洁净室工艺辅料集成控制系统技术方案

本实用新型专利技术提供了一种洁净室工艺辅料集成控制系统，包括反应罐及安装于反应罐上的控制系统、处理系统；所述控制系统包括以下至少一种：搅拌控制单元、CIP/SIP控制单元、温度控制单元、液位控制单元、流量控制单元、PH控制单元、溶氧控制单元、物料转移控制单元、乳化控制单元；所述处理系统包括以下至少一种：均质机、离心机、超滤机、层析柱、纳滤机。纳滤机。纳滤机。

【技术实现步骤摘要】
洁净室工艺辅料集成控制系统


[0001]本技术涉及工艺辅料集成控制
，具体涉及一种洁净室工艺辅料集成控制系统。

技术介绍

[0002]在药品生产中，生产环境与生产条件的污染一般有微生物、粉尘、微粒、腐蚀、差错及交叉污染等。制药设备对生产中污染的防控包含两层意思，第一设备自身不对药物产生污染，也不会对环境产生污染；第二应具有有效控制污染手段。为此， GMP对直接参与药品生产的制药设备作了若干个指导性规定，其基本点是保证药品质量，防止在生产过程对药物可能造成的各种污染，以及可能影响环境和对人体健康的危害等因素。因此，制药设备的设计要符合GMP的要求，减少污染因素，并对污染要有很好的防控。
[0003]制药配液系统主要应用于药液配制、过滤以及各类固、液制剂设备的清洗与灭菌过程，与传统的固体制剂设备产品在制药过程中相互衔接，制药配液系统参与制药全过程，对药品质量有着至关重要的影响。
[0004]现有的自动配液装置存在诸多不足之处。其中之一便是整体结构与形体不够简化，设备整体及必须暴露的局部(也包括某些直观可见的零件)过于复杂，设备本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种洁净室工艺辅料集成控制系统，其特征在于，包括反应罐及安装于反应罐上的控制系统、处理系统；所述控制系统包括以下至少一种：搅拌控制单元、CIP/SIP控制单元、温度控制单元、液位控制单元、流量控制单元、PH控制单元、溶氧控制单元、物料转移控制单元、乳化控制单元；所述处理系统包括以下至少一种：均质机、离心机、超滤机、层析柱、纳滤机。2.根据权利要求1所述的一种洁净室工艺辅料集成控制系统，其特征在于，所述反应罐上方有若干并联共用管道，各个管道上均设有电磁阀。3.根据权利要求1所述的一种洁净室工艺辅料集成控制系统，其特征在于，所述反应罐的罐体均采用立式双层结构，所述反应罐包括外罐体、内罐体。4.根据权利要求3所述的一种洁净室工艺辅料集成控制系统，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔静涛，向泽锐，
申请(专利权)人：四川科特空调净化有限责任公司，
类型：新型
国别省市：