用于监测激光加工头上的盖玻片的污染物的感测布置制造技术

一种感测设备监测激光加工头上的盖光学器件的污染物，从而指示需要更换所述盖光学器件。所述设备包括至少一个反射器和至少一个传感器，所述至少一个反射器和至少一个传感器设置在所述加工头中邻近所述盖光学器件的周边。所述反射器反射来自所述激光束的辐射，所述激光束从所述盖光学器件上的污染物偏转并且入射到其上。所述传感器偏离所述反射器并且检测由所述反射器反射的所述辐射的至少一部分。与所述传感器通信的控制器可基于所检测到的辐射来确定所述盖光学器件上的所述污染物。射来确定所述盖光学器件上的所述污染物。射来确定所述盖光学器件上的所述污染物。

【技术实现步骤摘要】
用于监测激光加工头上的盖玻片的污染物的感测布置


[0001]本公开的主题涉及监测光学元件上的污染物，具体涉及监测激光加工头的盖玻片上的污染物。

技术介绍

[0002]在材料加工过程中，在激光加工头中使用盖玻片以保护内部激光发射光学器件。例如，激光切割头产生熔化目标材料的激光束。辅助气体排出熔融材料以在工件中形成切口。特别是在使用激光穿透材料时，仔细地控制辅助气体的压力和体积。如果辅助气体的压力过高，则过量的溅出物可粘到喷嘴和激光加工头的盖玻片。随着时间的推移，盖玻片需要更换，使得污染物不会干扰激光束。
[0003]一些激光发射操作和一些材料相比于其他操作和材料可产生更多的污染物。例如，切割镀锌材料可从材料的锌涂层中释放微小的颗粒，从而产生非常细小的灰尘。此外，激光加工头内部的污染物可积累在盖玻片的内表面上，并且可干扰操作。
[0004]可以理解，盖玻片上的污染物可以改变所发射的激光束的光学质量。此外，来自盖玻片的散射光可加热并且损坏加工头的其他部件，或者可干扰它们的操作。因此，优选地监测污染，使得在光学质量降低之前可以更换盖玻片本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于具有可更换的盖光学器件的激光加工头的设备，所述可更换的盖光学器件设置成与在激光发射过程中从所述激光加工头发射的激光束的纵向轴线成一直线，所述设备包括：至少一个反射器，所述至少一个反射器邻近所述可更换的盖光学器件的周边设置，所述至少一个反射器被配置为反射由所述激光束与所述可更换的盖光学器件上的污染物的相互作用产生并且入射到所述至少一个反射器上的辐射；以及至少一个传感器，所述至少一个传感器邻近所述可更换的盖光学器件的周边设置，所述至少一个传感器设置成相对于所述至少一个反射器处于偏移关系，所述至少一个传感器被配置为检测由所述至少一个反射器反射的所述辐射的至少一部分。2.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个反射器被配置为反射由所述可更换的盖光学器件上的污染物散射和/或吸收所述激光束而产生的辐射。3.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个传感器包括被配置为滤除与所述激光发射过程的波长相关联的辐射的滤波器。4.如权利要求1所述的设备，其中所述设备包括被配置为滤除与所述激光发射过程的时变强度调制相关联的辐射的电路系统。5.如权利要求1所述的设备，其还包括设置在所述至少一个反射器和所述至少一个传感器之间的透镜。6.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个反射器包括围绕所述可更换的盖光学器件的所述周边以彼此等距的角度设置的至少三个所述至少一个反射器。7.如权利要求6所述的设备，其中所述至少一个传感器包括围绕所述可更换的盖光学器件的所述周边以彼此等距的角度偏离所述至少三个反射器设置的至少三个所述至少一个传感器。8.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个反射器沿侧向尺寸限定第一曲率半径，并且沿纵向尺寸限定第二曲率半径。9.如权利要求8所述的设备，其中所述第一半径限定环形环面体的大半径的至少一部分；并且其中所述第二半径限定所述环形环面体的小半径的至少一部分。10.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个反射器限定从所述至少一个反射器的顶部到底部变化的曲率。11.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个反射器和所述至少一个传感器设置在平行于所述可更换的盖光学器件的侧向平面上。12.如权利要求11所述的设备，其中所述至少一个传感器沿平行于所述可更换的盖光学器件的所述侧向平面引导。13.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个反射器包括设置在其上的反射涂层。14.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：丹尼，
申请(专利权)人：IIVI特拉华有限公司，
类型：发明
国别省市：