一种对象的外观探测系统、方法、装置及电子设备制造方法及图纸

技术编号:33617485 阅读:35 留言:0更新日期:2022-06-02 00:35
本申请公开一种对象的外观探测系统、方法、装置及电子设备,属于雷达探测技术领域,该系统包括:反射板、雷达、电磁场探测器和计算设备,其中,反射板可对雷达发射的部分电磁波进行反射,雷达可接收反射板反射的第一电磁波和未被反射的第二电磁波探测到对象后的回波,电磁场探测器可测量第一电磁波和第二电磁波的回波干涉形成的磁场中不同位置处的磁场信息,然后,由计算设备读取电磁场探测器测量到的不同位置处的磁场信息,基于建立的磁场信息与电磁波透过率之间的映射关系,确定各位置处的磁场信息对应的电磁波透过率,基于各位置对应的电磁波透过率,构建虚拟介质,模拟电磁波穿过虚拟介质时的衍射过程,得到对象的三维外观数据并输出。据并输出。据并输出。

【技术实现步骤摘要】
一种对象的外观探测系统、方法、装置及电子设备


[0001]本申请涉及雷达探测
,尤其涉及一种对象的外观探测系统、方法、装置及电子设备。

技术介绍

[0002]雷达具有对光线不敏感且可进行远距离探测的特点,可很好地弥补摄像头在光线比较弱和远距离采集图像时的部分缺陷,因此,近年来提出了借助于雷达探测对象的三维外观的理念。但目前这种理念还停留在设想阶段,还未给出借助于雷达探测对象的三维外观的具体方案。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供一种对象的外观探测系统、方法、装置及电子设备,用以提供一种借助于雷达探测对象的三维外观的方案。
[0004]第一方面,本申请实施例提供一种对象的外观探测系统,包括:
[0005]反射板,用于对雷达发射的部分电磁波进行反射;
[0006]所述雷达,用于发射电磁波,接收所述反射板反射的第一电磁波和未被所述反射板反射的第二电磁波探测到对象后的回波;
[0007]电磁场探测器,用于对所述第一电磁波和所述第二电磁波的回波干涉形成的磁场中不同位置处的磁场信息进行测量,每本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种对象的外观探测系统,其特征在于,包括:反射板,用于对雷达发射的部分电磁波进行反射;所述雷达,用于发射电磁波,接收所述反射板反射的第一电磁波和未被所述反射板反射的第二电磁波探测到对象后的回波;电磁场探测器,用于对所述第一电磁波和所述第二电磁波的回波干涉形成的磁场中不同位置处的磁场信息进行测量,每一位置处的磁场信息至少包括磁场强度;计算设备,用于读取所述电磁场探测器测量到的不同位置处的磁场信息,基于建立的磁场信息与电磁波透过率之间的映射关系,确定各位置处的磁场信息对应的电磁波透过率;基于各位置对应的电磁波透过率,构建虚拟介质;模拟电磁波穿过所述虚拟介质时的衍射过程,得到所述对象的三维外观数据,输出所述三维外观数据。2.如权利要求1所述的系统,其特征在于,每一位置处的磁场信息还包括相位,所述雷达,还用于确定所述对象的速度,将所述速度发送给所述计算设备;所述计算设备,还用于若确定所述对象的速度超过设定速度,则基于建立的速度与相位之间的映射关系,确定所述对象的速度对应的相位;在确定各位置处的磁场信息对应的电磁波透过率之前,基于所述对象的速度对应的相位,对各位置处的相位进行修正处理。3.如权利要求2所述的系统,其特征在于,所述计算设备,具体用于以每个位置处的相位减去所述对象的速度对应的相位后的相位,作为所述位置处的新相位。4.如权利要求1

3任一所述的系统,其特征在于,所述计算设备,具体用于根据公式β=K*E*sinθ确定每个位置对应的电磁波透过率,其中,β为所述位置处的电磁波透过率,E为所述位置处的磁场强度,θ为所述位置处的相位,K为预先确定的比例系数。5.一种对象的外观探测方法,其特征在于,包括:获取对象的雷达探测数据,所述雷达探测数据至少包括磁场中不同位置处的磁场信息,每一位置处的磁场信息至少包括磁场强度,所述磁场是第一电磁波和第二电磁波探测到所述对象后的回波进行干涉形成的,所述第一电磁波是对发射器发射的部分电磁波进行反射得到的,所述第二电磁波是未被反射的电磁波;基于建立的磁场信息与电磁波透过率之间的映射关系,确定各位置处的磁场信息对应的电磁波透过率;基于各位置对应的电磁波透过率,构建虚拟介质;模拟电磁波穿过所述虚拟介质时的衍射过程,得到所述对象的...

【专利技术属性】
技术研发人员:王中林唐伟
申请(专利权)人:北京纳米能源与系统研究所
类型:发明
国别省市:

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