电磁屏蔽膜及线路板制造技术

技术编号:33845903 阅读:24 留言:0更新日期:2022-06-18 10:30
本发明专利技术涉及电子技术领域,公开了一种电磁屏蔽膜及线路板,其中,所述电磁屏蔽膜包括绝缘层、屏蔽层及胶膜层;所述屏蔽层形成于所述绝缘层的一面上,所述胶膜层设于所述屏蔽层的远离所述绝缘层的一面上;其中,在胶克重参数的单位为克每平方分米下,所述绝缘层的靠近所述屏蔽层的一面的粗糙度Sdr与所述胶膜层的胶克重参数两者的数值的比例为0.2

【技术实现步骤摘要】
电磁屏蔽膜及线路板


[0001]本专利技术涉及电子
,尤其是涉及一种电磁屏蔽膜及线路板。

技术介绍

[0002]随着电子工业的迅速发展,电子产品进一步向小型化,轻量化,组装高密度化发展,极大地推动挠性电路板的发展,从而实现元件装置和导线连接一体化。挠性电路板可广泛应用于手机、液晶显示、通信和航天等行业。
[0003]在国际市场的推动下,功能挠性电路板在挠性电路板市场中占主导地位,而评价功能挠性电路板性能的一项重要指标是电磁屏蔽(Electromagnetic Interference Shielding,简称EMI Shielding)。随着手机等通讯设备功能的整合,其内部组件急剧高频高速化。例如:手机功能除了原有的音频传播功能外,照相功能已成为必要功能,且WLAN(Wireless Local Area Networks,无线局域网)、GPS(Global Positioning System,全球定位系统)以及上网功能已普及,再加上未来的感测组件的整合,组件急剧高频高速化的趋势更加不可避免。在高频及高速化的驱动下所引发的组件内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽膜,其特征在于,包括绝缘层、屏蔽层及胶膜层;所述屏蔽层形成于所述绝缘层的一面上,所述胶膜层设于所述屏蔽层的远离所述绝缘层的一面上;其中,在胶克重参数的单位为克每平方分米下,所述绝缘层的靠近所述屏蔽层的一面的粗糙度Sdr与所述胶膜层的胶克重参数两者的数值的比例为0.2

20000。2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述屏蔽层上设有贯穿其上下表面的通孔。3.如权利要求2所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,在所述屏蔽层上平均每平方厘米的通孔数量为1

1000个。4.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述绝缘层的靠近所述屏蔽层的一面的粗糙度Sdr为0.1%

8000%。5.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜,其特征在于,所述胶膜层的胶克重参数为0.01

1克每平方分米。6.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:苏陟张美娟
申请(专利权)人:广州方邦电子股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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