【技术实现步骤摘要】
一种用于PVD离子源靶材的水冷结构
[0001]本技术属于离子源冷却系统领域,尤其涉及一种用于PVD离子源靶材的水冷结构。
技术介绍
[0002]PVD是物理气相沉积的英文缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离,利用电场加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。对靶材未暴露面降温可延长靶材使用寿命,保护离子源其他零件正常运行,因此靶材部分的冷却水路尤为重要。目前PVD离子源对靶材的冷却水路的密封普遍采用在8至10毫米的无氧铜板与水路板之间设置橡胶密封圈的方式进行密封,靶材置于无氧铜板上。但这种密封方式由于铜板较厚,会使靶材距离水路较远,靶材与铜板间会有接触不紧密现象,导致冷却效果不好。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是提供一种冷却效果好的用于PVD离子源靶材的水冷结构。
[0004]为实现上述目的,本技术采用如下技术方案:一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,包括设置中心孔的靶材固定法兰盘、固设于靶材固定法兰盘中心孔内的靶材 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:包括设置中心孔的靶材固定法兰盘(3)、固设于靶材固定法兰盘(3)中心孔内的靶材托盘(5)和可拆卸连接于靶材固定法兰盘(3)下侧的水路板(1),所述靶材托盘(5)由不锈钢薄板制成,靶材托盘(5)设有冲压槽(4),靶材托盘(5)与水路板(1)之间设有可通过冷却水的冷却水路,水路板(1)设有进水孔(16)和出水孔(19),进水孔(16)和出水孔(19)均与冷却水路连通。2.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:不锈钢薄板的厚度为0.2mm~1.5mm。3.如权利要求2所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:不锈钢薄板的厚度为0.5mm。4.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:所述靶材托盘(5)为圆盘,所述冲压槽(4)为沿靶材托盘(5)边沿设置的圆环形凹槽。5.如权利要求4所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:靶材托盘(5)的边沿被夹在靶材固定法兰盘(3)与水路板(1)之间。6.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:水路板(1)设有水槽,水槽的槽底面(20)上侧固设有间隔相对的两围板(9)以及由内至外环环相套的数个弧形折流板(12),所述弧形折流板(12)两端分别为...
【专利技术属性】
技术研发人员:侯瑞,张鹏蛟,李俊周,张月林,孙安,张鸿,宋杰,刘友春,许世全,李玉斌,
申请(专利权)人:安德信科技集团有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。