本实用新型专利技术涉及精密清洗装置技术领域，公开了一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，包括清洗设备和清洗设备外表面一侧设置有回收桶，清洗设备内腔设置有驱动电机，驱动电机输出端设置有第一旋转杆，第一旋转杆外表面设置有冠齿轮，冠齿轮上端一侧啮合连接有第一齿轮，第一齿轮外表面一侧设置有第二旋转杆，第二旋转杆另一端设置有第一旋转盘，第一旋转盘内腔一侧设置有第一磁块，回收桶内腔轴接有搅拌杆，搅拌杆一端设置有第二旋转盘，第二旋转盘内腔一侧设置有第二磁块，第一旋转盘旋转后即可通过第一磁块的磁性带动第二磁块一同进行旋转，随后即可使搅拌杆进行搅拌，进而对回收废水进行搅拌。而对回收废水进行搅拌。而对回收废水进行搅拌。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置
[0001]本技术涉及精密清洗装置
，具体为一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置。
技术介绍
[0002]清洗设备主要用于去除芯片制造中上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等污染物，为下一道工序准备好良好的表面条件。广泛应用于集成电路、半导体照明、先进封装等领域。现有的清洗设备将污染物清洗后，废水会排放至回收装置，通过在回收装置中加入处理药剂对废水进行处理，减少污染物。
[0003]现在清洗设备废水流入回收桶内部后，需要加入药剂进行处理，随后通过单独的搅拌装置对内部进行搅拌，因此在能耗上消耗较高，不能在清洗设备清洗物料的同时对回收桶内部同时驱动搅拌，进而降低设备的能耗。
[0004]针对上述问题。为此，提出一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，在清洗设备进行运转清洗物料时，此时，驱动电机进行运转带动上端设置的第一旋转杆进行旋转，第一旋转杆旋转后带动冠齿轮进行旋转，冠齿轮旋转后带动上端一侧啮合连接的第一齿轮，第一齿轮旋转后通过第二旋转杆使第一旋转盘一同旋转，第一旋转盘旋转后即可通过第一磁块的磁性带动第二磁块一同进行旋转，随后即可使搅拌杆进行搅拌，进而对回收废水进行搅拌，从而解决了上述
技术介绍
中的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，包括清洗设备和清洗设备外表面一侧设置有回收桶，所述清洗设备内腔设置有驱动电机，驱动电机输出端设置有第一旋转杆，第一旋转杆外表面设置有冠齿轮，冠齿轮上端一侧啮合连接有第一齿轮，第一齿轮外表面一侧设置有第二旋转杆，第二旋转杆另一端设置有第一旋转盘，第一旋转盘内腔一侧设置有第一磁块；
[0007]所述回收桶内腔轴接有搅拌杆，搅拌杆一端设置有第二旋转盘，第二旋转盘内腔一侧设置有第二磁块。
[0008]优选的，所述第一磁块的磁性与第二磁块的磁性相吸。
[0009]优选的，所述清洗设备上端向下开设有清洗槽，清洗槽内腔壁与回收桶内腔贯穿开设有回收孔，清洗槽内腔设置有搅拌盘。
[0010]优选的，所述清洗设备上端一侧设置有旋转把，旋转把下端设置有螺纹杆，螺纹杆外表面下端螺纹连接有密封块。
[0011]优选的，所述回收桶上端设置有盖板，盖板上端设置有提拉把手，盖板底面一侧设置有磁条。
[0012]优选的，所述搅拌杆一端设置有第三旋转盘，第三旋转盘外表面设置有定位孔。
[0013]优选的，所述旋转把内腔设置有定位杆，定位杆外表面设置有配重块，定位杆上端设置有第三磁块。
[0014]优选的，所述第三磁块的磁性与磁条磁性相吸。
[0015]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0016]1、本技术提出的一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，在清洗设备进行运转清洗物料时，此时，驱动电机进行运转带动上端设置的第一旋转杆进行旋转，第一旋转杆旋转后带动冠齿轮进行旋转，冠齿轮旋转后带动上端一侧啮合连接的第一齿轮，第一齿轮旋转后通过第二旋转杆使第一旋转盘一同旋转，第一旋转盘旋转后即可通过第一磁块的磁性带动第二磁块一同进行旋转，随后即可使搅拌杆进行搅拌，进而对回收废水进行搅拌。
[0017]2、本技术提出的一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，在操作人员需要查看回收桶内腔的液体时，此时向上拉动提拉把手即可使盖板向上移动，在盖板向上移动后，此时的磁条的磁性远离第三磁块磁性后，配重块的重力下坠使定位杆插接于定位孔内腔，进而可阻挡第三旋转盘进行旋转，随后搅拌杆即可停止转动，进而防止废水被搅拌后飞溅。
附图说明
[0018]图1为本技术的整体结构示意图；
[0019]图2为本技术的清洗设备侧视内部结构示意图；
[0020]图3为本技术的图2中A处放大结构示意图；
[0021]图4为本技术的图2中B处放大结构示意图；
[0022]图5为本技术的盖板仰视结构示意图。
[0023]图中：1、清洗设备；11、驱动电机；12、第一旋转杆；13、冠齿轮；131、第一齿轮；132、第二旋转杆；133、第一旋转盘；134、第一磁块；2、清洗槽；3、搅拌盘；4、旋转把；41、螺纹杆；42、密封块；43、回收孔；5、回收桶；51、盖板；52、搅拌杆；521、第二旋转盘；522、第二磁块；53、第三旋转盘；54、定位孔；55、定位杆；56、配重块；57、磁条；58、提拉把手；59、第三磁块。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0025]为了解决同时驱动搅拌的技术问题，如图1
‑
3所示，提供以下优选技术方案：
[0026]一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，包括清洗设备1和清洗设备1外表面一侧设置有回收桶5，清洗设备1内腔设置有驱动电机11，驱动电机11输出端设置有第一旋转杆12，第一旋转杆12外表面设置有冠齿轮13，冠齿轮13上端一侧啮合连接有第一齿轮131，第一齿轮131外表面一侧设置有第二旋转杆132，第二旋转杆132另一端设置有第一旋转盘133，第一旋转盘133内腔一侧设置有第一磁块134，回收桶5内腔轴接有搅拌杆52，搅拌杆52一端设置有第二旋转盘521，第二旋转盘521内腔一侧设置有第二磁块522，第一磁块
134的磁性与第二磁块522的磁性相吸，清洗设备1上端向下开设有清洗槽2，清洗槽2内腔壁与回收桶5内腔贯穿开设有回收孔43，清洗槽2内腔设置有搅拌盘3，清洗设备1上端一侧设置有旋转把4，旋转把4下端设置有螺纹杆41，螺纹杆41外表面下端螺纹连接有密封块42。
[0027]具体的，在清洗设备1进行运转清洗物料时，此时，驱动电机11进行运转带动上端设置的第一旋转杆12进行旋转，第一旋转杆12旋转后带动冠齿轮13进行旋转，冠齿轮13旋转后带动上端一侧啮合连接的第一齿轮131，第一齿轮131旋转后通过第二旋转杆132使第一旋转盘133一同旋转，第一旋转盘133旋转后即可通过第一磁块134的磁性带动第二磁块522一同进行旋转，随后即可使搅拌杆52进行搅拌，进而对回收废水进行搅拌。
[0028]为了解决搅拌污水飞溅的技术问题，如图2和图4
‑
5所示，提供以下优选技术方案：
[0029]回收桶5上端设置有盖板51，盖板51上端设置有提拉把手58，盖板51底面一侧设置有磁条57，搅拌杆52一端设置有第三旋转盘53，第三旋转盘53外表面设置有定位孔54本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，包括清洗设备(1)和清洗设备(1)外表面一侧设置有回收桶(5)，其特征在于：所述清洗设备(1)内腔设置有驱动电机(11)，驱动电机(11)输出端设置有第一旋转杆(12)，第一旋转杆(12)外表面设置有冠齿轮(13)，冠齿轮(13)上端一侧啮合连接有第一齿轮(131)，第一齿轮(131)外表面一侧设置有第二旋转杆(132)，第二旋转杆(132)另一端设置有第一旋转盘(133)，第一旋转盘(133)内腔一侧设置有第一磁块(134)；所述回收桶(5)内腔轴接有搅拌杆(52)，搅拌杆(52)一端设置有第二旋转盘(521)，第二旋转盘(521)内腔一侧设置有第二磁块(522)。2.根据权利要求1所述的一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，其特征在于：所述第一磁块(134)的磁性与第二磁块(522)的磁性相吸。3.根据权利要求2所述的一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，其特征在于：所述清洗设备(1)上端向下开设有清洗槽(2)，清洗槽(2)内腔壁与回收桶(5)内腔贯穿开设有回收孔(43)，清洗槽(2...
【专利技术属性】
技术研发人员：熊志红，
申请(专利权)人：湖北仕上电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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