一种提升特征不明显缺陷辨识度的方法技术

一种提升特征不明显缺陷辨识度的方法，包括：进行缺陷扫描，并通过扫描图像与参考图像对比，获得缺陷图像；根据图像块判断是否需要添加对比缺陷坐标；根据判断标准之第一原则，若需添加对比缺陷坐标，则添加对比缺陷坐标，命名为缺陷识别码，定义为对比图像；根据判断标准之第二原则，若无需添加对比缺陷坐标，则正常生成缺陷图谱；在添加对比缺陷坐标后，进行缺陷检测，并将对比图像同步检测且输出。本发明专利技术提升特征不明显缺陷辨识度的方法不仅使得特征不明显之缺陷辨识高效、快速，而且更为直观方便，值得业界推广使用。值得业界推广使用。值得业界推广使用。

【技术实现步骤摘要】
一种提升特征不明显缺陷辨识度的方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种提升特征不明显缺陷辨识度的方法。

技术介绍

[0002]现阶段半导体行业领域技术愈发成熟及先进，线宽越做越小，产品组成也越来越多，相应的缺陷种类随之增多，而对于缺陷观测及判断提出了更多的要求。正如大家所知晓地，在缺陷检测过程中经常会遇见，缺陷特征不明显，如图像(Pattern)的轻微变形、空洞尺寸的轻微差异等，此类型缺陷仅能通过对比照片发现差异，因此在实际操作过程中比较容易被忽视，误认为无异常而未发布缺陷通知。
[0003]另外，针对上述特征不明显之缺陷进行高效、快速的辨识，目前还未有较好的办法，现有的方法时效性及准确性均较差，且易受人为因素影响。现有通常的操作方法是在首次缺陷检测(Review)后若未发现异常，工程师一般会进行第二次检测(Review)并手动进行对比照片的拍照，以确认缺陷情况。显然地，所述操作方法不仅浪费机时及人力，而且存在较大遗漏的风险。
[0004]寻求一种针对特征不明显之缺陷可进行高效、快速的辨识方法已成为本领域本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种提升特征不明显缺陷辨识度的方法，其特征在于，所述提升特征不明显缺陷辨识度的方法，包括：执行步骤S1：进行缺陷扫描，并通过扫描图像(Candidate Image)与参考图像(Reference Image)对比，获得缺陷(Defect)图像；执行步骤S2：根据图像块(Patch Image)判断是否需要添加对比缺陷(Defect)坐标；执行步骤S3：根据判断标准之第一原则，若需添加对比缺陷(Defect)坐标，则添加对比缺陷(Defect)坐标，命名为缺陷识别码(Defect ID)，定义为对比图像(Compare Image)；根据判断标准之第二原则，若无需添加对比缺陷(Defect)坐标，则正常生成缺陷图谱(Defect Map)；执行步骤S4：在添加对比缺陷坐标后，进行缺陷检测(Defect Review)，并将对比图像(Compare Image)同步检测且输出。2.如权利要求1所述提升特征不明显缺陷辨识度的方法，其特征在于，所述判...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪金凤，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：