一种用于改善剂量不均匀度的防护支撑架制造技术

本实用新型专利技术公开一种用于改善剂量不均匀度的防护支撑架，包括一组上下对应设置的顶架和底架，顶架和底架分别由四根架体连接杆构成，两根为固定杆，另两根为可沿固定杆移动的滑动杆，顶架和底架上分别设有用以调节顶架和底架宽度的可移动连接杆，顶架与底架之间通过支撑杆相连，顶架、底架与支撑杆之间围设有防护板。使用时，整个架体宽度、高度可调节，适应不同辐照物品的要求，能改善剂量不均匀程度，提高辐照效率。同时，可移动连接杆通过滑轮与顶架或底架进行滑动连接，使得顶架和底架不仅具有宽度调节能力，同时确保整体的承重效果，整体结构牢固，使用时稳定安全。使用时稳定安全。使用时稳定安全。

【技术实现步骤摘要】
一种用于改善剂量不均匀度的防护支撑架


[0001]本技术主要涉及辐照加工的
，特别涉及一种用于改善剂量不均匀度的防护支撑架。

技术介绍

[0002]辐照加工，是指使用放射性同位素自发衰变产生的γ射线或电子加速器产生的高能电子束辐照待加工物品，产生电离和激发，释放出轨道电子，形成自由基，通过控制辐射条件，而使被辐照物品的物理性能和化学组成发生变化并能使其成为人们所需要的一种新的物质，或使生物体（微生物等）受到不可恢复的损失和破坏，达到人们所需要的目标，这种新的加工技术称为辐射加工技术。在医疗保健产品灭菌消毒、高分子材料辐照改性、食品辐照保藏等方面，均已实现了工业化和商业化。
[0003]在医疗保健产品辐射灭菌应用领域，产品经过辐射后需满足两个基本要求：（1）满足既定的无菌保证水平，确保产品的灭菌效果得到相应保证；（2）产品的功能性和包装完整性在有效期内不受影响。基于此，医疗保健产品辐射灭菌时需要将授予的剂量控制在要求的最小剂量（即灭菌剂量）和要求的最大剂量（即最大可接受剂量）之间，最大剂量与最小剂量的比值即为剂量不均匀度DUR。DU本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于改善剂量不均匀度的防护支撑架，其特征在于，支撑架包括一组上下对应设置的顶架和底架，顶架和底架分别由四根架体连接杆构成，两根为固定杆，另两根为可沿固定杆移动的滑动杆，顶架和底架上分别设有用以调节顶架和底架宽度的可移动连接杆，顶架与底架之间通过支撑杆相连，顶架、底架与支撑杆之间围设有防护板。2.根据权利要求1所述的一种用于改善剂量不均匀度的防护支撑架，其特征在于，所述的固定杆两端分别设有一卡槽组，卡槽组由3
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5个均匀分布的三角形卡槽构成，滑动杆的两端与三角形卡槽结构相配合。3.根据权利要求1所述的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖海亮，
申请(专利权)人：上海金鹏源辐照技术有限公司，
类型：新型
国别省市：