一种单银层HTLE玻璃制造技术

本发明专利技术公开了一种单银层HTLE玻璃，包括钢化玻璃基板，所述钢化玻璃基板上表面由内向外依次磁控溅射有第一膜层介质层、第二膜层功能层和第三膜层介质层，所述第一膜层介质层是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层，所述第二膜层功能层是银铜合金膜层、银膜层或银铝合金膜层，所述第三膜层介质层是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层。化硅膜层或氧化锌铝膜层。化硅膜层或氧化锌铝膜层。

【技术实现步骤摘要】
一种单银层HTLE玻璃


[0001]本专利技术涉及一种低辐射玻璃，尤其是涉及一种单银膜层的HTLE玻璃。

技术介绍

[0002]近年来，为提高隔热效果，通常一块玻璃或两块玻璃基板采用低辐射(Low emission，low
‑
e)中空玻璃以降低辐射换热，其low
‑
e膜位于两块玻璃相对的一侧。为实现玻璃的低辐射，一般采用在线low
‑
e玻璃或双银层low
‑
e玻璃作为玻璃基板。在线low
‑
e玻璃是在玻璃制备过程中，往热的玻璃表面喷涂以锡盐为主要成分的化学溶液，形成单层具有一定低辐射性能的氧化锡(SnO 2)化合物薄膜而制成的。在线low
‑
e玻璃可见光透过率一般在0.7左右，膜层坚固耐用，该技术的主要不足在于：(一)在线low
‑
e玻璃的的膜层材料为半导体氧化物，其红外发射率在0.2左右，而一般金属膜(例如银膜)发射率小于0.1，因此在线low
‑
e玻璃隔热性能仍有进步空间；(二)在线low
‑
e玻璃的钢化过程是带膜钢化的，钢化过程可能产生颜色变化和变形等问题，因此全钢化中空玻璃一般不采用在线low
‑
e玻璃，非全钢化中空玻璃强度和安全性能有一定缺陷。双银层low
‑
e中空玻璃一般采用磁控溅射镀膜工艺，在玻璃表面镀制双银多层膜结构，其low
‑
e膜结构一般为玻璃基底/介质/银/屏蔽层/介质/银/屏蔽层/介质，这种low
‑
e膜发射率较低，一般为0.05～0.1，但由于膜结构中金属层较厚，可见光透过率较低，一般为0.4～0.5。
[0003]因此，迫切需要一种高强度、高可见光透过率、低辐射率、隔热性能好的玻璃来满足市场需要。

技术实现思路

[0004]针对上述存在的技术不足，本专利技术的目的是提供一种单银层HTLE玻璃，以解决
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]本专利技术提供一种单银层HTLE玻璃，包括钢化玻璃基板，所述钢化玻璃基板表面由内向外依次地磁控溅射有第一膜层介质层、第二膜层功能层和第三膜层介质层，所述第一膜层介质层是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层，所述第二膜层功能层是银铜合金膜层、银膜层或银铝合金膜层，所述第三膜层介质层是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层。
[0007]优选地，所述第一膜层介质层的厚度为35～45nm，所述第二膜层功能层的厚度为10～20nm，所述第三膜层介质层的厚度为30～40nm。
[0008]所述氧化锌铝膜层中氧化锌和氧化铝的质量比为98:2，银铜合金膜层或银铝合金膜层中银的质量分数为90％～95％。
[0009]本专利技术的有益效果在于：
[0010]1、本专利技术采用钢化玻璃作为基板，有效地提高了HTLE玻璃的结构强度，使得玻璃不易破碎，即使破碎后也不会掉落对人造成伤害，提高了其安全性。
[0011]2、采用包括但不限于磁控溅射法、电子束蒸发工艺将镀膜层溅射在钢化玻璃基板上，镀膜层与钢化玻璃基板间结合力强，镀膜层致密、均匀。
[0012]3、HTLE膜是单银层结构，银膜层厚度为15nm左右，低于双银层low
‑
e结构(两层银厚度之和大于20nm)，可以提供超过90％的红外反射率，从而实现低辐射率。两侧的介质层可以降低膜层的反射率，提高透过率，使得单银层结构可以兼具高可见光透过率和低辐射率，HTLE膜结构的玻璃可见光透光率超过0.75，辐射率低至0.05。
[0013]4、普通玻璃在室温环境下与室内的辐射换热系数约5.4W/(m 2
·
K)，采用HTLE玻璃后可降至0.42W/(m 2
·
K)。HTLE玻璃降低了辐射热损，提高了玻璃的隔热性能，降低了能源消耗。因此本专利技术可以实现单层玻璃高强度、高透光率、低辐射率、隔热性能好的统一。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本专利技术实施例提供的单银层HTLE玻璃的结构示意图；
[0016]附图标记说明：
[0017]1‑
钢化玻璃基板，2
‑
第一膜层介质层，3
‑
第二膜层功能层，4
‑
第三膜层介质层。
具体实施方式
[0018]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0019]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0020]实施例：
[0021]如图1所示，本专利技术提供了一种单银层HTLE玻璃，包括钢化玻璃基板1，所述钢化玻璃基板1表面由内向外依次地磁控溅射有第一膜层介质层2、第二膜层功能层3和第三膜层介质层4；所述第一膜层介质层2是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层，所述第二膜层功能层3是银铜合金膜层、银膜层或银铝合金膜层，所述第三膜层介质层4是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层。
[0022]所述第一膜层介质层2的厚度为35～45nm，所述第二膜层功能层3的厚度为10～20nm，所述第三膜层介质层4的厚度为30～40nm。
[0023]所述氧化锌铝膜层中氧化锌和氧化铝的质量比为98:2，银铜合金膜层或银铝合金膜层中银的质量分数为90％～95％
[0024]本专利技术单银层HTLE玻璃的制备方法包括以下步骤：
[0025]步骤1：钢化玻璃基板清洗干净并吹干，置于真空溅射区；
[0026]步骤2：在钢化玻璃基板上采用包括但不限于磁控溅射、电子束蒸发等工艺技术，以下简述为“磁控溅射”的方式沉积氧化锌层，所用靶材为氧化锌圆靶，其中氧化锌纯度为99.999％，电源为射频电源，功率为150～250W，工艺气体为纯氩气，气压为3mTorr，在室温下沉积。
[0027]步骤3：在氧化锌层上采用磁控溅射的方式沉积银层，所用靶材为Ag圆靶，其中银的纯度为99.99％，电源为直流电源，功率为150～250W，工艺气体为纯氩气，气压为3mT本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单银层HTLE玻璃，包括钢化玻璃基板(1)，其特征在于，所述钢化玻璃基板(1)上表面由内向外依次磁控溅射有第一膜层介质层(2)、第二膜层功能层(3)和第三膜层介质层(4)，所述第一膜层介质层(2)是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层，所述第二膜层功能层(3)是银铜合金膜层、银膜层或银铝合金膜层，所述第三膜层介质层(4)是氧化锌膜层、氮化硅膜层或氧化锌铝膜层。2.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶宏，龙林爽，
申请(专利权)人：邓凯，
类型：发明
国别省市：