表面清洁设备及表面清洁系统技术方案

本公开提供一种表面清洁设备，其包括：清洁组件，所述清洁组件包括滚轮；以及主机，所述清洁组件枢转地设置于所述主机；所述主机包括手柄和用户交互组件，在所述表面清洁设备直立状态下，所述用户交互组件在竖直方向上低于所述手柄的上端，并且所述用户交互组件与所述清洁组件位于所述手柄的同一侧；其中，在所述表面清洁设备直立状态下，所述清洁组件远离所述主机的一端所处的直线或点分别与所述用户交互组件远离所述手柄的点或直线所形成的参考平面穿过所述手柄。本公开还提供一种表面清洁系统。系统。系统。

【技术实现步骤摘要】
表面清洁设备及表面清洁系统


[0001]本公开涉及一种表面清洁设备及表面清洁系统。

技术介绍

[0002]当今的表面清洁装置用于湿清洁硬地板或短毛地毯。该装置通常具有一个或多个由毛织材料制成的清洁部或清洁盘，它们可以通过添加水或水/清洁剂混合物来擦洗地板上的顽固污垢。当机器在污垢上移动时，已经被清洁部擦掉并被水或水/洗涤剂混合物溶解的污垢用沿清洁部运动方向排列的清洁头吸起，在设置清洁盘的技术中，可以不设置清洁头，污垢直接被清洁盘上的清洁材料吸附。
[0003]但是，顽固的污渍通常难以清理，奶渍、果汁和酱汁等，散落在地板表面，蒸发水分后，则会在清洁表面形成难以祛除的顽固污渍。通常，在擦洗过程中，并非所有这些顽固的污垢都可以通过吸尘来清除，因此其中一些残留在地板上，从而降低了清洁质量。
[0004]现有的立式表面清洁装置，特别是湿式表面清洁装置，因为体积较大，自身携带电芯、风机以及清水的重量，特别是当加满清水且污水箱置空状态下，整机重心会上移，在某些特殊情况下，会发生向前倾倒。这种前倾往往不会对主机本身构成伤害，因为主机通常满足结构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种表面清洁设备，其特征在于，包括：清洁组件，所述清洁组件包括滚轮；以及主机，所述清洁组件枢转地设置于所述主机；所述主机包括手柄和用户交互组件，在所述表面清洁设备直立状态下，所述用户交互组件在竖直方向上低于所述手柄的上端，并且所述用户交互组件与所述清洁组件位于所述手柄的同一侧；其中，在所述表面清洁设备直立状态下，所述清洁组件远离所述主机的一端所处的直线或点分别与所述用户交互组件远离所述手柄的点或直线所形成的参考平面穿过所述手柄。2.如权利要求1所述的表面清洁设备，其特征在于，所述主机还包括：机身，所述手柄可伸缩地设置于所述机身，并使得所述手柄能够从第一位置延伸至第二位置，当所述手柄位于第一位置时，在所述表面清洁设备直立状态下，所述清洁组件远离所述主机的一端所处的直线与用户交互组件远离所述手柄的点或直线所形成的参考平面穿过所述手柄。3.如权利要求1或2所述的表面清洁设备，其特征在于，在所述表面清洁设备直立状态下，所述用户交互组件与所述清洁组件均位于所述手柄的前侧。4.如权利要求1或2所述的表面清洁设备，其特征在于，当表面清洁设备处于直立状态时，所述主机的纵向轴线与所述清洁组件的底面所接触的平面之间呈锐角或直角。5.如权利要求4所述的表面清洁设备，其特征在于，当表面清洁设备处于直立状态时，所述手柄的在水平面的投影位于所述用户交互组件在所述水平面的投影的前方，和/或，位于所述清洁组件在所述水平面的投影的前方。6.如权利要求4所述的表面清洁设备，其特征在于，当表面清洁设备处于直立状态，并且所述手柄位于第一位置时，所述手柄的在水平面的投影位于所述用户交互组件在所述水平面的投影的前方，和/或，位于所述清洁组件在所述水平面的投影的前方。7.如权利要求2所述的表面清洁设备，其特征在于，所述用户交互组件设置于所述机身。8.如权利要求7所述的表面清洁设备，其特征在于，所述主机还包括：清水箱，所述清水箱用于存储表面清洁设备清洁待清洁表面前的清洁液体；其中，当所述主机竖直设置时，所述用户交互组件位于所述清水箱的上方。9.如权利要求8所述的表面清洁设备，其特征在于，所述主机还包括：连接部，所述连接部的下端可转动地连接于所述清洁组件；以及污水箱，所述污水箱设置于所述连接部，用于存储表面清洁设备清洁待清洁表面后的污水；其中，所述机身设置于所述连接部，当所述机身处于竖直状态时，所述清水箱位于所述污水箱的上方。10.如权利要求9所述的表面清洁设备，其特征在于，所述污水箱包括：箱体，所述箱体设置于所述连接部和/或机身，其中，所述箱体的上端开口，所述箱体的底壁形成有抽吸孔；...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐哲，赵磊，唐成，段飞，钟亮，
申请(专利权)人：北京顺造科技有限公司，
类型：新型
国别省市：