光刻机照明系统及光刻机技术方案

本发明专利技术公开了一种光刻机照明系统及光刻机，光刻机照明系统包括密封模块、位移装置和激光器，密封模块内设置有入射窗，入射窗可移动地设置在密封模块中；位移装置与入射窗连接以带动入射窗沿设定方向移动；激光器与密封模块连接，激光器发出的激光经入射窗进入密封模块内。当入射窗的部分区域由于激光的长时间照射产生缺陷时，位移装置可以带动入射窗移动，从而使入射窗的其他没有缺陷的区域移动至供激光通过的部位。由此，本发明专利技术提出的光刻机可以多次使用同一入射窗，无需频繁更换入射窗，延长了入射窗的使用寿命，且节约资源，解决了现有技术中需要频繁更换入射窗导致的浪费资源以及影响产品生产效率的问题。源以及影响产品生产效率的问题。源以及影响产品生产效率的问题。

【技术实现步骤摘要】
光刻机照明系统及光刻机


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种光刻机照明系统及光刻机。

技术介绍

[0002]本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。
[0003]光刻机是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到晶圆上，然后使用化学方法显影，得到刻在晶圆上的电路图。
[0004]现有的光刻机中的光刻机照明系统通常利用准分子激光通过入射窗射入晶圆所在的密封区域，由于激光的长时间照射，入射窗上容易形成缺陷，影响激光光束的通量，以及影响入射窗的强度，故现有的光刻机照明系统需要频繁更换入射窗，不仅浪费资源，而且影响产品生产效率。

技术实现思路

[0005]本专利技术第一方面提出了一种光刻机照明系统，所述光刻机照明系统包括：
[0006]密封模块，所述密封模块内设置有入射窗，所述入射窗可移动地设置在所述密封模块中；
[0007]位移装置，所述位移装置与所述入射窗连接以带动所述入射窗沿设定方向移动；
[0008]激光器，所述激光器与所述密封模块连接，所述激光器发出的激光经所述入射窗进入所述密封模块内。
[0009]本专利技术第二方面提出了一种光刻机，包括本专利技术第一方面提出的光刻机照明系统。
附图说明
[0010]通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的附图标记表示相同的部件。在附图中：
[0011]图1示意性地示出了本专利技术实施方式的光刻机照明系统的结构示意图；
[0012]图2示意性地示出了本专利技术实施方式的光刻机照明系统中位移装置和入射窗的结构示意图；
[0013]图3示意性地示出了图2的俯视方向上入射窗的示意图。
[0014]附图标记如下：
[0015]10、密封模块；
[0016]11、入射窗；111、通光区域；
[0017]20、位移装置；
[0018]21、编码电机；
[0019]22、丝杠；
[0020]23、第一支架部；231、第一弹性件；232、第一夹紧件；
[0021]24、第二支架部；241、第二弹性件；242、第二夹紧件；
[0022]25、连接杆；
[0023]30、激光器；
[0024]40、通光管。
具体实施方式
[0025]下面将参照附图更详细地描述本公开的示例性实施方式。虽然附图中显示了本公开的示例性实施方式，然而应当理解的是，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反的，提供这些实施方式是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。
[0026]应理解的是，文中使用的术语仅出于描述特定示例实施方式的目的，而无意于进行限制。除非上下文另外明确地指出，否则如文中使用的单数形式“一”、“一个”以及“所述”也可以表示包括复数形式。术语“包括”、“包含”、“含有”以及“具有”是包含性的，并且因此指明所陈述的特征、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除存在或者添加一个或多个其它特征、步骤、操作、元件、部件、和/或它们的组合。文中描述的方法步骤、过程、以及操作不解释为必须要求它们以所描述或说明的特定顺序执行，除非明确指出执行顺序。还应当理解，可以使用另外或者替代的步骤。
[0027]尽管可以在文中使用术语第一、第二、第三等来描述多个元件、部件、区域、层和/或部段，但是，这些元件、部件、区域、层和/或部段不应被这些术语所限制。这些术语可以仅用来将一个元件、部件、区域、层或部段与另一区域、层或部段区分开。除非上下文明确地指出，否则诸如“第一”、“第二”之类的术语以及其它数字术语在文中使用时并不暗示顺序或者次序。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部段在不脱离示例实施方式的教导的情况下可以被称作第二元件、部件、区域、层或部段。
[0028]为了便于描述，可以在文中使用空间相对关系术语来描述如图中示出的一个元件或者特征相对于另一元件或者特征的关系，这些相对关系术语例如为“内部”、“外部”、“内侧”、“外侧”、“下面”、“下方”、“上面”、“上方”等。这种空间相对关系术语意于包括除图中描绘的方位之外的在使用或者操作中装置的不同方位。例如，如果在图中的装置翻转，那么描述为“在其它元件或者特征下面”或者“在其它元件或者特征下方”的元件将随后定向为“在其它元件或者特征上面”或者“在其它元件或者特征上方”。因此，示例术语“在
……
下方”可以包括在上和在下的方位。装置可以另外定向(旋转90度或者在其它方向)并且文中使用的空间相对关系描述符相应地进行解释。
[0029]如图1所示，根据本专利技术的实施方式，本专利技术第一方面的实施例提出了一种光刻机照明系统，该光刻机照明系统包括密封模块10、位移装置20和激光器30，密封模块10内设置有入射窗11，入射窗11可移动地设置在密封模块10中；位移装置20与入射窗11连接以带动入射窗11沿设定方向移动；激光器30与密封模块10连接，激光器30发出的激光经入射窗11进入密封模块10内。
[0030]本专利技术提出的光刻机照明系统通过设置位移装置20，并使位移装置20与密封模块
10中的入射窗11连接，从而能够利用位移装置20带动入射窗11沿设定方向移动。入射窗11的部分区域用于供激光通过，当该部分区域由于激光的长时间照射产生缺陷时，位移装置20可以带动入射窗11沿设定方向移动一段距离，从而使入射窗11的其他没有缺陷的区域移动至供激光通过的部位。由此，本专利技术提出的光刻机照明系统可以多次使用同一入射窗11，无需频繁更换入射窗11，延长了入射窗11的使用寿命，且节约资源，解决了现有技术中需要频繁更换入射窗11导致的浪费资源以及影响产品生产效率的问题。
[0031]具体地，如图1所示，光刻机照明系统包括密封模块10和激光器30，本实施例中激光器30与密封模块10相连接，激光器30作为光刻机照明系统的光源，激光器30发出的激光能够入射到密封模块10中，具体地，激光器30可以通过光束管与密封模块10连接。
[0032]在上述实施方式的基础上，本实施例中密封模块10中设置有入射窗11，入射窗11可以安装在密封模块10的底部或侧部，入射窗11可以设置为透明的透镜，用于供激光通过，以使激光入射到密封模块10中，以及用于为密封模块10隔绝外部空气，实现密封。
[0033]可以理解地，当激光进入密封模块10时，激光形成的光束在入射窗11上的投影的形状通常为矩形，因此，当长时间照射后，激光产生的能量会使入射窗11的供激光通过部位形成矩形缺陷，矩形缺陷部位的通光量较差，强度较低，影响后续激光的通过以及后续产品的制程。
[0034]对此，在本专利技术的一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机照明系统，其特征在于，包括：密封模块，所述密封模块内设置有入射窗，所述入射窗可移动地设置在所述密封模块中；位移装置，所述位移装置与所述入射窗连接以带动所述入射窗沿设定方向移动；激光器，所述激光器与所述密封模块连接，所述激光器发出的激光经所述入射窗进入所述密封模块内。2.根据权利要求1所述的光刻机照明系统，其特征在于，所述入射窗上设置有多个互不重叠的通光区域。3.根据权利要求2所述的光刻机照明系统，其特征在于，所述入射窗设置为矩形入射窗。4.根据权利要求3所述的光刻机照明系统，其特征在于，所述通光区域设置为矩形通光区域，多个所述矩形通光区域沿所述设定方向依次排列。5.根据权利要求1所述的光刻机照明系统，其特征在于，所述位移装置包括：支架，所述支架上设置有第一弹性件和第二弹性件，所述入射窗被夹紧在所述第一弹性件和所述第二弹性件之间；驱动组件，所述驱动组件与所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：金成昱，金帅炯，梁贤石，丁明正，贺晓彬，刘强，刘金彪，白国斌，
申请(专利权)人：真芯北京半导体有限责任公司，
类型：发明
国别省市：