一种掩膜版制造技术

技术编号:33567273 阅读:95 留言:0更新日期:2022-05-26 23:08
本实用新型专利技术涉及一种掩膜版。本实用新型专利技术包括掩膜版主体和挡板结构,所述掩膜版主体上表面内包括多个预定规律排列的开口区域,所述开口区域与所述挡板结构相对应,所述开口区域内部的台阶结构与所述挡板结构通过磁性材料相互吸附,牢固的将所述挡板结构固定在所述开口区域内,通过机械臂控制吸附探针对所述挡板结构进行操作,将需要暴露的开口区域的挡板结构取下,将不需要暴露的开口区域的挡板结构放回进行遮挡,通过单一的掩膜版控制不同开口区域的暴露,降低更换掩膜版的时间和使用多种掩膜版的成本。版的成本。版的成本。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版


[0001]本技术涉及半导体电子
,尤其是指一种掩膜版。

技术介绍

[0002]Micro LED未来将具有极大地应用前景,但是目前micro LED制造成本问题,严重影响了其商用化的进程,原因主要就是制备micro LED需要使用多块掩膜版进行操作,这对micro LED的生产成本提出了严格要求,严重限制了生产micro LED的生产时间和成本。
[0003]在现有的micro LED结构在制备过程中会涉及到多次曝光、刻蚀和沉积步骤,在多次曝光和刻蚀步骤中,需要分别使用掩膜版,并且由于每个不同子像素需要形成的发光材料不同,比如红色子像素中需要沉积红色发光材料,绿色子像素中需要沉积绿色发光材料,蓝色子像素中需要沉积蓝色发光材料,不同的子像素沉积的发光材料分多次沉积,也是需要使用不同的掩膜版进行遮挡,这样在制备micro LED的不同颜色的子像素过程中需要使用到多个不同的掩膜版,造成生产成本的增大。

技术实现思路

[0004]为此,本技术所要解决的技术问题在于克服现有技术中在制备micro LED时需要使用多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版,其特征在于,包括:掩膜版主体,挡板结构;其中,所述掩膜版主体上表面内包括多个预定规律排列的开口区域;所述开口区域内部设置有台阶结构和贯通区域;所述台阶结构的台面设置有磁性材料涂层,所述贯通区域的面积小于所述开口区域的面积;所述挡板结构与所述开口区域的面积、形状相同,所述挡板结构下表面的边缘处设置有磁性材料涂层;所述挡板结构与所述开口区域内部的台阶结构通过磁性材料相互吸附。2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述台阶结构的台面到所述掩膜版主体上表面的高度范围为所述掩膜版主体厚度的三分之一至三分之二。3.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版主体为铜或者不锈钢材料。4.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版主体厚...

【专利技术属性】
技术研发人员:李利哲王国斌
申请(专利权)人:江苏第三代半导体研究院有限公司
类型:新型
国别省市:

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