【技术实现步骤摘要】
一种掩模缺陷检测装置
[0001]本技术涉及半导体领域，尤其涉及一种掩模缺陷检测装置。
技术介绍
[0002]掩模版是半导体加工中常用的光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明的基板上形成掩模图形结构，再通过曝光工艺将图形信息转移到产品基片上。在对产品基片进行曝光之前，需要通过掩模缺陷检测装置来检测掩模版上是否存在表面缺陷，例如表面颗粒等，避免在光刻过程中掩模版的表面缺陷影响曝光过程，造成产品缺陷。
[0003]在对掩模版进行缺陷检测时需要将盛放掩模板的承片组件转移至掩模检测设备上，现有掩模检测设备在单侧设置一个压感组件用于检测承片组件的底板是否发生倾斜，但单侧压感组件不能检测所述底板的另一侧是否倾斜，容易在后续步骤中造成掩模版的滑落，甚至造成整个掩模缺陷检测装置的宕机，增加不必要的损失。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种掩模缺陷检测装置，检测所述底板是否倾斜。
[0005]为了达到上述目的，本技术提供了一种掩模缺陷检测装置，包括：
[0006]承载组件，包括升...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种掩模缺陷检测装置，其特征在于，包括：承载组件，包括升降台和围绕所述升降台的固定台；承片组件，包括底板及扣合在所述底板上的保护罩，所述底板与所述保护罩之间通过锁扣连接，所述底板位于所述升降台上且用于承载掩模版，所述保护罩的侧壁位于所述固定台上；至少两个压感组件，位于所述承载组件上，用于检测所述底板是否倾斜；显示组件，设置于所述固定台上，用于显示所述压感组件的检测结果；解锁组件，包括设置于所述固定台上且与所述锁扣一一对应的解锁器，所述解锁器包括驱动单元及锁钩，所述驱动单元驱动所述锁钩拉动对应的所述锁扣以对所述锁扣进行解锁，使所述底板和所述保护罩分离。2.如权利要求1所述的一种掩模缺陷检测装置，其特征在于，所述底板的每一侧均对应两个锁扣。3.如权利要求2所述的一种掩模缺陷检测装置，其特征在于，所述底板的底部具有若干横向的盲孔，所述锁扣的一端伸入所述盲孔内，另一端向上延伸形成限位件，所述限位件位于所述保护罩的外侧，所述底板的每一侧的两个所述锁扣均通过一Y形支架连接，所述Y形支架的底部与所述保护罩的内壁连接，所述锁钩钩住对应的所述锁扣的限位件并拉动所述锁扣，两个所述锁扣连接的Y形支架...
【专利技术属性】
技术研发人员：薛子恒，顾佳灵，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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