源为可溶性四价铈盐。8.如权利要求7所述的合成方法，其特征在于，所述可溶性铈盐为硝酸铈铵，硫酸铈中的一种或...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹先升，刘同君，
申请(专利权)人：安集微电子上海有限公司，
类型：发明
国别省市：