一种高纯四氟化硅裂解反应器制造技术

一种高纯四氟化硅裂解反应器，涉及四氟化硅制备技术领域。高纯四氟化硅裂解反应器包括反应器本体，由柱形侧壁、半球形底壁和顶壁围成，半球形底壁上开设有排污口，排污口上盖设有与半球形底壁配合的曲形挡板；加热装置，设置在侧壁的外侧；刮刀组件，连接至顶壁；刮刀组件包括竖直伸缩机构、对称设置在竖直伸缩杆两侧且的支撑杆，以及连接至支撑杆的多个半圆刮刀，半圆刮刀的外径、柱形侧壁内径和半球形底壁的内径相同；清洗组件；污垢收集箱，连接至半球形底壁；数据终端，连接至刮刀组件、清洗组件、反应器本体和加热装置。上述高纯四氟化硅裂解反应器能够在不拆卸裂解反应器的情况下对裂解反应器内部进行清洗，并且通过高压水彻底排污。底排污。底排污。

【技术实现步骤摘要】
一种高纯四氟化硅裂解反应器


[0001]本专利技术涉及四氟化硅制备
，具体而言，涉及一种高纯四氟化硅裂解反应器。

技术介绍

[0002]四氟化硅（SiF4）在四卤代硅烷族化合物中具有最高的硅原子比例（约27%），稳定的Si
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F化学键能（541.0 kJ/mol），以及不易燃、不易爆的特点。四氟化硅在电子和半导体行业中主要用于low
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k值SiO2的化学气相沉积、含氟离子掺杂以及氮化硅、硅化钽的蚀刻剂。
[0003]四氟化硅的制备方法包括二氧化硅萤石硫酸法、氟硅酸盐裂解法、氟硅酸盐硫酸法等。其中，氟硅酸盐裂解法的特点是避免了浓硫酸的使用，不产生硫酸钙浆状废渣，更进一步提高了安全和环保性。但是在裂解过程中随着裂解的进行，原料与裂解反应器接触的侧壁和底壁上会生成二氧化硅，上述固体二氧化硅与反应器接触紧密，需要在反应结束后打开反应器进行清洗，不利于反应的连续化。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种高纯四氟化硅裂解反应器，其能够在不拆卸裂解反应器的情况下对裂解反应器内部进行清洗，并且通过高压水彻底排污。
[0005]本专利技术的实施例是这样实现的：一种高纯四氟化硅裂解反应器，其包括反应器本体，其上端设置有加料口、产品气出口和抽真空口；反应器本体由柱形侧壁、半球形底壁和顶壁围成，半球形底壁上开设有排污口，排污口上盖设有与半球形底壁配合的曲形挡板；加热装置，设置在侧壁的外侧；刮刀组件，设置在高纯四氟化硅裂解反应器内且连接至顶壁；刮刀组件包括竖直伸缩机构、对称设置在竖直伸缩杆两侧且转动连接至竖直伸缩杆的支撑杆，以及连接至支撑杆且水平设置的多个半圆刮刀，半圆刮刀的外径、柱形侧壁内径和半球形底壁的内径相同；清洗组件，包括多个设置在顶壁的安装座和转动安装至安装座的高压水喷头；污垢收集箱，连接至半球形底壁且能够通过排污口与反应器本体连通；数据终端，连接至刮刀组件、清洗组件、反应器本体和加热装置。
[0006]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述竖直伸缩机构包括从内至外依次套设的第一内伸缩管、第二内伸缩管、外伸缩管，以及传动组件，传动组件连接至第一内伸缩管、第二内伸缩管和外伸缩管。
[0007]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述传动组件包括两侧设置有齿条且连接至第一内伸缩管的传动板、对称设置在外伸缩管内壁且与齿条平行设置的外齿条，以及与外齿条和齿条配合的齿轮、固定连接至齿轮中心的转轴，以及连接至转轴的第一电机，转轴与第二内伸缩管活动连接。
[0008]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述第二内伸缩管上开设有允许齿轮贯穿的通孔，第二内伸缩管上设置有向内延伸且靠近通孔的安装板，转轴与安装板通过轴承滑动连接。
[0009]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述外伸缩管的内壁开设有两个容纳外齿条的容纳槽。
[0010]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述外齿条和齿条的两端设置有限位块。
[0011]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述连接至同一支撑杆的多个半圆刮刀在竖直方向上间隔设置。
[0012]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述柱形侧壁上还设置有高温氮气入口。
[0013]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述安装座包括两个相对设置的连接臂、水平延伸的连接轴，以及连接至连接轴的第二电机；连接轴活动连接至连接臂；高压水喷头固定连接至连接轴。
[0014]进一步地，在本专利技术较佳的实施例中，上述支撑杆固定连接至水平设置的支撑转轴，支撑转轴与第一内伸缩管活动连接，支撑转轴连接至支撑电机。
[0015]与现有技术相比，本专利技术高纯四氟化硅裂解反应器的有益效果是：一种高纯四氟化硅裂解反应器，能够通过刮刀组件和清洗组件对高纯四氟化硅裂解反应器内部进行彻底清理，彻底清除反应结束后留在侧壁和内壁的SiO2，提升了整个工艺的自动化程度，若多个高纯四氟化硅裂解反应器并联使用，能够达到连续化生产，且无需人工操作。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0017]图1为本专利技术实施例高纯四氟化硅裂解反应器的结构示意图；图2为本专利技术实施例竖直伸缩机构的结构示意图；图3为本专利技术实施例反应器本体和刮刀组件的结构示意图；图4为图1中A处的放大图；图5为顶壁和清洗组件的结构示意图。
[0018]图标：100
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高纯四氟化硅裂解反应器；110
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反应器本体；120
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加热装置；130
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刮刀组件；150
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清洗组件；160
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污垢收集箱；170
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数据终端；111
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柱形侧壁；112
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半球形底壁；113
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顶壁；114
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加料口；115
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产品气出口；116
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抽真空口；117
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高温氮气入口；118
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排污口；119
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弧形挡板；131
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竖直伸缩机构；132
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支撑杆；133
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半圆刮刀；134
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第一内伸缩管；135
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第二内伸缩管；136
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外伸缩管；141
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传动组件；142
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传动板；143
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外齿条；144
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齿轮；145
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转轴；146
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第一电机；147
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齿条；148
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容纳槽；149
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限位块；151
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安装座；152
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高压水喷头；153
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连接臂；154
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连接轴；155
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第二电机；191
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第一方向；193
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第三方向；194
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安装圆；195
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安装板。
具体实施方式
[0019]为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例
中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0020]因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高纯四氟化硅裂解反应器，其特征在于，其包括反应器本体，其上端设置有加料口、产品气出口和抽真空口；所述反应器本体由柱形侧壁、半球形底壁和顶壁围成，所述半球形底壁上开设有排污口，所述排污口上盖设有与所述半球形底壁配合的曲形挡板；加热装置，设置在所述侧壁的外侧；刮刀组件，设置在所述高纯四氟化硅裂解反应器内且连接至所述顶壁；所述刮刀组件包括竖直伸缩机构、对称设置在所述竖直伸缩杆两侧且转动连接至所述竖直伸缩杆的支撑杆，以及连接至所述支撑杆且水平设置的多个半圆刮刀，所述半圆刮刀的外径、所述柱形侧壁内径和所述半球形底壁的内径相同；清洗组件，包括多个设置在所述顶壁的安装座和转动安装至所述安装座的高压水喷头；污垢收集箱，连接至所述半球形底壁且能够通过排污口与所述反应器本体连通；数据终端，连接至所述刮刀组件、所述清洗组件、所述反应器本体和所述加热装置。2.根据权利要求1所述的一种高纯四氟化硅裂解反应器，其特征在于，所述竖直伸缩机构包括从内至外依次套设的第一内伸缩管、第二内伸缩管、外伸缩管，以及传动组件，所述传动组件连接至所述第一内伸缩管、所述第二内伸缩管和所述外伸缩管。3.根据权利要求2所述的一种高纯四氟化硅裂解反应器，其特征在于，所述传动组件包括两侧设置有齿条且连接至所述第一内伸缩管的传动板、对称设置在所述外伸缩管内壁且与所述齿条平行设置的外齿条，以及与所述外...

【专利技术属性】
技术研发人员：马建修，靖宇，杜文东，
申请(专利权)人：舟山福元企业管理合伙企业有限合伙，
类型：发明
国别省市：