一种高纯金属真空升华除杂的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种高纯金属真空升华除杂的装置，包括：加热炉；设置在所述加热炉内的石英管；设置在所述石英管内的石英舟；设置在所述石英管内的坩埚；真空泵，所述真空泵和石英管连通，用于对石英管进行抽真空处理。本实用新型专利技术提供的高纯金属真空升华去除表面杂质的装置，可用于去除高纯锑、锌、镉、碲等产品表面的杂质，工艺简单、成本低、效率高、提纯效果好，能有效去除区熔产品中碳粉、氧化物及因辅料带入的硅、钙等杂质，经GDMS检测，处理后的物料中C、O含量均小于100ppb，Si、Ca小于10ppb；本实用新型专利技术提供的高纯金属真空升华除杂的装置操作简单，产率高，可根据需求设计石英舟的大小及工艺参数。大小及工艺参数。大小及工艺参数。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯金属真空升华除杂的装置


[0001]本技术属于高纯金属材料
，尤其涉及一种高纯金属真空升华除杂的装置。

技术介绍

[0002]高纯锑纯度达到99.9999％(6N及以上)，6N锑主要用于半导体硅和锗的掺杂元素和制备锑化铟、锑化镓等半导体。用于MBE分子束外延制备单晶薄膜材料则需要使用7N高纯锑，其工艺过程对高纯锑杂质含量要求极高。7N高纯锑的制备方法主要采用真空蒸馏和区域熔炼法，生产过程中用于盛装物料的器具材质一般为石墨舟或石英舟。在生产过程中，石墨舟很容易脱碳进入产品中，聚集在产品表面。同时，石墨舟易吸收空气中的水汽，在生产过程中有部分锑会被氧化漂浮于产品表面；使用石英舟则会使产品与石英舟的接触面Si、Ca等杂质含量较高；目前处理物料表面杂质的方法主要是通过硝酸腐蚀表面，该方法有引入其他杂质的风险。同时，酸洗后需要水洗、烘干等步骤，加大了工作量及安全风险；在7N级别的高纯锑对现场环境和人员操作都有极高要求，产品表面很容易被污染。部分生产高纯锑的厂家对产品的检测都是检测产品内部，且产品检测前都需要经过酸洗表面后才能上仪器检测，这样本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯金属真空升华除杂的装置，其特征在于，包括：加热炉；设置在所述加热炉内的石英管；设置在所述石英管内的石英舟；设置在所述石英管内的坩埚；真空泵，所述真空泵和石英管连通，用于对石英管进行抽真空处理。2.根据权利要求1所述的高纯金属真空升华除杂的装置，其特征在于，所述高纯金属真空升华除杂的装置还包括：石英管管帽，用于对石英管的开口密封。3.根据权利要求1所述的高纯金属真空升华除杂的装置，其特征在于，所述石英舟设置在加热炉的中心位置。4.根据权利要求1所述的高纯金属真空升华除杂的装置，其特征在于，所述石英舟表面设置有碳膜。5.根据权利要求4所述的高纯金属真空升华除杂的装置，其特征在于，所述碳膜的厚度为300～400nm。6.根据权利要求1所述的高纯金属真空升华除...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄杰杰，何志达，李清宇，
申请(专利权)人：广东先导微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：