二氧化硅纳米片及其制备方法与叠层结构技术

本公开的实施例提供一种二氧化硅纳米片及其制备方法与叠层结构，该制备方法包括：形成层状双金属氢氧化物溶胶；在所述层状双金属氢氧化物溶胶中加入硅源材料，所述硅源材料至少以所述层状双金属氢氧化物溶胶中单分散的层状双金属氢氧化物为模板在所述单分散的层状双金属氢氧化物的主表面形成二氧化硅纳米片，将通过该制备方法形成的二氧化硅纳米片用于化学机械抛光中时，可以避免研磨粒子滚动摩擦的比例过大导致的平均摩擦系数过小、机械作用减弱，不利于提高材料去除速率的问题。不利于提高材料去除速率的问题。不利于提高材料去除速率的问题。

【技术实现步骤摘要】
二氧化硅纳米片及其制备方法与叠层结构


[0001]本公开的实施例涉及一种二氧化硅纳米片、二氧化硅纳米片的制备方法以及二氧化硅纳米片的叠层结构。

技术介绍

[0002]化学机械抛光（CMP）工艺已经成为广泛应用的全局平坦化技术之一。CMP工艺中所用到的化学机械抛光液通常包括研磨粒子、氧化剂、pH调节剂、腐蚀抑制剂和分散剂等。研磨粒子是CMP抛光液的主要成分，通常采用二氧化硅、二氧化铈和三氧化二铝等无机纳米粒子，且二氧化硅纳米粒子已经成为化学机械抛光中最主要的研磨粒。
[0003]纳米材料在工业催化、环境保护、载药和生命科学等领域得到了广泛的应用。二维多孔纳米材料具有孔容量和比表面积大等特点，特别是介孔二维纳米材料在光、电、磁、催化、生物医药、传感和纳米工程等方面都有巨大的潜在应用价值。

技术实现思路

[0004]本公开至少一实施例提供一种二氧化硅纳米片、二氧化硅纳米片的制备方法以及二氧化硅纳米片的叠层结构，该制备方法包括：形成层状双金属氢氧化物溶胶，并以单分散的层状双金属氢氧化物为模板且在单分散的层状双金属氢氧化物的主表面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅纳米片的制备方法，包括：形成层状双金属氢氧化物溶胶；在所述层状双金属氢氧化物溶胶中加入硅源材料，所述硅源材料至少以所述层状双金属氢氧化物溶胶中单分散的层状双金属氢氧化物为模板在所述单分散的层状双金属氢氧化物的主表面形成二氧化硅纳米片。2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述层状双金属氢氧化物溶胶包括水滑石或者类水滑石溶胶，所述单分散的层状双金属氢氧化物包括单分散的水滑石或者类水滑石。3.根据权利要求1所述的制备方法，其中，在加入所述硅源材料之前，还包括在所述层状双金属氢氧化物溶胶中加入非离子表面活性剂。4.根据权利要求3所述的制备方法，其中，在加入所述硅源材料之前，还包括在所述层状双金属氢氧化物溶胶中加入孔径调节剂，所述非离子表面活性剂对所述孔径调节剂进行包覆以形成包覆结构，所述包覆结构吸附在所述单分散的层状双金属氢氧化物的主表面以形成凸起部。5.根据权利要求4所述的制备方法，其中，所述硅源材料以形成有所述凸起部的所述单分散的层状双金属氢氧化物为模板形成所述二氧化硅纳米片，所述二氧化硅纳米片具有介孔且所述介孔和所述凸起部一一对应。6.根据权利要求5所述的制备方法，其中，所述二氧化硅纳米片中介孔的孔径范围为10 nm~24 nm。7.根据权利要求1~6中任一项所述的制备方法，其中，所述二氧化硅纳米片的厚度范围为4 nm~8 nm。8.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述单分散的层状双金属氢氧化物的外轮廓的形状为多边形、圆形或者椭圆形，且所述二氧化硅纳米片的外轮廓的形状与所述单分散的层状双金属氢氧化物的外轮廓的形状基本相同。9.根据权利要求8所述的制备方法，其中，所述单分散的层状双金属氢氧化物在垂直于其厚度方向的平面上的最大尺寸为100 nm~2000 nm，且所述二氧化硅纳米片在垂直于其厚度方向的平面上的最大尺寸为100 nm~2000 nm。10.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述单分散的层状双金属氢氧化物的主表面包括彼此相对的第一主表面和第二主表面，在所述单分散的层状双金属氢氧化物的所述第一主表面和所述第二主表面上均形成有所述二氧化硅纳米片。11.根据权利要求1所述的制备方法，其中，以所述单分散的层状双金属氢氧化物为模板形成所述二氧化硅纳米片之后，还包括对所述单分散的层状双金属氢氧化物和所述二氧化硅纳米片的复合材料在酸性条件下进行处理去除所述单分散的层状双金属氢氧化物。12.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述形成层状双金属氢氧化物溶胶包括：将氢氧化钠溶于去离子水中形成第一溶液, 将氯化镁和氯化铝溶于去离子水中形成第二溶液，将所述第一溶液和所述第二溶液混合并进行搅拌，形成白色沉淀后再继续搅拌，然后离心分离并洗涤得到所述白色沉淀，将所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军政，
申请(专利权)人：北洋研创天津科技有限公司，
类型：发明
国别省市：