油液发射光谱仪的光源增强装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种油液发射光谱仪的光源增强装置，油液发射光谱仪的光源发出的光经聚光镜会聚于分光单元的入射狭缝，在光源相反于入射狭缝的一侧布置有反射镜，该反射镜、该光源以及该聚光镜位于一条直线上，而且该反射镜的焦距是该反射镜到该光源之间距离的一半，使得该光源发出的光经该反射镜反射后会聚于该光源位置。本发明专利技术能够将光源相反于聚光镜一侧的光经该反射镜反射后再会聚于该光源位置，从而将该光源的能量补强。将该光源的能量补强。将该光源的能量补强。

【技术实现步骤摘要】
油液发射光谱仪的光源增强装置


[0001]本专利技术涉及一种油液发射光谱仪，特别涉及其中的光源增强装置。

技术介绍

[0002]如图1所示，油液发射光谱仪的光源1发出的光经聚光镜2会聚于分光单元的入射狭缝3，经分光系统分光进而进行相关分析。
[0003]其中，光源1发射的光辐射是向四面八方辐射的，而传统光路只是把光源1中朝向聚光镜2的那一部分光会聚于分光系统的入射狭缝3，存在光源辐射能量利用率不高的缺点。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于：提供一种油液发射光谱仪的光源增强装置，解决现有技术中存在的上述技术问题。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：
[0006]一种油液发射光谱仪的光源增强装置，油液发射光谱仪的光源发出的光经聚光镜会聚于分光单元的入射狭缝，其特征在于：
[0007]在光源相反于入射狭缝的一侧布置有反射镜，该反射镜、该光源以及该聚光镜位于一条直线上，而且该反射镜的焦距是该反射镜到该光源之间距离的一半，使得该光源发出的光经该反射镜反射后会聚于该光源位置。
[0008]其中：该反射镜靠近光源的一侧为透镜结构，在透镜结构相反于光源的一侧镀反射膜。
[0009]本专利技术的优点是：光源发出的光经该反射镜反射后正好会聚于该光源位置，从而将该光源的能量补强。此外，本专利技术的反射镜靠近光源的一侧为透镜结构，反射膜布置在透镜结构相反于光源的一侧，当光源产生的油雾沾染反射镜时，仅沾染在透镜结构上，该透镜结构可以放心擦拭清洗，而反射膜不会受损，因此反射镜的寿命高。
附图说明
[0010]图1是现有油液发射光谱仪的光源光路示意图。
[0011]图2是本专利技术提供的油液发射光谱仪的光源光路示意图。
[0012]附图标记说明：光源1；聚光镜2；入射狭缝3；反射镜4；透镜结构41；反射膜42。
具体实施方式
[0013]本专利技术提供一种油液发射光谱仪的光源增强装置，油液发射光谱仪的光源1发出的光经聚光镜2会聚于分光单元的入射狭缝3，经分光系统分光进而进行相关分析，这部分结构与现有技术是一致的；
[0014]如图2所示，本专利技术与现有光路相比，是在光源1相反于入射狭缝3的一侧布置有反
射镜4，该反射镜4、该光源1以及该聚光镜2位于一条直线上，而且该反射镜4的焦距是该反射镜4到该光源1之间距离的一半，使得该光源1发出的光经该反射镜4反射后正好会聚于该光源1位置，从而将该光源1的能量补强。
[0015]由于油液发射光谱仪的光源1在发光的同时会产生油雾，油雾容易沾染到反射镜4朝向光源1的一侧，影响反射效率而需要时常擦拭，在擦拭的过程中容易破坏镜面，导致反射效率永久降低。为此，本专利技术的反射镜4靠近光源1的一侧为透镜结构41，并在透镜结构41相反于光源1的一侧镀反射膜42(即镀内反射膜42)。如此一来，当光源1产生的油雾沾染反射镜4时，仅沾染在透镜结构41上，该透镜结构41可以放心擦拭清洗，而反射膜42不会受损，因此反射镜4的寿命高。
[0016]以上说明对本专利技术而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本专利技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种油液发射光谱仪的光源增强装置，油液发射光谱仪的光源发出的光经聚光镜会聚于分光单元的入射狭缝，其特征在于：在光源相反于入射狭缝的一侧布置有反射镜，该反射镜、该光源以及该聚光镜位于一条直线上，而且该反射镜的焦距是该反射镜...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵燕秋，姜伟，
申请(专利权)人：北京北分瑞利分析仪器集团有限责任公司，
类型：发明
国别省市：