一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，其制备原料及重量份包括：水性溶剂10

【技术实现步骤摘要】
一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺


[0001]本专利技术涉及的是一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，主要应用于光伏组件的玻璃产品领域。

技术介绍

[0002]随着社会的发展，能源问题对人类生活的影响日益严峻，越来越多的国家将目光转向光伏产业，光能转化成为未来能源发展的一个重要途径。但是在实际应用中，光伏组件随着使用年限的增加，光能转化效率出现衰减，如何降低光伏组件的衰减率，延长使用年限是目前亟待解决的问题。PID效应(potential Induced Degradation)又称电势诱导衰减，是光学组件效率衰减的重要方面，影响因素错综复杂，还没有PID产生原因的真正定论，目前PID的产生原因主要由三个方面组成，包括极化现象，Na离子迁移及电化学腐蚀。
[0003]当PID现象发生时，从EL成像可以看到部分电池片发黑。目前现有技术一般采用硼硅玻璃以减少现有的玻璃盖板中钠，钙离子的迁移，或者改善玻璃背板膜的性能，提高光伏组件的耐化学腐蚀性，耐候性，隔绝水汽性能以减少PID现象的发生。但是这些技术存在一定的缺陷，不能更好地提升发电效率，为此我们提出了一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料。

技术实现思路

[0004]为了防止光伏双玻组件背板PID的发黑，同时还能提高光伏发电效率，本专利技术第一个方面提供了一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其制备原料包括：水性溶剂，无机色浆，无机链接料，气相二氧化硅，添加剂。
[0005]作为一种优选的实施方式，水性溶剂选自二乙二醇丁醚、二乙二醇叔丁醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚中的一种或几种的组合。
[0006]作为一种优选的实施方式，无机色浆选自钛白粉、氧化铝、氧化锌、高熔点玻璃粉、亚钛粉、硫酸钡中的一种或几种的组合。
[0007]作为一种优选的实施方式，无机链接料为低熔点玻璃粉。
[0008]作为一种优选的实施方式，制备原料以重量份计包括：水性溶剂为10
‑
30份，无机色浆为30
‑
40份，无机链接料30
‑
40份，添加剂为5
‑
25份，气相二氧化硅为0
‑
0.5份。
[0009]作为一种优选的实施方式，添加剂包括水性增稠剂和水性分散剂。
[0010]作为一种优选的实施方式，水性增稠剂选自聚丙烯类增稠剂，聚氨酯类增稠剂，聚氧乙烯类增稠剂中的一种或几种的组合。
[0011]作为一种优选的实施方式，水性分散剂选自聚氨酯类、聚丙烯酸酯类水性高粘度分散剂中的一种。
[0012]作为一种优选的实施方式，添加剂以重量份计包括：水性分散剂为1
‑
5份，水性增稠剂为5
‑
20份。
[0013]本专利技术的第二个方面提供了一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料
的工艺，包括以下步骤：
[0014](1)在搅拌罐中按重量份加入水性溶剂，无机色浆，无机链接料，添加剂，气相二氧化硅，混合搅拌1
‑
1.5h；
[0015](2)使用陶瓷辊三辊机研磨1
‑
2遍，出料辊间距设定为15
‑
20微米；
[0016](3)将步骤2得到的混合物使用200
‑
300目的网板进行过滤，得到最终的玻璃釉料。
[0017]与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0018](1)本专利技术提供的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，由于仅采用少量的低毒性有机醚类作溶剂，改善了作业环境条件，降低了大气污染，是一种绿色环保类玻璃釉料。
[0019](2)本专利技术提供的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，制备方法简单，可重复操作性强，有利于大规模生产。
[0020](3)本专利技术所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，通过加入低熔点玻璃粉和气相二氧化硅，增加了玻璃釉料与玻璃之间的附着力；水性分散剂，气相二氧化硅和增稠剂的加入，提高了玻璃釉料的稳定性；使得玻璃釉料在涂布于玻璃表面烧结后，在380
‑
700nm的太阳光线的照射下，漫反射率达到了75
‑
81％，并且钛白粉与低熔点玻璃粉、氧化锌、高熔点玻璃粉和添加剂的相互协同作用降低了Na
+
的迁移，抗PID性能得到提高，反射衰减率降低，并且外观在光伏组件PID96+96小时测试后未出现发黑现象，
[0021](4)本专利技术提供的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料能够很好的应用于浮法玻璃、压花玻璃、钠钙玻璃、高铝玻璃等，使用寿命长，具有广泛的应用前景。
具体实施方式
[0022]为了防止光伏双玻组件背板PID的发黑，同时还能提高光伏发电效率，本专利技术第一个方面提供了一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其制备原料包括：水性溶剂，无机色浆，无机链接料，气相二氧化硅，添加剂。
[0023]作为一种优选的实施方式，水性溶剂选自二乙二醇丁醚、二乙二醇叔丁醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚中的一种或几种的组合。
[0024]作为一种优选的实施方式，无机色浆选自钛白粉、氧化铝、氧化锌、高熔点玻璃粉、亚钛粉、硫酸钡中的一种或几种的组合。
[0025]进一步优选为钛白粉，高熔点玻璃粉和氧化锌的组合，进一步优选钛白粉中杂质的含量为0.1
‑
5％，进一步优选钛白粉为金红石型或锐钛型，进一步优选为金红石型，进一步优选为无机金属氧化物包覆型，进一步优选为氧化铝包覆型。
[0026]作为一种优选的实施方式，无机链接料为低熔点玻璃粉。
[0027]进一步优选，低熔点玻璃粉始熔温度区间为400
‑
550℃。
[0028]作为一种优选的实施方式，制备原料以重量份计包括：水性溶剂为10
‑
30份，无机色浆为30
‑
40份，无机链接料30
‑
40份，添加剂为5
‑
25份，气相二氧化硅为0
‑
0.5份。
[0029]作为一种优选的实施方式，添加剂包括水性增稠剂和水性分散剂。
[0030]作为一种优选的实施方式，水性增稠剂选自聚丙烯类增稠剂，聚氨酯类增稠剂，聚氧乙烯类增稠剂中的一种或几种的组合。
[0031]进一步优选为聚氨酯类增稠剂，进一步优选为聚醚型聚氨酯类增稠剂。
[0032]作为一种优选的实施方式，水性分散剂选自聚氨酯类、聚丙烯酸酯类水性高粘度分散剂中的一种。
[0033]进一步优选，水性分散剂分解温度低于400℃。
[0034]作为一种优选的实施方式，添加剂以重量份计包括：水性分散剂为1
‑
5份，水性增稠剂为5
‑
20份。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料及工艺，其特征在于，制备原料包括：水性溶剂，无机色浆，无机链接料，气相二氧化硅，添加剂。2.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，水性溶剂选自二乙二醇丁醚、二乙二醇叔丁醚、二丙二醇甲醚、三丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚中的一种或几种的组合。3.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，无机色浆选自钛白粉、氧化铝、氧化锌、高熔点玻璃粉、亚钛粉、硫酸钡中的一种或几种的组合。4.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，无机链接料为低熔点玻璃粉。5.根据权利要求1所述的一种防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，制备原料以重量份计包括：水性溶剂为10
‑
30份，无机色浆为30
‑
40份，无机链接料30
‑
40份，添加剂为5
‑
25份，气相二氧化硅为0
‑
0.5份。6.根据权利要求1所述的防止双玻组件背板PID发黑的高漫反射玻璃釉料，其特征在于，添加...

【专利技术属性】
技术研发人员：路雪飞，王晓亮，
申请(专利权)人：焕澄上海新材料科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：