当前位置: 首页 > 专利查询>中南大学专利>正文

单原子金属掺杂α-氢氧化钴纳米片及其制备方法和应用技术

技术编号:33744218 阅读:21 留言:0更新日期:2022-06-08 21:43
单原子金属掺杂α

【技术实现步骤摘要】
单原子金属掺杂
α

氢氧化钴纳米片及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及一种α

氢氧化钴纳米片及其制备方法和应用,具体涉及一种单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]电催化析氧反应(Oxygen evolution reaction,简称OER)是绿色能源系统(如:可逆金属

空气电池和全解水)的重要半反应,在能量储存和转换方面扮演着重要的作用。OER是典型的四电子反应,催化动力学缓慢,导致高的活化能垒。现有的电催化析氧催化剂主要为商用的贵金属Ir/C和RuO2/C,由于贵金属的稀缺性和稀有性,无法实现大规模生产。因此,开发低成本、高活性和高耐久性的非贵金属OER催化剂,以降低OER过电位和提高能量转换效率就十分迫切。
[0003]目前,已经开发的以廉价金属化合物为基础的OER催化剂,如氧化物、羟基氧化物、硒化物、硫化物和磷化物等,但是,这类催化剂会在催化剂/电解液和催化剂/载体电极界面处形成肖特基势垒,降低本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片,其特征在于:所述纳米片中,金属以单原子的形式呈散点状均匀分布于晶相

无定形混合相的二维α

氢氧化钴纳米片中;所述金属的质量分数为0.1~15%;所述金属包括钼、钨、钒、钌、铱、锰、铁或镍中的一种或几种。2.根据权利要求1所述单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片,其特征在于:所述单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片的厚度为2~7nm;所述单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片的比表面积为30~300m2·
g
‑1;所述单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片的表面有孔径为2~6nm的纳米孔。3.一种如权利要求1或2所述单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将金属氯盐、钴盐和草酸钠混合溶于有机溶剂中,室温下搅拌,得溶液A;将碱加入醇溶液中,室温下搅拌,得溶液B;(2)将步骤(1)所得溶液A、B进行超声混合,得溶液C;(3)将步骤(2)所得溶液C在密闭水热釜中进行溶剂热反应,自然冷却至室温,洗涤,离心,真空干燥,得单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片。4.根据权利要求3所述单原子金属掺杂α

氢氧化钴纳米片的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述金属氯盐、钴盐和草酸钠的摩尔比为0.05~0.20:1:5~13;所述有机溶剂与金属氯盐、钴盐和草酸钠总质量的体积质量比为1:0.05~0.10;所述碱与醇溶液的质量体积比为0.004~0.008:1;所述搅拌的转速均为200~2000r/min,时间均...

【专利技术属性】
技术研发人员:雷永鹏王启晨
申请(专利权)人:中南大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1