显示基板的缺陷检查方法技术

公开一种显示基板的缺陷检查方法。显示基板的缺陷检查方法包括如下步骤：拍摄显示基板的图像；提取所述图像的X轴分布；提取所述图像的Y轴分布；以所述X轴分布及所述Y轴分布为基础来生成线跟踪信息；以所述线跟踪信息为基础来获取所述显示基板的构成要素的边界位置；以所述边界位置为基础来将预先设定的感兴趣区域和所述图像的实际感兴趣区域进行匹配；以及检查匹配的所述实际感兴趣区域的缺陷。检查匹配的所述实际感兴趣区域的缺陷。检查匹配的所述实际感兴趣区域的缺陷。

【技术实现步骤摘要】
显示基板的缺陷检查方法


[0001]本专利技术涉及一种显示基板的缺陷检查方法，更详细而言，涉及一种利用光学检查设备的显示基板的缺陷检查方法。

技术介绍

[0002]根据市场需求，已经向高分辨率的方向不断开发了诸如有机发光显示装置和液晶显示装置之类的显示装置。在该过程中，为了实现相同的空间内的高分辨率，向工艺的临界尺寸(CD：critical dimension)和子像素的尺寸逐渐减小的方向进行开发，这将导致电路的复杂度增加的结果。
[0003]但是，分辨率的增加成为导致相同面积内布线的集成度上升、不良的微细化的直接因素。因此，导致绝对不良数量的增加，由此需要修复处理的不良数量增加。
[0004]但是，由于在生产线的生产效率方面工序的节拍时间(tact time)和设备的电容有限，因此，将面临无法对所有不良进行修复处理的情况。结果，为了最大化生产效率和良率增益，需要一种能够优先修复处理表现为致命(killing)不良的可能性较高的不良的方法。
[0005]目前为止，利用光学检查来检测出不良并根据不良的大小或不良的类型来设定本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的缺陷检查方法，包括如下步骤：拍摄显示基板的图像；提取所述图像的X轴分布；提取所述图像的Y轴分布；以所述X轴分布及所述Y轴分布为基础来生成线跟踪信息；以所述线跟踪信息为基础来获取所述显示基板的构成要素的边界位置；以所述边界位置为基础来将预先设定的感兴趣区域和所述图像的实际感兴趣区域进行匹配；以及检查匹配的所述实际感兴趣区域的缺陷。2.根据权利要求1所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，所述X轴分布通过累积对于Y轴方向上的N个相机像素组的亮度而生成。3.根据权利要求2所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，所述N个相机像素组对应于所述显示基板的子像素的第一边的长度。4.根据权利要求1所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，所述Y轴分布通过累积对于X轴方向上的M个相机像素组的亮度而生成。5.根据权利要求4所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，所述M个相机像素组对应于所述显示基板的子像素的第二边的长度。6.根据权利要求1所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，在提取所述X轴分布的步骤之前还包括如下步骤：在所述图像的基准位置判断所述图像的倾斜。7.根据权利要求1所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，检查所述实际感兴趣区域的缺陷的步骤包括如下步骤：生成所述实际感兴趣区域和与所述实际感兴趣区域相邻的相邻感兴趣区域的差异图像。8.根据权利要求7所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，生成所述差异图像的步骤包括如下步骤：生成所述实际感兴趣区域和与所述实际感兴趣区域在上侧、下侧、右侧和左侧方向上相邻的4个相邻感兴趣区域的差异图像。9.根据权利要求1所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，在检查所述实际感兴趣区域的缺陷的步骤之后还包括如下步骤：验证所述缺陷的准确位置。10.根据权利要求9所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，验证所述缺陷的准确位置的步骤包括如下步骤：存储所述缺陷的缺陷位置；以及过滤所述缺陷位置的准确度。11.根据权利要求10所述的显示基板的缺陷检查方法，其特征在于，过滤所述缺陷位置的准确度的步骤包括如下步骤：将所述缺陷位置和与所述缺...

【专利技术属性】
技术研发人员：李东勳，金孝眞，崔慧媛，金明铁，徐智勳，粱炅镐，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：