磨豆设备制造技术

一种磨豆设备(1)，包括：主体(2)；安装在所述主体中的研磨磨具，所述磨具包括非驱动磨具(4)和旋转驱动磨具(3)，所述旋转驱动磨具具有它围绕其旋转的旋转轴线(A)；驱动电机(23)，其操作性地联接到所述旋转驱动磨具(3)；在主体内限定的研磨物流动路径；和排出喷管(64)，该排出喷管具有与研磨物流动路径连通的入口(65)和出口(84)，其中排出喷管限定纵向轴线，并且排出喷管(64)的纵向轴线相对于被驱动磨具的旋转轴线(A)成一角度。具的旋转轴线(A)成一角度。具的旋转轴线(A)成一角度。

【技术实现步骤摘要】
磨豆设备
[0001]本申请是申请日为2018年5月15日、名称为“磨豆设备”的专利技术专利申请No.201880032360.6的分案申请。


[0002]本专利技术涉及一种磨豆设备，例如咖啡豆研磨机。

技术介绍

[0003]最佳饮料如咖啡最好是由精确量的新鲜、刚磨碎的烘焙咖啡豆制成。为此，希望提供一种研磨流动路径，该研磨流动路径尽可能接近竖直并且没有研磨物能在其中聚集且被捕集的任何区域。从机械上讲还希望从下方驱动旋转致动的内磨具(burr)并且将驱动电机安装在尽可能靠近磨具的位置。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种改进的磨豆机。
[0005]根据本专利技术的第一方面，提供了一种磨豆设备，其包括：主体；安装在主体中的研磨磨具，所述磨具包括非驱动磨具和旋转驱动磨具，该旋转驱动磨具具有旋转轴线，旋转驱动磨具围绕该旋转轴线旋转；驱动电机，该驱动电机操作性地联接到旋转驱动磨具；在主体内限定的研磨物流动路径；和排出喷管，该排出喷管具有出口和与研磨物流动路径连通的入口，其中该排出喷管限定纵向轴线，并且排出喷管的纵向轴线与被驱动磨具的旋转轴线成一角度。。
[0006]排出喷管适当地从主体向下延伸。
[0007]在本专利技术的一个实施例中，旋转轴线和排出喷管的纵向轴线形成倒V形。
[0008]非驱动磨具相对于主体被适当地固定。换句话说，非驱动磨具可以是静止磨具。
[0009]适当地，旋转轴线与主体的纵向轴线同轴，由此排出喷管相对于主体成一角度。/>[0010]旋转轴线和排出喷管的纵向轴线之间限定的角度可为5
°
至80
°
，适当地10
°
至70
°
、10
°
至60
°
、10
°
至50
°
、15
°
至45
°
或15
°
至30
°
。
[0011]旋转轴线可与排出喷管的纵向轴线相交，并且交点适当地位于主体内。
[0012]旋转轴线和排出喷管的纵向轴线两者都可相对于竖直平面成一角度。
[0013]旋转轴线和排出喷管的纵向轴线之间的角度可具有基本竖直的等分线。
[0014]在本专利技术的一个实施例中，该设备还包括位于磨具下方(即，重力方向上的下方)的研磨物引导元件，其中，该研磨物引导元件包括将研磨物扫入流动路径中的一个或多个指状部。该设备可在磨具下方限定一腔室，并且研磨物引导元件可位于所述腔室内。研磨物引导元件被适当地驱动旋转。研磨物引导元件的旋转轴线可与旋转驱动磨具的旋转轴线同轴。研磨物引导元件可被驱动电机驱动旋转。研磨物引导元件可包括多个指状部。该指状部或每个指状部可适当地从起始于旋转轴线而限定的半径向后倾斜(angled rearwards)，和/或所述指状部或每个指状部可为弯曲的。
[0015]该设备适当地包括在磨具上方限定的豆入口和从豆入口到磨具限定的入口流动路径。
[0016]排出喷管的入口可与研磨物引导元件位于其内的腔室对准。
[0017]在本专利技术的一个实施例中，该设备包括基座元件，其中该设备的主体联接到基座元件的一端，并且基座元件的相对端限定了研磨物收集器孔洞。研磨物收集器孔洞适当地接纳可从孔洞移除的研磨物收集器。研磨物收集孔洞适当地位于排出喷管的出口的竖直下方。
[0018]还希望将被旋转驱动的内研磨磨具精确地保持在沿着其旋转轴线的位置，并且希望外研磨磨具保持与旋转轴线对准。
[0019]根据本专利技术的第二方面，提供了一种磨豆设备，该磨豆设备包括：内研磨磨具；互补的外研磨磨具；承载内磨具的轴；使所述轴被轴颈支承以绕旋转轴线旋转的轴承；支承外磨具的外磨具支承件，其中该支承件限定有外磨具位于其内的凹部；其中轴承与凹部同心地布置，使得内磨具相对于外磨具同心地定位。
[0020]在本专利技术的第二方面的一个实施例中，该设备包括主体，并且外磨具支承件由该主体限定或由该主体承载，使得外磨具支承件相对于主体被固定。
[0021]轴可操作性地连接到驱动电机。“操作性地连接”是指驱动电机直接或间接驱动轴旋转。例如，齿轮装置可位于驱动电机与轴之间。
[0022]该设备还可包括横穿地定位在凹部中的轴承支承板，其中，轴承联接到轴承支承板的中心。
[0023]轴承可以是组合的轴颈和推力轴承。
[0024]轴还可包括固定到其上的毂，其中毂在重力方向上位于内磨具下方，并且毂包括从其向外突出的一个或多个指状部，其中指状部使豆研磨物径向地扫离磨具。与本专利技术的第一方面一样，指状部可相对于从旋转轴线起始的半径向后倾斜。
[0025]该设备还可包括外磨具调节机构，该外磨具调节机构调节外磨具相对于内磨具的轴向位置。因此，可朝向或远离内磨具轴向调节外磨具的位置。调节机构可包括由外磨具支承件承载的第一螺纹元件和由主体承载的第二螺纹元件。第二螺纹元件可直接或间接地支承在外磨具上，其中第二螺纹元件相对于第一螺纹元件的旋转致使外磨具相对于内研磨磨具轴向移动。
[0026]调节机构可包括偏压元件，该偏压元件构造成朝向或远离内磨具偏压外磨具。在本专利技术的一个实施例中，偏压元件将外磨具远离内磨具偏压，使得在不存在要研磨的咖啡豆的情况下磨具不会在重力作用下彼此接触。例如，偏压元件可偏压外研磨磨具使其与第二螺纹元件或位于外研磨磨具与第二螺纹元件之间的中间构件接触。
[0027]本专利技术第二方面的特征可与本专利技术第一方面的特征组合。因此，如在本专利技术的第二方面中限定的内磨具和外磨具的布置可形成如上文结合本专利技术的第一方面所限定的设备的一个实施例。换句话说，本专利技术的第二方面可限定本专利技术的第一方面的实施例。
[0028]进一步希望精确地调节研磨物的颗粒尺寸。
[0029]根据本专利技术的第三方面，提供了一种磨豆设备，其包括：被旋转驱动且轴向上受约束的内研磨磨具；互补的、旋转方向上受约束且可轴向移动的外研磨磨具；外磨具支承件，其限定外磨具位于其内的凹部；调节机构，该调节机构用于使外磨具朝向或远离内磨具轴
向移动，该调节机构抵消了在研磨过程中产生的在外磨具上施加的使其远离内磨具的推力。
[0030]在本专利技术的一个实施例中，调节机构还包括偏压元件，该偏压元件将外磨具远离内磨具偏压。偏压元件适当地偏压外磨具以使其与调节机构接触。
[0031]在又一实施例中，调节机构包括由外磨具支承件承载的螺纹元件和互补的螺纹元件，该互补的螺纹元件布置成直接或间接地支承在外磨具上以促使其朝向或远离内磨具。
[0032]互补的螺纹元件可带有角向可调节的调整环，其中互补的螺纹元件和角向可调节的调整环具有用于保持角向可调节的调整环相对于互补的螺纹元件的位置的棘齿棘爪结构。互补的螺纹元件与角向可调节的调整环之间的棘齿棘爪结构允许例如在校准过程中相对于互补的螺纹元件调节调整环，并且它还允许角向可调节的调整环例如在用户为设备本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磨豆设备，其包括内研磨磨具；互补的外研磨磨具；承载所述内磨具的轴；轴承，其使所述轴被轴颈支承以绕旋转轴线旋转；支承所述外磨具的外磨具支承件，其中所述支承件限定有所述外磨具位于其内的凹部；其中所述轴承相对于所述凹部同心地布置，使得所述内磨具相对于所述外磨具同心地定位。2.根据权利要求1所述的磨豆设备，其中，所述设备包括主体，并且所述外磨具支承件由所述主体限定或由所述主体承载，使得所述外磨具支承件相对于所述主体被固定。3.根据权利要求1或2所述的磨豆设备，其中，所述轴被操作性地连接至驱动电机。4.根据权利要求1至3中任一项所述的磨豆设备，其中，所述设备还包括位于所述凹部内的轴承支承板，其中所述轴承由所述轴承支承板承载。5.根据权利要求1至4中任一项所述的磨豆设备，其中，所述轴承是组合的轴颈和推力轴承。6.根据权利要求1至5中任一项所述的磨豆设备，其中，所述轴还包括固定在其上的毂，其中，所述毂在重力方向上位于所述内磨具下方，并且所述毂包括从其向外突出的一个或多个指状部，其中所述指状部将豆研磨物径向地扫离所述磨具。7.根据权利要求1至6中任一项所述的磨豆设备，其中，所述设备还包括外磨具调节机构，所述外磨具调节机构调节所述外磨具相对于所述内磨具的轴向位置。8.根据权利要求7所述的磨豆设备，其中，所述调节机构用于使所述外磨具朝向或远离所述内磨具轴向移动，所述调节机构抵消了在研磨过程期间产生的施加在所述外磨具上的使其远离所述内磨具的推力。9.根据权利要求8所述的磨豆设备，其中，所述调节机构包括偏压构件，所述偏压构件将所述外磨具偏压远离所述内磨具。10.根据权利要求7至9中任一项所述的磨豆设备，其中，所述调节机构包括由所述外磨具支承件承载的螺纹元件和互补的螺纹元件，所述互补的螺纹元...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：尼科尔森设计顾问有限公司，
类型：发明
国别省市：