一种用于PVD离子源靶材的水冷结构制造技术

技术编号:33755616 阅读:70 留言:0更新日期:2022-06-08 22:07
本实用新型专利技术公开了一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,属于离子源冷却系统领域,包括设置中心孔的靶材固定法兰盘、固设于靶材固定法兰盘中心孔内的靶材托盘和可拆卸连接于靶材固定法兰盘下侧的水路板,所述靶材托盘由不锈钢薄板制成,靶材托盘设有冲压槽,靶材托盘与水路板之间设有可通过冷却水的冷却水路,水路板设有进水孔和出水孔,进水孔和出水孔均与冷却水路连通,本实用新型专利技术是一种冷却效果好的用于PVD离子源靶材的水冷结构。于PVD离子源靶材的水冷结构。于PVD离子源靶材的水冷结构。

【技术实现步骤摘要】
一种用于PVD离子源靶材的水冷结构


[0001]本技术属于离子源冷却系统领域,尤其涉及一种用于PVD离子源靶材的水冷结构。

技术介绍

[0002]PVD是物理气相沉积的英文缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离,利用电场加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。对靶材未暴露面降温可延长靶材使用寿命,保护离子源其他零件正常运行,因此靶材部分的冷却水路尤为重要。目前PVD离子源对靶材的冷却水路的密封普遍采用在8至10毫米的无氧铜板与水路板之间设置橡胶密封圈的方式进行密封,靶材置于无氧铜板上。但这种密封方式由于铜板较厚,会使靶材距离水路较远,靶材与铜板间会有接触不紧密现象,导致冷却效果不好。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种冷却效果好的用于PVD离子源靶材的水冷结构。
[0004]为实现上述目的,本技术采用如下技术方案:一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,包括设置中心孔的靶材固定法兰盘、固设于靶材固定法兰盘中心孔内的靶材托盘和可拆卸连接于靶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:包括设置中心孔的靶材固定法兰盘(3)、固设于靶材固定法兰盘(3)中心孔内的靶材托盘(5)和可拆卸连接于靶材固定法兰盘(3)下侧的水路板(1),所述靶材托盘(5)由不锈钢薄板制成,靶材托盘(5)设有冲压槽(4),靶材托盘(5)与水路板(1)之间设有可通过冷却水的冷却水路,水路板(1)设有进水孔(16)和出水孔(19),进水孔(16)和出水孔(19)均与冷却水路连通。2.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:不锈钢薄板的厚度为0.2mm~1.5mm。3.如权利要求2所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:不锈钢薄板的厚度为0.5mm。4.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:所述靶材托盘(5)为圆盘,所述冲压槽(4)为沿靶材托盘(5)边沿设置的圆环形凹槽。5.如权利要求4所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:靶材托盘(5)的边沿被夹在靶材固定法兰盘(3)与水路板(1)之间。6.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构,其特征在于:水路板(1)设有水槽,水槽的槽底面(20)上侧固设有间隔相对的两围板(9)以及由内至外环环相套的数个弧形折流板(12),所述弧形折流板(12)两端分别为...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯瑞张鹏蛟李俊周张月林孙安张鸿宋杰刘友春许世全李玉斌
申请(专利权)人:安德信科技集团有限公司
类型:新型
国别省市:

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