一种用于方向图修正的平面去耦结构制造技术

本发明专利技术公开了一种用于方向图修正的平面去耦结构，包括公共金属地板、位于公共金属地板顶部的介质基板、两组贴片天线和平面去耦结构，两组贴片天线对称设置在介质基板的顶部，平面去耦结构设置于介质基板的顶部，并位于两组贴片天线之间。本发明专利技术所提出的一种用于方向图修正的平面去耦结构提高了天线的阻抗匹配和隔离度，而且还提高了E面的实际增益，修正了所关心天线的H面辐射方向图。所关心天线的H面辐射方向图。所关心天线的H面辐射方向图。

【技术实现步骤摘要】
一种用于方向图修正的平面去耦结构


[0001]本专利技术涉及天线去耦
，尤其涉及一种用于方向图修正的平面去耦结构。

技术介绍

[0002]现代通信技术对天线的小型化要求越来越高，这就要求阵列天线单元间距要不断的减少，相应的微带天线由于重量轻、体积小、制造成本低等优点而被广泛关注。通常采用两个或多个微带天线阵列以达到增益高、方向性好等目的，但是近间距排列就要考虑天线耦合问题。以二元微带天线阵列为例，当天线紧密排列时，互耦会导致天线性能的变化，比如隔离度降低、增益降低和方向图倾斜等。
[0003]目前常用的去耦技术可分为两大类，分别是平面去耦技术和立体去耦技术。平面去耦技术常采用在地面上蚀刻一些形状或者在两个天线之间加入一些谐振结构，而立体去耦技术主要是在两个天线之间插入一个墙壁或者在天线的上方放置一些谐振结构。但是无论哪种去耦方法，当单元的间距足够小时，比如0.05 λ0，这些去耦结构都面临着方向图偏移的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种用于方向图修正的平面去耦结构，旨在解决现有技术中存在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于方向图修正的平面去耦结构，其特征在于，包括公共金属地板、位于所述公共金属地板顶部的介质基板、两组贴片天线和平面去耦结构，两组所述贴片天线对称设置在所述介质基板的顶部，所述平面去耦结构设置于所述介质基板的顶部，并位于两组所述贴片天线之间。2.如权利要求1所述的用于方向图修正的平面去耦结构，其特征在于，所述平面去耦结构包括第一金属条带、两条第二金属条带和第三金属条带，所述第三金属条带设置于两条所述第二金属条带之间，两条所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐庆磊，李贺，王逸芳，贾媚媚，张胜妃，
申请(专利权)人：南阳师范学院，
类型：发明
国别省市：