真空阀及推断装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种真空阀及推断装置，可精度良好地推断测量延迟量，从而可更适当地进行调压控制。真空阀包括：阀主体，装设于真空泵与真空腔室之间；调压控制部，基于由真空计测量的真空腔室的压力测量值，对阀主体的阀体开度进行控制；以及推断部，基于包含压力测量值的二阶微分项且表示真空排气系统相对于真空腔室的有效排气速度与压力测量值的关系的排气式子、以及在使阀体开度阶段变化时的压力响应中测量的压力测量值，推断相对于真空腔室的压力的压力测量值的测量延迟时间，调压控制部基于由推断部推断的测量延迟时间，对阀体开度进行控制。控制。控制。

【技术实现步骤摘要】
真空阀及推断装置


[0001]本专利技术涉及一种真空阀及推断装置。

技术介绍

[0002]在半导体工艺(干式蚀刻等)中，工艺气体经由流量控制器而被导入腔室。在腔室内，利用所导入的气体对晶片表面施以蚀刻、成膜等物理、化学处理，并向腔室下游排出。被导入腔室的工艺气体预先决定了气体种类、导入气体流量Qin等条件，且通过流量控制器进行调节以达到所述条件。腔室压力Pr也是重要的工艺条件之一。腔室压力由真空计测量，且通过对阀的阀体开度位置进行控制来调节排气流量以使其达到预先决定的规定压力值，并保持于规定压力值。
[0003]通常，工艺条件在不同的条件下有多个阶段，所述各阶段中的条件(条件1、条件2、
…
)各自按各个规定时间进行切换处理。此时，为了确保制造工艺的均一性，需要在阶段之间的切换时间点迅速且顺畅地收敛为下一规定的压力值(目标压力值)。因此，作为阀，使用通过马达对阀体进行驱动控制的自动压力调整阀(APC(automatic pressure control)阀)。
[0004]在APC阀中，作为使用时的准备而进行初始本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空阀，其特征在于，包括：阀主体，装设于真空泵与真空腔室之间；开度控制部，基于由真空计测量的所述真空腔室的压力测量值，对所述阀主体的阀体开度进行控制；以及推断部，基于包含所述压力测量值的二阶微分项且表示真空排气系统相对于所述真空腔室的有效排气速度与压力测量值的关系的排气式子、以及在使阀体开度阶段变化时的压力响应中测量的压力测量值，推断相对于所述真空腔室的压力的压力测量值的测量延迟信息，所述开度控制部基于由所述推断部推断的测量延迟信息，对阀体开度进行控制。2.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于，还包括存储部，所述存储部存储有阀体开度以及与已知的气体种类相关的有效排气速度的关联数据，所述推断部在推断所述测量延迟信息的基础上，进而基于所述关联数据推断所述真空腔室中所导入的气体的气体种类特性值，所述开度控制部基于所推断的所述测量延迟信息以及所述气体种类特性值，对阀体开度进行控制。3.根据权利要求1所述的真空阀，其特征在于，所述推断部基于在所述排气式子中应用与已知的气体种类相关的有效排气速度而经线性化的排气式子、以及在使所述阀体开度减少时的压力响应中测量的压力测量值，在推断所述测量延迟信息的基础上，进而推断所述真空腔室中所导入的气体的气体种类特性值及所述真空腔室的容积，所述开度控制部基于所推断的所述测量延迟信息以及所述气体种类特性值，对阀体开度进行控制。...

【专利技术属性】
技术研发人员：小崎纯一郎，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：