防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法技术

提供一种能够实现由碳纳米管制成并且透射率的面内均一性优异的防护膜的技术。防护膜(12)包括：分别沿着第1方向(D1)延伸并且沿着径向排列的多个第1碳纳米管(1200a)、以及分别沿着与所述第1方向(D1)交叉的第2方向(D2)延伸并且沿着径向排列的多个第2碳纳米管(1200b)。(1200b)。(1200b)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】防护膜、防护膜组件、碳纳米管网及其制造方法、碳纳米管膜、以及碳纳米管线及其制造方法


[0001]本专利技术涉及防护膜组件(pellicles)。

技术介绍

[0002]通过光刻技术可形成的图案的最小尺寸取决于曝光所使用的光的波长。通过在曝光中使用波长更短的光，可以减小该最小尺寸。
[0003]迄今为止，在曝光中使用的是波长为193nm的ArF准分子激光。近年来，对能够形成更微细的图案的光刻技术的要求越来越高，并且正在使用波长为13.5nm的极端紫外线(EUV光)。
[0004]防护膜组件用于防止尘埃等附着到光掩模或标度线(reticle)上。由于EUV光容易被各种物质吸收，因此在极端紫外线光刻(EUVL)中，正在开发一种使用了对EUV光的吸收率低的多晶硅的防护膜。
[0005]然而，由多晶硅制成的防护膜的耐热性差。因此，由石墨烯、碳纳米管等碳材料构成的防护膜备受关注(参照专利文献1至3)。
[0006]现有技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2018
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种防护膜，包含：分别沿着第1方向延伸且沿着径向排列的多个第1碳纳米管、以及分别沿着与所述第1方向交叉的第2方向延伸且沿着径向排列的多个第2碳纳米管。2.根据权利要求1所述的防护膜，其中，所述多个第1碳纳米管形成第1碳纳米管网，所述多个第2碳纳米管形成与所述第1碳纳米管网重叠的第2碳纳米管网。3.根据权利要求2所述的防护膜，其中，在所述第1碳纳米管网和所述第2碳纳米管网的至少一者中设置有多个孔。4.根据权利要求3所述的防护膜，其进一步包含1个以上的被覆层，该被覆层被覆所述第1碳纳米管网和所述第2碳纳米管网当中的至少设置有所述多个孔的碳纳米管网。5.根据权利要求3或4所述的防护膜，其中，所述多个孔的最大直径为100nm以下。6.根据权利要求1所述的防护膜，其中，所述多个第1碳纳米管形成分别由多个碳纳米管制成的多个第1碳纳米管线，所述多个第2碳纳米管形成分别由多个碳纳米管制成的多个第2碳纳米管线，所述多个第1碳纳米管线和所述多个第2碳纳米管线形成织物。7.一种防护膜，具备：分别由多个第1碳纳米管制成并且分别沿着第1方向延伸的多个第1碳纳米管线、以及分别由多个第2碳纳米管制成并且分别沿着与所述第1方向交叉的第2方向延伸的多个第2碳纳米管线，所述多个第1碳纳米管线和所述多个第2碳纳米管线形成织物。8.根据权利要求6或7所述的防护膜，其中，所述多个第1碳纳米管线...

【专利技术属性】
技术研发人员：高田直也，关和范，小寺豊，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：