一种半导体生产的除脂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于半导体生产领域，具体为一种半导体生产的除脂装置，包括清洗机构、移动机构、还包括便于对不同规格半导体在清洗过程中进行翻转冲洗的除脂机构，所述清洗机构外侧设置有所述移动机构，所述移动机构上方设置有所述除脂机构。本实用新型专利技术采用除脂机构，启动旋转电机带动旋转轴和连接杆与定位夹进行旋转移动，配合着电动推杆伸缩推动着定位夹进行左右移动，对不同规格的半导体表面进行夹紧定位，再启动翻转电机带动翻转轴和定位夹与喷头进行翻转运动，在超声波清洗过程中进行翻转冲洗，从而可以使半导体表面的油脂快速脱落，减少人为操作，加强除脂效率，提高工作质量。提高工作质量。提高工作质量。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产的除脂装置


[0001]本技术属于半导体生产领域，具体是涉及一种半导体生产的除脂装置。

技术介绍

[0002]自然界的物质、材料按导电能力大小可分为导体、半导体和绝缘体三大类。半导体的电阻率在1mΩ
·
cm～1GΩ
·
cm范围取值，反映半导体内在基本性质的却是各种外界因素如光、热、磁、电等作用于半导体而引起的物理效应和现象。目前市场现有半导体生产用到除脂装置，只能从一个角度对半导体表面进行清洗，往往使半导体表面除脂效果不佳，工作人员在调节半导体清洗位置时，很容易使清洗不均匀，从而导致除脂时间长，工作质量差。

技术实现思路

[0003]本技术的目的就在于提供一种半导体生产的除脂装置。
[0004]本技术所采用的技术方案如下：
[0005]一种半导体生产的除脂装置，包括清洗机构、移动机构、还包括便于对不同规格半导体在清洗过程中进行翻转冲洗的除脂机构，所述清洗机构外侧设置有所述移动机构，所述移动机构上方设置有所述除脂机构，所述除脂机构包括支撑架、旋转轴、旋转电机、连接杆、翻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体生产的除脂装置，包括清洗机构(1)、移动机构(2)，其特征在于：还包括便于对不同规格半导体在清洗过程中进行翻转冲洗的除脂机构(3)，所述清洗机构(1)外侧设置有所述移动机构(2)，所述移动机构(2)上方设置有所述除脂机构(3)；所述除脂机构(3)包括支撑架(301)、旋转轴(302)、旋转电机(303)、连接杆(304)、翻转轴(305)、翻转电机(306)、托座(307)、电动推杆(308)、定位夹(309)、清洗管(310)、喷头(311)，所述支撑架(301)内侧设置有所述旋转轴(302)，所述旋转轴(302)外侧设置有所述旋转电机(303)，所述旋转轴(302)内侧设置有所述连接杆(304)，所述连接杆(304)内侧设置有所述翻转轴(305)，所述翻转轴(305)外侧设置有所述翻转电机(306)，所述翻转轴(305)内侧设置有所述托座(307)，所述托座(307)内侧设置有所述电动推杆(308)，所述电动推杆(308)伸缩端设置有所述定位夹(309)，所述托座(307)上方设置有所述清洗管(310)，所述清洗管(310)前侧设置有所述喷头(311)。2.根据权利要求1所述的一种半导体生产的除脂装置，其特征在于：所述清洗机构(1)包括承载台(11)、支架(12)、清洗水槽(13)、超声波发生器(14)，所述承载台(11)下方设置有所述支架(12)，所述承载台(11)上方设置有所述清洗水槽(13)，所述清洗水槽(13)内侧设置有所述超声波发生器(14)。3.根据权利要求2所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：姬晨，
申请(专利权)人：姬晨，
类型：新型
国别省市：