双一维微机电镜面元件制造技术

本发明专利技术提供一种双一维微机电镜面元件，其包含一基板、一第一一维微机电扫描芯片、一第二一维微机电扫描芯片及一上盖；该第一及第二一维微机电扫描芯片焊接于该基板上；该上盖固定在该基板一以盖合该第一及第二一维微机电扫描芯片于其中，又该上盖对应该第一及第二一维微机电扫描芯片形成一第一视窗及一第二视窗；由于预先制作好的该第一及第二一维微机电扫描芯片共同设置于同一基板上的不同位置，容易克服应用于震动环境的震动干扰，且该上盖的透光区仅为第一及第二视窗可透光，能有效避免入射至该第一及第二一维微机电扫描芯片光线受到环境光的影响。受到环境光的影响。受到环境光的影响。

【技术实现步骤摘要】
双一维微机电镜面元件


[0001]本专利技术有关于一种微机电镜面元件，尤指一种双一维微机电镜面元件。

技术介绍

[0002]现有投影设备采用一种微机电扫描装置，将所产生的影像光束对外投射成出一投影屏幕。目前投影设备的微机电扫描装置主要二个微机电镜面扫描芯片，各该微机电镜面扫描芯片包含一镜面元件，为投射出投影屏幕，其中一微机电镜面扫描芯片的镜面被控制沿着水平轴(H
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axis)转动，而另一微机电镜面扫描芯片的镜面元件则被控制沿着垂直轴(V
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axis)转动。由于镜面为可旋转结构，当投影设备在震动的环境下使用时，震动力会晃动此二微机电镜面扫描芯片的镜面元件，而无法依预定角度转动，又因为此二微机电镜面扫描芯片分别设置在该投影设备内的不同位置，二镜面元件受到震动力晃动程度不同，使最后的成像变得模糊、失真，甚至是无法成像。
[0003]如图4所示，美国公开第US2016/0195713A1号专利技术专利提出一种微机电微镜面元件60，其以半导体制程于一晶圆61的上表面蚀刻出一第一微镜面62及一第二微镜面63，再蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双一维微机电镜面元件，其特征在于，包含：一基板；一第一一维微机电扫描芯片，焊接于该基板上，并包含一第一镜面，其中该第一镜面朝向远离该基板的方向，并沿着一水平轴转动；一第二一维微机电扫描芯片，焊接于该基板上，并包含一第二镜面，其中该第二镜面朝向远离该基板的方向，并沿着一垂直轴转动；一上盖，设置于该基板上，以盖合该第一一维微机电扫描芯片及该第二一维微机电扫描芯片，且该上盖对应该第一一维微机电扫描芯片的该第一镜面形成有一第一视窗，对应该第二一维微机电扫描芯片的该第二镜面形成有一第二视窗；以及一反射层，设置于该上盖的内顶面，并位于该第一视窗及该第二视窗之间。2.如权利要求1所述的双一维微机电镜面元件，其特征在于，其中：该第一一维微机电扫描芯片进一步包含一第一载板，且该第一镜面的侧边延伸有二第一转轴，以使该第一镜面旋转地设置于该第一载板上；该第二一维微机电扫描芯片进一步包含一第二载板，且该第二镜面的侧边延伸有二第二转轴，以使该第二镜面旋转地设置于该第二载板上。3.如权利要求2所述的双一维微机电镜面元件，其特征在于，其中：该第一镜面的面积小于该第二镜面的面积；以及该第一视窗的面积小于该第二视窗的面积。4.如权利要求3...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：千石科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：