管理临界尺寸误差的方法和制造光掩模的方法技术

提供了管理临界尺寸误差的方法和制造光掩模的方法。管理临界尺寸误差的方法包括：(i)在光掩模中限定具有宽度的N个开口，其中，N是自然数；(ii)使用针对N个开口中的每个的曲线图，获得ILS

【技术实现步骤摘要】
管理临界尺寸误差的方法和制造光掩模的方法
[0001]本申请要求于2020年12月22日提交的第10
‑
2020
‑
0181183号韩国专利申请的优先权以及从其获得的所有权益，该韩国专利申请的内容通过引用以其整体地并入本文。


[0002]一个或多个实施方式涉及管理光掩模的临界尺寸误差的方法和使用该方法制造光掩模的方法，并且更具体地，涉及管理光掩模的临界尺寸误差的方法以及使用以上方法制造光掩模的方法，其中，管理光掩模的临界尺寸误差的方法可在光刻工艺中使用光掩模之前被有效地使用。

技术介绍

[0003]诸如显示设备的电子装置的制造涉及形成具有特定预设图案的层的工艺。光刻工艺用于形成特定预设图案。例如，形成金属层，在金属层上形成光刻胶层，并且使用限定了预设开口的光掩模仅对光刻胶层的预设部分进行曝光。然后对光刻胶层进行显影以使得光刻胶层仅覆盖金属层的预设部分，并且对金属层的暴露部分进行蚀刻以及去除光刻胶层以形成作为具有预设特定图案的金属层的线。

技术实现思路

[0004]在制造光掩模的工艺中，期望适当地控制限定在光刻胶工艺中使用的光掩模中的开口的尺寸中的误差。然而，难以控制误差。
[0005]一个或多个实施方式包括管理光掩模的临界尺寸误差的方法以及使用以上方法制造光掩模的方法，其中，管理光掩模的临界尺寸误差的方法可在光刻工艺中使用光掩模之前被有效地使用。然而，以上目的为实例，并且本专利技术的范围不限于此。
[0006]附加特征将在下面的描述中部分地阐述，并且部分地将通过该描述而显而易见，或者可通过实践本专利技术的呈现的实施方式而习得。
[0007]在实施方式中，管理临界尺寸误差的方法包括：在光掩模中限定具有与目标临界尺寸对应的宽度的N个开口，其中，N是自然数；通过向光掩模照射光，使用针对N个开口中的每个的多个曲线图，而获得ILS
i
和I
i
，多个曲线图中的每个通过将N个开口中的一开口的内外位置设定为第一轴并且将透射光的强度设定为与第一轴垂直的第二轴而获得，ILS
i
与在与一开口的边缘对应的位置处的对于曲线图中的一曲线图的切线的倾斜度成比例，I
i
作为在与一开口的边缘对应的位置处的透射光的强度(i是处于从1到N的一自然数)；关于N个开口中的每个，获得开口的实际宽度CD
i
(i是处于从1到N的一自然数)；以及当以及以及时，根据以下等式获得作为关于N个开口中的每个的空间图像掩模误差增强因子的AIMEEF
i
：
[0008][等式][0009][0010]在实施方式中，该方法还可包括：获得作为关于处于从1到N的自然数i的AIMEEF
i
的平均值的AIMEEF
ave
。
[0011]在实施方式中，随着AIMEEF
ave
增大，临界尺寸误差的允许范围可进一步降低。
[0012]在实施方式中，当关于处于从1到N的自然数i的AIMEEF
i
的最大值为AIMEEF
max
时，随着AIMEEF
max
增大，临界尺寸误差的允许范围可进一步降低。
[0013]在实施方式中，管理临界尺寸误差的方法包括：在光掩模中限定具有与目标临界尺寸对应的宽度的N个开口，其中，N是自然数；通过向光掩模照射光，获得在N个开口中的每个的边缘处的透射光的强度I
i
(i是处于从1到N的一自然数)；获得N个开口中的每个的实际宽度CD
i
；在时，从关于处于从1到N的自然数i的I
i
之中将等于I
ave
或最接近I
ave
的透射光的强度确定为I
quasi
；在时，从关于处于从1到N的自然数i的CD
i
之中将等于CD
ave
或最接近CD
ave
的实际宽度确定为CD
quasi
；使用针对在N个开口之中的具有被确定为CD
quasi
的实际宽度的一开口的曲线图，获得ILS
quasi
，曲线图通过将一开口的内外位置设定为第一轴并且将透射光的强度设定为与第一轴垂直的第二轴而获得，ILS
quasi
与在与开口的边缘对应的位置处的对于曲线图的切线的倾斜度成比例；以及根据以下等式获得作为关于N个开口中的每个的空间图像掩模误差增强因子的AIMEEF
i
：
[0014][等式][0015][0016]在实施方式中，该方法还可包括：获得作为关于处于从1到N的自然数i的AIMEEF
i
的平均值的AIMEEF
ave
。
[0017]在实施方式中，随着AIMEEF
ave
增大，临界尺寸误差的允许范围可进一步降低。
[0018]在实施方式中，当关于处于从1到N的自然数i的AIMEEF
i
的最大值为AIMEEF
max
时，随着AIMEEF
max
增大，临界尺寸误差的允许范围可进一步降低。
[0019]在实施方式中，制造光掩模的方法包括：根据上述方法中的一种方法确定临界尺寸误差；以及在确定的临界尺寸误差内在光掩模中形成多个开口。
[0020]除了上述细节以外，其它实施方式、特征和优点也将通过随附的附图、权利要求书和详细描述来阐明。
附图说明
[0021]通过结合附图的下面的描述中，本专利技术的某些实施方式的以上和其它的特征和优点将更加显而易见，在附图中：
[0022]图1是示出光掩模的临界尺寸与光掩模误差增强因子之间的关系的曲线图；
[0023]图2是示出透射过光掩模的理想目标开口的透射光的相对强度分布和透射过光掩模的实际开口的透射光的相对强度分布的曲线图；
[0024]图3是用于描述根据管理临界尺寸误差的方法的光掩模的管理的实施方式的光掩模的平面视图；
[0025]图4是示出根据管理临界尺寸误差的方法的光掩模的管理的实施方式的曲线图；
[0026]图5是示出根据管理临界尺寸误差的方法的光掩模的管理的实施方式的曲线图；
以及
[0027]图6是示出图4和图5的实施方式中的管理临界尺寸误差的方法的结果的曲线图。
具体实施方式
[0028]现在将详细地参照实施方式，实施方式的实例被示出在附图中，而在附图中相似的附图标记始终是指相似的元件。在这方面，实施方式可具有不同的形式，并且不应被解释为限于本文中所阐述的描述。相应地，以下仅通过参照描绘图对实施方式进行描述，以解释描述的特征。如本文中所使用的，措辞“和/或”包括相关联所列项目中的一个或者多个的任何和所有组合。在整个公开内容中，表述“a、b和c中的至少一个”指示仅a、仅b、仅c、a和b这两者、a和c这两者、b和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种管理临界尺寸误差的方法，所述方法包括：在光掩模中限定具有与目标临界尺寸对应的宽度的N个开口，其中，N是自然数；通过向所述光掩模照射光，使用针对所述N个开口中的每个的多个曲线图，而获得ILS
i
和I
i
，所述多个曲线图中的每个通过将所述N个开口中的一开口的内外位置设定为第一轴并且将透射光的强度设定为与所述第一轴垂直的第二轴而获得，ILS
i
与在与所述一开口的边缘对应的位置处的对于所述多个曲线图中的一曲线图的切线的倾斜度成比例，I
i
作为在与所述一开口的所述边缘对应的所述位置处的透射光的强度，其中，i是处于从1到N的一自然数；关于所述N个开口中的每个，获得所述开口的用CD
i
代表的实际宽度；以及当以及时，根据以下等式获得作为关于所述N个开口中的每个的空间图像掩模误差增强因子的AIMEEF
i
：[等式]2.如权利要求1所述的方法，还包括：获得作为关于处于从1到N的所述自然数i的AIMEEF
i
的平均值的AIMEEF
ave
。3.如权利要求2所述的方法，其中，随着AIMEEF
ave
增大，所述临界尺寸误差的允许范围进一步降低。4.如权利要求1所述的方法，其中，当关于处于从1到N的所述自然数i的AIMEEF
i
的最大值为AIMEEF
max
时，随着AIMEEF
max
增大，所述临界尺寸误差的允许范围进一步降低。5.一种管理临界尺寸误差的方法，所述方法包括：在光掩模中限定具有与目标临界尺寸对应的宽度的N个开口，其中，N是自然数；通过向所述光掩模照射光，获得在所述N个开口中的每个的边缘处的用I
i
代表的透射光的强度，其中，i是处于从1到N的一自然数；获得所述N个开口中的每个的用CD
i
代表的实际宽度；在时，从关于处于从1到N的所述自然...

【专利技术属性】
技术研发人员：张在爀，金泰俊，宣铉奎，林时庆，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：