一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及精密清洗装置技术领域，公开了一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，包括清洗设备和清洗设备外表面一侧设置有回收桶，清洗设备内腔设置有驱动电机，驱动电机输出端设置有第一旋转杆，第一旋转杆外表面设置有冠齿轮，冠齿轮上端一侧啮合连接有第一齿轮，第一齿轮外表面一侧设置有第二旋转杆，第二旋转杆另一端设置有第一旋转盘，第一旋转盘内腔一侧设置有第一磁块，回收桶内腔轴接有搅拌杆，搅拌杆一端设置有第二旋转盘，第二旋转盘内腔一侧设置有第二磁块，第一旋转盘旋转后即可通过第一磁块的磁性带动第二磁块一同进行旋转，随后即可使搅拌杆进行搅拌，进而对回收废水进行搅拌。而对回收废水进行搅拌。而对回收废水进行搅拌。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置


[0001]本技术涉及精密清洗装置
，具体为一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置。

技术介绍

[0002]清洗设备主要用于去除芯片制造中上一道工序所遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物残留物等污染物，为下一道工序准备好良好的表面条件。广泛应用于集成电路、半导体照明、先进封装等领域。现有的清洗设备将污染物清洗后，废水会排放至回收装置，通过在回收装置中加入处理药剂对废水进行处理，减少污染物。
[0003]现在清洗设备废水流入回收桶内部后，需要加入药剂进行处理，随后通过单独的搅拌装置对内部进行搅拌，因此在能耗上消耗较高，不能在清洗设备清洗物料的同时对回收桶内部同时驱动搅拌，进而降低设备的能耗。
[0004]针对上述问题。为此，提出一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，在清洗设备进行运转清洗物料时，此时，驱动电机进行运转带动上端设置的第一旋转杆进行旋转，第一旋转杆旋转后带动冠齿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，包括清洗设备(1)和清洗设备(1)外表面一侧设置有回收桶(5)，其特征在于：所述清洗设备(1)内腔设置有驱动电机(11)，驱动电机(11)输出端设置有第一旋转杆(12)，第一旋转杆(12)外表面设置有冠齿轮(13)，冠齿轮(13)上端一侧啮合连接有第一齿轮(131)，第一齿轮(131)外表面一侧设置有第二旋转杆(132)，第二旋转杆(132)另一端设置有第一旋转盘(133)，第一旋转盘(133)内腔一侧设置有第一磁块(134)；所述回收桶(5)内腔轴接有搅拌杆(52)，搅拌杆(52)一端设置有第二旋转盘(521)，第二旋转盘(521)内腔一侧设置有第二磁块(522)。2.根据权利要求1所述的一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，其特征在于：所述第一磁块(134)的磁性与第二磁块(522)的磁性相吸。3.根据权利要求2所述的一种半导体设备用可污水回收的精密清洗装置，其特征在于：所述清洗设备(1)上端向下开设有清洗槽(2)，清洗槽(2)内腔壁与回收桶(5)内腔贯穿开设有回收孔(43)，清洗槽(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊志红，
申请(专利权)人：湖北仕上电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：