一种渐变色工艺制造技术

本发明专利技术针对现有工艺对后盖装饰图形及颜色呈现的多样性制作的限制的问题，而提供一种渐变色膜片或者玻璃盖板的制作方法，主要包括将膜片/玻璃做上光刻胶，然后进行曝光显影；然后在这基础上镀颜色膜，根据曝光图形、镀颜色膜、及剥膜后可以再镀其他想要的颜色，搭配相同图形的纹理PET。本发明专利技术的工艺搭配与现有后盖装饰工艺相比，具有提高装饰图形多样性、颜色多样性、灵活性、金属感强及增加立体感等优点。点。

【技术实现步骤摘要】
一种渐变色工艺


[0001]本专利技术涉及电子产品后盖颜色装饰工艺，尤其涉及一种膜片或者玻璃盖板渐变色工艺。

技术介绍

[0002]目前手机市场后盖颜色装饰工艺大体分为以下几种：1.渐变色镀膜：这种工艺局限于颜色之间搭配，基于红、橙、黄、绿、青、蓝、紫的物质颜色和吸光颜色关系而定，不能做到任意两种或者随意多种颜色的渐变。2.胶片印刷渐变色：使用印刷的方式打印两种渐变色或任意两种颜色渐变，但膜面颗粒感强，导致解析度差。3.OC0渐变色：良率低，无金属质感。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种具有装饰图形多样性、颜色多样性、灵活性等优点的胶片或者玻璃盖板渐变色装饰工艺。
[0004]为实现上述的目的，本专利技术采用如下的技术方案：一种渐变色工艺，包括以下步骤：S1、将要曝光的图纸导入曝光机；S2、将基材贴附上玻璃治具上，然后放入光阻喷涂机，喷涂光阻层；S3、将涂布好光阻层的基材进行预烤；S4、将预烤好的基材料曝光、显影；S5、将显影完成后的基材料镀颜色膜；S6、镀膜完成后进行剥膜，去除剩余的光阻层；S7、将剥膜后的基材再次镀颜色膜。
[0005]优选的，S4将烤好的基材料曝光、显影中包括：导入转换好的图纸，确认图纸与客户的样品图是否一致，确认完成后，将基材从玻璃治具上取下，先用一张带光阻的胶片曝光实验，截取机台在实验胶片上曝光位置，注意曝光位置的选择居中；位置选取完成后，将要曝光的基材重复放在选取实验胶片位置，保证曝光位置；曝光参数设550mj/cm
²
>，显影液温度设置为25
°
，速度设置8m/min,导电度设置为31
‑
32ms。
[0006]优选的，S5中将显影完成后的基材料镀颜色膜，包括：将基材贴附于玻璃治具上，贴附平整，使其镀膜均匀，镀膜厚度50
‑
1200nm，镀膜颜色根据要求而定，镀膜材料为：二氧化硅、氧化铌、硅铝合金、氮化硅、氧化钛、硅、铝中的任意一种。
[0007]优选的，S6中所述剥膜在水性剥膜机中进行，设置水性剥膜液温度50
°
，剥膜速度1.5m/min,剥膜次数4
‑
8次。
[0008]优选的，S2中所述基材为玻璃盖板，包括对所述玻璃盖板贴附上玻璃治具前，对所述玻璃盖板进行清冼；S2中将所述玻璃盖板贴附于玻璃治具上时，要求客户而向上，贴附平整，光阻层厚度为：3
‑
5um。
[0009]优选的，S2中所述基材为胶片，将所述胶片贴附于玻璃治具上时，贴附平整，将所述胶片边缘使用高温胶带贴实后，再放入光阻喷涂机，光阻层厚度为3
‑
5um；进一步的，还包括：S8、将镀好颜色膜的胶片丝印盖底，采用丝印机对上述胶片板进行丝印，油墨可以是聚氯乙烯和邻苯二甲酸酯类等，油墨配比：主油55
‑
65%、稀释剂25
‑
35%、固化剂10%，丝印油墨厚度3
‑
6um，刮板走速100
‑
150mm/s，将其过隧道炉进行一次预烤，设置温度75
‑
80℃、时间4
‑
6min；再对上述丝印好的胶片进行固烤，温度75℃
‑
80℃、时间30min；更进一步的，还包括，S9、将丝印好的胶片进行镭射切割，并将镭射好的胶片贴上引导膜；还包括，S10、将贴好引导膜的胶片与3D曲面玻璃贴合，3D贴合机参数设置为：气压源：0.55
±
0.05mpa,压合时间6
±
1s组合压力450
±
50kpa, 贴合精度控制为：
±
0.15mm。
[0010]本专利技术将膜片/玻璃做上光刻胶，然后进行曝光显影；在这基础上镀颜色膜，根据曝光图形、镀颜色膜、及剥膜后可以再镀其他想要的颜色，最后搭配相同图形的纹理PET。
[0011]本专利技术的工艺搭配与现有后盖装饰工艺相比，具有提高装饰图形多样性、颜色多样性、灵活性、金属感强及增加立体感等优点。
[0012]附图说明
[0013]图1为本专利技术产品堆叠示意图；图2为本专利技术产品工艺流程示意图；图3为本专利技术的工艺流程示意图。
[0014]附图中标记为：10、玻璃盖板，20、PET层，30、UV胶层，40、PVD镀膜层，50、INK油墨层；100、PET白膜，200、喷涂光阻，300、曝光显影，400、镀颜色膜，500、退镀，600、镀颜色膜。
[0015]具体实施方式
[0016]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，但不构成对本专利技术保护范围的限制。
[0017]参见图1
‑
3所示，本专利技术针对现有工艺对后盖装饰图形及颜色呈现的多样性制作的限制的问题，而提供一种渐变色膜片或者玻璃盖板的制作方法，主要采用黄光工艺喷涂光阻、曝光显影、镀膜、及黄光剥膜后的再镀颜色膜的工艺。
[0018]实施例1一种胶片渐变工艺，包括以下步骤：NO1、设计好想要的图案图纸，图纸为2D图纸；可是上下渐变图纸、左右渐变图纸、中间往边缘渐变等等，进行填充后导入曝光设备。
[0019]NO2、将胶片贴附在玻璃治具上，贴附平整，否者会影响胶片涂布整面光阻，胶片边缘使用高温胶带贴实，然后放入光阻喷涂机，光阻厚度一般为3UM
‑
5UM,这里采用正型光阻ELECT
‑
8100，也可以采用其他型号光阻。喷涂光阻时要保正膜面平整均匀，不能有异物及胶片折伤等情况出现，放入喷涂光阻机。
[0020]NO3、将涂布好光阻的胶片预烤，预烤温度设为120℃，10min，预烤时间不能过长或过短，时间过长，胶片容易出现不耐高温，有气泡，变形等不良。时间过短，在曝光显影时，光
阻会出现脱落的现象，使其得不到最初设计的图形，喷涂好光阻后每张胶片检查下膜面是否有光阻不均匀、异物、胶片折伤等等情况。
[0021]NO4、将预烤好的胶片曝光显影，导入转换好的图纸，确认图纸与客户的样品图是否一致，确认完成后，将胶片从玻璃治具上取下，先用一张带光阻的胶片曝光实验，截取机台在实验胶片上曝光位置，注意曝光位置的选择居中。位置选取完成后，将要曝光的胶片重复放在选取实验胶片位置。曝光参数设550mj/cm
²
，显影液温度设置为25℃，速度设置8m/min,导电度设置为31
‑
32ms。显影药水为氢氧化钾（KOH）,显影后检查确认每张胶片膜面曝光位置是否是居中、光阻是否按图纸设计方案掉落、图案完整性等等。
[0022]NO5、显影完的胶片镀颜色膜，将胶片贴附在玻璃治具上，同样胶片四周用高温胶带贴附平整，使其镀膜均匀。（颜色根据客户样品要求而定，厚度在颜色不同的情况下变化，一般厚度为50nm
‑
1200nm之间，温度45℃左右）。镀膜材料可以是：（SIO2氧化硅、Nb2O5氧化铌、S本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种渐变色工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1、将要曝光的图纸导入曝光机；S2、将基材贴附上玻璃治具上，然后放入光阻喷涂机，喷涂光阻层；S3、将涂布好光阻层的基材进行预烤；S4、将预烤好的基材料曝光、显影；S5、将显影完成后的基材料镀颜色膜；S6、镀膜完成后进行剥膜，去除剩余的光阻层；S7、将剥膜后的基材再次镀颜色膜。2.如权利要求1所述的一种渐变色工艺，其特征在于：S4将烤好的基材料曝光、显影中包括：导入转换好的图纸，确认图纸与客户的样品图是否一致，确认完成后，将基材从玻璃治具上取下，先用一张带光阻的胶片曝光实验，截取机台在实验胶片上曝光位置，注意曝光位置的选择居中；位置选取完成后，将要曝光的基材重复放在选取实验胶片位置，保证曝光位置；曝光参数设550mj/cm
²
，显影液温度设置为25℃，速度设置8m/min,导电度设置为31
‑
32ms。3.如权利要求2所述的一种渐变色工艺，其特征在于：S5中将显影完成后的基材料镀颜色膜，包括：将基材贴附于玻璃治具上，贴附平整，使其镀膜均匀，镀膜厚度50
‑
1200nm，镀膜颜色根据要求而定，镀膜材料为：二氧化硅、氧化铌、硅铝合金、氮化硅、氧化钛、硅、铝中的任意一种。4.如权利要求3所述的一种渐变色工艺，其特征在于：S6中所述剥膜在水性剥膜机中进行，设置水性剥膜液温度50℃，剥膜速度1.5m/min,剥膜次数4
‑
8次。5.如权利要求4所述的一种渐变色工艺，其特征在于：S2中所述基材为玻璃盖板，包括对所述玻璃盖板贴附上玻璃治具前，对所述玻璃盖板进行清冼。6.如权利要求6所述的一种渐...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗兵，黄宇正，林汉伦，
申请(专利权)人：伯恩光学惠州有限公司，
类型：发明
国别省市：