显示面板及其制备方法、显示终端技术

本发明专利技术提供一种显示面板及其制备方法、显示终端，显示面板包括衬底基板、遮光层、缓冲层以及有源层，有源层的材料为多晶硅，有源层包括沟道部以及位于沟道部两侧的源极接触部和漏极接触部，沟道部在遮光层上的正投影位于遮光层上，衬底基板面向遮光层的一侧设置有第一凹槽，遮光层位于第一凹槽内；本发明专利技术通过在衬底基板面向遮光层的一侧设置第一凹槽，将遮光层设置于第一凹槽内，以减小遮光层在衬底基板上的凸起，从而减小缓冲层在遮光层的边界处形成的凸起，避免多晶硅在晶化过程中晶界在凸起处聚集造成的群亮暗点，从而可以提升产品良率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法、显示终端


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示终端。

技术介绍

[0002]低温多晶硅液晶显示(Low Temperature Poly
‑
silicon Liquid Crystal Display，LTPS LCD)面板行业中，群亮暗点是一种常见不良，其主要原因是非晶硅(A
‑
si)在进行准分子激光退火(Excimer Laser Annealing，ELA)晶化时激光扫描方向与子像素(sub
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Pixel)排布方向垂直，导致有源层与遮光层的交叠部位与ELA晶化形成的晶界平行，造成晶界在有源层与遮光层的交叠部位聚集，导致此处电子传输异常，最终造成子像素出现暗点或亮点不良。
[0003]目前，现有技术是在玻璃基板表面形成遮光层等膜层，此种结构的遮光层是在玻璃基板上凸出一块，导致后续沉积的缓冲层在遮光层的边界处形成凸起，最终导致多晶硅在晶化过程中晶界在凸起处聚集，最终出现群亮暗点。为改善群亮暗点，目前主要从大板排版(竖向本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板；遮光层，位于所述衬底基板上；缓冲层，位于所述衬底基板上，所述缓冲层覆盖所述遮光层；有源层，位于所述缓冲层上，所述有源层的材料为多晶硅，所述有源层包括沟道部以及位于所述沟道部两侧的源极接触部和漏极接触部，所述沟道部在所述遮光层上的正投影位于所述遮光层上；其中，所述衬底基板面向所述遮光层的一侧设置有第一凹槽，所述遮光层位于所述第一凹槽内。2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的出光方向上，所述第一凹槽的深度大于0且小于或等于所述遮光层的厚度。3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板包括第一衬底层和第二衬底层，所述第二衬底层位于所述第一衬底层面向所述遮光层的一侧表面，所述第一凹槽位于所述第二衬底层上。4.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬底层为玻璃基板，所述第二衬底层为氧化硅膜。5.如权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在所述显示面板的出光方向上，所述第二衬底层的厚度等于所述第一凹槽的深度。6.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建龙，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：