一种高度向误差分离的三维形貌测量装置及其系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种高度向误差分离的三维形貌测量装置及其系统，包括底座、高度误差分离模块、二维运动机台、测量桥组件；二维运动机台包括外置基准光学平晶、位移驱动机构，外置基准光学平晶配置在位移驱动机构上，外置基准光学平晶下表面与高度误差分离模块上表面耦合形成薄膜气隙，外置基准光学平晶上表面用于放置待测工件，测量桥组件用于采集待测工件形貌值，外置基准光学平晶随位移驱动机构作二维直线运动；高度误差分离模块配置为采集外置基准光学平晶下表面与高度误差分离模块发生靠近或分离位移转值；位移转值用于补偿测量桥组件采集待测工件形貌值。旨在解决现有工件面形精度测量方案存在测量精度低，成本高昂，装调要求严苛的问题。装调要求严苛的问题。装调要求严苛的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种高度向误差分离的三维形貌测量装置及其系统


[0001]本技术涉及微纳计量领域，具体涉及一种高度向误差分离的三维形貌测量装置及其系统。

技术介绍

[0002]随着科技的进步，精密及超精密加工技术是先进加工制造技术的重要发展方向和重要研究领域，作为精密及超精密加工领域的一部分，高精度形貌测量是实现超精密工件品质控制和评价的关键技术。诸如半导体产业领域，晶圆片的面形质量对于GaN等外延薄膜生长的有重要的影响，如晶圆面形初始曲率取决于晶圆加工品控，从外延生长开始到结束，晶圆初始翘曲对外延的总翘曲有一个恒定的影响。故晶圆片在线切、研磨等加工过程中需要高精度形貌测量装置对晶圆片全场面形进行追踪。
[0003]精密及超精密加工的工件对面形精度极高，特别是高度向(轴向)测量需求往往达到微纳米级。随着相关产业技术进步，超精密加工工件的尺寸往往高达百毫米量级。当前表面计量领域，共焦显微镜、白光干涉测头等具有纳米级分辨力，可用于微纳表面形貌计量领域。然而其测量范围受限于数值孔径和视场范围等因素的限制，往往在几百微米至几毫米，远不能满足工件全域测量需求。为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高度向误差分离的三维形貌测量装置,其特征在于，包括底座、配置在所述底座上的高度误差分离模块、配置在所述高度误差分离模块上的二维运动机台以及配置在所述二维运动机台上的测量桥组件；其中，所述二维运动机台包括外置基准光学平晶以及配置在所述底座上的位移驱动机构，所述外置基准光学平晶配置在所述位移驱动机构上，所述外置基准光学平晶的下表面与所述高度误差分离模块的上表面耦合形成薄膜气隙，所述外置基准光学平晶的上表面用于放置待测工件，所述测量桥组件用于采集待测工件的形貌值，且所述外置基准光学平晶会随着所述位移驱动机构进行二维直线运动；其中，所述高度误差分离模块配置为采集所述外置基准光学平晶的下表面与所述高度误差分离模块发生靠近或分离的位移转值；其中，所述位移转值用于补偿所述测量桥组件采集待测工件的形貌值。2.根据权利要求1所述的一种高度向误差分离的三维形貌测量装置,其特征在于，所述位移驱动机构包括驱动组件、从动组件以及两部线性高精度光栅，所述外置基准光学平晶的第一端部配置在所述驱动组件上，所述外置基准光学平晶的第二端部配置在所述从动组件上，所述两部线性高精度光栅配置在所述驱动组件上。3.根据权利要求1所述的一种高度向误差分离的...

【专利技术属性】
技术研发人员：程方，张岩，崔长彩，苏杭，周东方，陈涛，邹彤，余晚珮，余卿，
申请(专利权)人：华侨大学，
类型：新型
国别省市：