【技术实现步骤摘要】
一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备
[0001]本技术涉及二硫化钼薄膜生产
,具体为一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备。
技术介绍
[0002]二硫化钼薄膜生产可选基底较多,其中最常用的硅片基底、带氧化层硅片基底和蓝宝石基底为直接沉积产品。其他基底例如PET,PI,ITO,FTO,玻璃,金属基底等是通过在蓝宝石上生长后转移至客户所需基底。每个MoS 2层都具有三明治结构,钼层被挤压在两层硫原子之间,二硫化钼合成显示出在创建透明且灵活的电子设备,下一代计算机的光通信以及电子和光电子学其他领域中取得突破性进展的潜力,二硫化钼薄膜生产时,需要使用碾磨设备对原料进行碾磨。
[0003]现有的碾磨设备,多直接对原料进行立磨,原料颗粒度较大,碾磨速率慢,生产效率不佳,且无法对成品原料进行筛分处理,原料粒度均匀度差,影响后续薄膜制备质量,为此,我们提出一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备,具备筛分功能 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备,包括箱体(1)、立磨座(9)和磨台(15),其特征在于:所述箱体(1)顶端中间位置处安装有进料斗(7),所述箱体(1)前表面靠近顶端中间位置处安装有观察窗(6),所述箱体(1)底端四个角位置处均安装有支撑柱(4),所述箱体(1)前表面靠近底端中间位置处安装有控制面板(5),所述箱体(1)底端两侧中间位置处均安装有下料斗(3),所述箱体(1)内部中间位置处安装有立磨座(9),所述立磨座(9)内部底端中间位置处安装有磨台(15),所述箱体(1)内部底端中间位置处安装有电机(12),所述电机(12)输出轴末端位置处通过旋转杆(10)连接于磨台(15)底端中间位置处。2.根据权利要求1所述的一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备,其特征在于:所述箱体(1)内部靠近顶端中间两侧位置处均安装有粉碎辊(16),所述箱体(1)内部两侧位于粉碎辊(16)上端位置处均安装有导料板(17)。3.根据权利要求1所述的一种二硫化钼薄膜制备用层状材料立式碾磨设备,其特征在于:所述箱体(1)内部底端位于电机(12)外表面位置处安...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱慧,何东旺,
申请(专利权)人:江苏籽硕科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。