屏幕保护膜及其制备方法、电子设备技术

本申请提供一种屏幕保护膜，包括透明的塑料膜和位于所述塑料膜的至少一表面上的透明的光栅层。光栅层包括间隔设置的多个光栅单元以及填充在相邻的光栅单元之间的填充胶。所述多个光栅单元直接结合在塑料膜上。每一个光栅单元呈长条状，多个光栅单元等宽等间距且相互平行。填充胶的折射率小于光栅单元的折射率且不同于塑料膜的折射率。本申请还提供应用该屏幕保护膜的电子设备和该屏幕保护膜的制备方法。本申请光栅层包括高折射率的光栅单元以及低折射率的填充胶，可有效减少电子装置因屏幕保护膜极化效应而损失的光信号，提升屏幕出光效率的同时提升光学指纹解锁性能。效率的同时提升光学指纹解锁性能。效率的同时提升光学指纹解锁性能。

【技术实现步骤摘要】
屏幕保护膜及其制备方法、电子设备


[0001]本申请涉及一种屏幕保护膜及其制备方法，以及应用该屏幕保护膜的电子设备。

技术介绍

[0002]现有的一种有机发光二极管(Organic Light
‑
Emitting Diode，OLED)显示屏，其屏幕下方设置有光学指纹识别模组；光学指纹识别模组利用OLED显示屏的自发光为光源，以植入到OLED屏幕下方的图像传感器作为成像原件。在OLED显示屏中，为了防止OLED像素单元中的金属电极对环境光的反射而造成的眩光问题，通常需要在OLED显示屏的外层加一层线偏振片，从而降低环境光的反射。
[0003]当前用户使用手机等便携式智能电子设备时，为了防止电子装置的屏幕出现爆裂、划痕等，通常会在屏幕的表面贴一层保护膜。保护膜经过拉伸工艺制备而具有各向异性，导致保护膜具有偏振特性。若保护膜的偏振方向与OLED屏幕的偏振方向(线偏振片的偏振方向)不一致，则将导致光学指纹识别模组进行指纹识别时光信号量大幅下降，进而影响指纹识别解锁体验。

技术实现思路

[0004]本申请实施例第一方面提供了一种屏幕保护膜，包括：
[0005]透明的塑料膜；
[0006]透明的光栅层，位于所述塑料膜的至少一表面上，所述光栅层包括间隔设置的多个光栅单元以及填充在相邻的光栅单元之间的填充胶，所述多个光栅单元直接结合在所述塑料膜上，每一个光栅单元呈长条状，所述多个光栅单元等宽等间距且相互平行，所述填充胶的折射率小于所述光栅单元的折射率且不同于所述塑料膜的折射率。
[0007]本申请将光栅层的光栅单元结合在塑料膜上，光栅单元与塑料膜之间未设置胶水，避免了因胶水的使用导致屏幕保护膜的厚度过度增加；且通过高折射率的光栅单元以及低折射率的填充胶构建所述光栅层，可有效减少电子装置因屏幕保护膜极化效应而损失的光信号，提升屏幕出光效率的同时提升光学指纹解锁性能。
[0008]本申请实施方式中，所述屏幕保护膜用以贴附在显示屏上，所述光栅层的极化方向与待贴附的显示屏的偏振片的偏振方向平行。
[0009]通过将光栅层的极化方向设置为与显示屏的偏振片偏振方向平行，可有效增大屏幕保护膜的光透过率，防止因为贴附屏幕保护膜导致的光透过率的下降。
[0010]本申请实施方式中，所述光栅层的厚度小于等于2微米。
[0011]光栅层的厚度较薄容易通过压印工艺实现，节省成本的同时也不会导致额外的屏幕保护膜的厚度增加。
[0012]本申请实施方式中，每相邻两个光栅单元之间的间隙为一个狭缝，所述光栅层的多个光栅单元和多个狭缝依次交替排布，所述光栅层为亚波长光栅，一个光栅单元和一个狭缝的宽度之和小于300纳米。
[0013]本申请实施方式中，一个光栅单元的宽度占一个光栅单元和一个狭缝的宽度之和的0.4～0.6倍。
[0014]通过设置光栅单元的宽度为一个光栅单元的宽度和一个狭缝的宽度之和的0.4～0.6倍，如此可有效降低光栅层的高度/厚度。
[0015]本申请实施方式中，所述填充胶的厚度与所述光栅单元的厚度相等。
[0016]所述填充胶的厚度与所述光栅单元的厚度相等，以使填充胶和光栅单元的表面平齐，从而得到平整的光栅层。
[0017]本申请实施方式中，所述多个光栅单元的材料包括氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝、氟化镁中的至少一种。
[0018]本申请实施方式中，所述塑料膜的材质为聚乙烯对苯二甲酸醋或聚酰亚胺。
[0019]所述塑料膜可为现有的屏幕保护膜，且具有平整的表面。
[0020]本申请实施方式中，所述塑料膜具有相对的上表面和下表面，所述上表面和所述下表面均分别设置有所述光栅层。
[0021]屏幕保护膜的上下表面同时构造光栅层可进一步降低光栅层的高度，并且可通过调整上表面和下表面的光栅单元之间的夹角从而实现更高效的偏振补偿。
[0022]本申请实施例第二方面提供了一种屏幕保护膜的制备方法，包括：
[0023]提供一透明的塑料膜；
[0024]采用纳米压印的方法在所述塑料膜的至少一表面形成间隔排布的多个光栅单元，每一个光栅单元为透明的且呈长条状，所述多个光栅单元等宽等间距且相互平行；
[0025]在所述塑料膜上形成位于光栅单元之间的透明的填充胶，所述填充胶的折射率小于所述光栅单元的折射率且不同于所述塑料膜的折射率。
[0026]本申请的制备方法使用纳米压印技术将多个光栅单元形成塑料膜上，如此，塑料膜与光栅单元之间未设置胶水，避免了因胶水的使用导致屏幕保护膜的厚度过度增加；且通过高折射率的光栅单元以及低折射率的填充胶构建所述光栅层，可有效减少电子装置因屏幕保护膜极化效应而损失的光信号，提升屏幕出光效率的同时提升光学指纹解锁性能。
[0027]本申请实施方式中，采用纳米压印的方法形成所述多个光栅单元包括采用一金属的印模板，所述印模板包括底板以及形成在所述底板一表面上且相互间隔的多个光栅，所述多个光栅等宽等间距且相互平行；在所述印模板的每相邻的两个光栅之间的间隙中填充包括氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝、氟化镁中的至少一种的材料，然后将所述印模板具有光栅的一侧对准所述塑料膜的一表面进行压印，使所述材料转移结合到所述塑料膜上。
[0028]使用印模板可快速将多个光栅单元形成塑料膜上，且光栅单元与塑料膜之间结合不需要胶水，避免了因胶水的使用导致屏幕保护膜的厚度过度增加。
[0029]本申请实施方式中，采用纳米压印的方法形成的每相邻的两个光栅单元之间的间隙为一个狭缝，所述多个光栅单元和多个狭缝依次交替排布，一个光栅单元和一个狭缝的宽度之和小于300纳米；一个光栅单元的宽度占一个光栅单元和一个狭缝的宽度之和的0.4～0.6倍。
[0030]通过设置一个光栅单元的宽度和一个狭缝的宽度之和小于300纳米，光栅单元的宽度的占空比，可有效降低光栅层的高度/厚度。
[0031]本申请实施方式中，所述多个光栅单元和所述填充胶形成光栅层，所述光栅层的
厚度小于等于2微米。
[0032]通过纳米压印工艺可形成厚度较薄小于等于2微米的光栅层，节省成本的同时也不会导致额外的屏幕保护膜的厚度增加。
[0033]本申请实施方式中，提供所述塑料膜的步骤包括提供聚乙烯对苯二甲酸醋或聚酰亚胺的塑料膜；形成所述多个光栅单元包括形成材料包括氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝、氟化镁中的至少一种的多个光栅单元；形成所述填充胶包括形成透明的树脂胶或紫外光固化胶的填充胶。
[0034]在现有的薄膜膜上构建折射率差异较大的两种材料，光栅单元的折射率高于填充胶的折射率，提升去极化效率，同时减小光栅层的制备厚度。
[0035]本申请实施方式中，所述塑料膜具有相对的上表面和下表面，所述制备方法包括在所述上表面和所述下表面分别形成所述多个光栅单元和所述填充胶。
[0036]屏幕保护膜的上下表面同时构造光栅层可进一步降低光栅层的高度，并且可通过调整上表面和下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种屏幕保护膜，其特征在于，包括：透明的塑料膜；透明的光栅层，位于所述塑料膜的至少一表面上，所述光栅层包括间隔设置的多个光栅单元以及填充在相邻的光栅单元之间的填充胶，所述多个光栅单元直接结合在所述塑料膜上，每一个光栅单元呈长条状，所述多个光栅单元等宽等间距且相互平行，所述填充胶的折射率小于所述光栅单元的折射率且不同于所述塑料膜的折射率。2.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述屏幕保护膜用以贴附在显示屏上，所述光栅层的极化方向与待贴附的显示屏的偏振片的偏振方向平行。3.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述光栅层的厚度小于等于2微米。4.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，每相邻两个光栅单元之间的间隙为一个狭缝，所述光栅层的多个光栅单元和多个狭缝依次交替排布，所述光栅层为亚波长光栅，一个光栅单元和一个狭缝的宽度之和小于300纳米。5.根据权利要求4所述的屏幕保护膜，其特征在于，一个光栅单元的宽度占一个光栅单元和一个狭缝的宽度之和的0.4～0.6倍。6.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述填充胶的厚度与所述光栅单元的厚度相等。7.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述多个光栅单元的材料包括氧化钛、氧化锆、氧化锌、氧化铝、氟化镁中的至少一种。8.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述塑料膜的材质为聚乙烯对苯二甲酸醋或聚酰亚胺。9.根据权利要求1所述的屏幕保护膜，其特征在于，所述塑料膜具有相对的上表面和下表面，所述上表面和所述下表面均分别设置有所述光栅层。10.一种屏幕保护膜的制备方法，其特征在于，包括：提供一透明的塑料膜；采用纳米压印的方法在所述塑料膜的至少一表面形成间隔排布的多个光栅单元，每一个光栅单元为透明的且呈长条状，所述多...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄宗兴，彭旭，蔡奇，邓凯锋，程祖乐，赵阳，叶志成，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：