【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】改变数值孔径时操作多粒子束系统的方法、相关联的计算机程序产品及多粒子束系统
[0001]本专利技术涉及用大量粒子束操作的粒子束系统。
技术介绍
[0002]就像单束粒子显微镜一样,多束粒子显微镜可以用于在微观尺度上分析物体。例如,可以使用这些粒子显微镜记录表示物体表面的物体的像。以这种方式,例如可以分析表面的结构。在单束粒子显微镜中,使用带电粒子(诸如电子、正电子、介子或离子)的单独粒子束来分析物体,而在多束粒子显微镜中,为此使用多个粒子束。多个粒子束(也被称为集束)被同时引导到物体表面上,因此,与相同时间段内的单束粒子显微镜相比,可以取样和分析显著更大的物体表面的面积。
[0003]WO 2005/024 881 A2公开了一种电子显微镜系统形式下的多粒子束系统,其使用大量电子束来操作,以便并行使用电子束的集束来扫描要检查的物体。通过将电子源所生成的电子束引入具有大量开口的多孔径板,来生成电子束的集束。电子束的一部分电子撞击多孔径板并由此板吸收,并且束的其他部分穿过该多孔径板中的开口,使得电子束在每个开口的下游的束 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种操作多粒子束系统的方法,其中所述粒子光学系统包括多个粒子光学部件,所述部件包括用于从一个粒子束生成带电的大量个体粒子束的多束发生器,并且所述部件实质上由所述个体粒子束或所述大量个体粒子束穿过,以及其中所述粒子光学部件对所述个体粒子束或所述大量个体粒子束的效果是可调节的,以及其中所述方法包括以下步骤:限定所述系统的第一工作点;在所述系统的所述第一工作点处设定所述粒子光学部件的效果(W11
…
Wn1),使得将第一平面通过所述个体粒子束的粒子以粒子光学方式成像到第二平面中,其中,当将所述设定施加至所述第一工作点时,所述粒子光学成像通过n个相互独立可调节的粒子光学参数p(p11
…
pn1)是可表征的,特别是完全可表征的,其中
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p11表示所述第一平面中相邻个体粒子束之间的束节距,
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p21表示所述第二平面中相邻个体粒子束之间的束节距,以及
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p31表示所述多束粒子光学单元相对于所述第二平面的数值孔径,其中当在所述第一工作点处施加所述设定时,以下参数的值会改变:
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所述第一平面中相邻个体粒子束之间的束节距,即p11,以及
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所述多束粒子光学单元相对于所述第二平面的数值孔径,即p31,并且其中在所述第一工作点处施加所述设定时,所述剩余参数p的值实质上保持恒定,因此以下参数p的值实质上也保持恒定:
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所述第二平面中相邻个体粒子束之间的束节距,即p21。2.如前述权利要求所述的方法,其中保持恒定的相互独立可调节的参数p的数量比所述系统中可用的粒子光学部件的所有效果Wij的数量少了至少一个。3.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中通过设定所述多束发生器的效果,来实质上设定所述第一平面中所述个体粒子束之间的节距变化,和/或其中通过在与所述多束发生器不同的粒子光学部件处设定效果,特别是通过在场透镜处设定效果,来实质上设定所述第二平面中的焦点。4.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述第二平面中的所述数值孔径被优化。5.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述第二平面中的所述数值孔径可改变至少10%和/或至少15%。6.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述粒子光学成像的分辨率被优化。7.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中迭代地设定所述第一工作点处的所述效果。8.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中设定所述效果包括设定电压和/或电流。9.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中在所述粒子光学系统上没有改变机械可调节的参数k;其中所述多束发生器的多孔径板中孔的直径和其相对于彼此的所述节距都没有改变;和/或其中所述多束发生器或其部件中的一个没有在结构上进行修改、没有全部或部分地替
换,并且没有就其位置进行移位;和/或其中所述第二平面的位置和所述物体的位置保持不变。10.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中工作点由以下参数中的至少一个限定:所述个体粒子束的电流强度、着陆能量、所述物体的位置、所述个体束源的直径。11.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述参数p描述所述多束粒子光学单元的光学特性,特别是在所述第一平面中所述个体粒子束的所述束节距、在所述第二平面中所述个体粒子束的所述束节距、所述第二平面的位置、所述个体粒子束的远心度和/或所述个体粒子束的旋转。12.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述第一平面为中间像平面和/或所述第二平面为物平面。13.如前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述多束发生器包括多透镜阵列和/或所述第一平面中的像为实中间像。14.如权利要求1至12中的任一项所述的方法,其中所述多束发生器包括多偏转器阵列和/或所述第一平面中的所述像为虚中间像。15.如前述权利要求中的任一项所述的方法,所述方法还包括以下:限定所述系统的第二工作点;在所述系统的所述第二工作点处设定所述粒子光学部件的效果(W12
…
Wn2),以使将所述第一平面通过所述个体粒子束的粒子以粒子光学方式成像到所述第二平面中,其中,当将所述设定施加至所述第二工作点时,所述粒子光学成像再次由所述n个...
【专利技术属性】
技术研发人员:H弗里茨,I米勒,
申请(专利权)人:卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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