【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚合性组合物、载体和固化物及其制造方法
[0001]本专利技术涉及一种可以进行光自由基聚合反应的聚合性组合物、使用该聚合性组合物的载体和该聚合性组合物的固化反应物即固化物及其制造方法。
技术介绍
[0002]可以利用光自由基聚合反应进行固化的聚合性组合物使用于墨水、涂料和着色涂布剂等各种领域,该聚合性组合物的固化反应物即固化物也同样使用于各种领域。因此,关于聚合性组合物的组成,已经进行了各种研究。
[0003]具体地说,为了既具有除去容易性又具有固化低收缩性,在包含单官能(甲基)丙烯酰胺化合物、(甲基)丙烯酸酯低聚物和光聚合引发剂的聚合性组合物(辐射固化组合物)中,规定了SP值和含有量各自的适当范围(例如,参照专利文献1)。为了实现使用低照射量的发光二极管光(紫外光线)的固化,在包含水溶性或水分散性的聚合物、光引发剂、叔胺增效剂和水的聚合性组合物(涂料组合物)中,规定了pH的适当范围(例如,参照专利文献2)。为了既具有对剥离液的溶解性又具有对蚀刻液的耐受性,已经提出了包含可以形成水溶性均聚物的(甲基)丙烯酰胺化合物、可以形成水不溶性均聚物的(甲基)丙烯酰胺化合物、光聚合引发剂和含羧基的化合物的聚合性组合物(喷墨抗蚀刻用的紫外线固化组合物)(例如,参照专利文献3)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开2019
‑
001865号公报;
[0007]专利文献2:日本特表2017
‑
524750号公报;< ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚合性组合物,包含:水溶性单官能丙烯酰胺化合物;水溶性光自由基引发剂;水溶性光敏剂;以及水性溶媒。2.根据权利要求1所述的聚合性组合物,其中,所述水溶性单官能丙烯酰胺化合物包含由式(1)表示的化合物,R1和R2各自是氢基、碳数为1以上10以下的直链状烷基、碳数为3以上10以下的支链状烷基和碳数为1以上10以下的羟烷基中的任何一个,其中,R1与R2也可以互相键结,R1和R2各自中的至少1个亚甲基各自也可以被
‑
O
‑
和
‑
S
‑
中的任何一个取代。3.根据权利要求2所述的聚合性组合物,其中,所述水溶性单官能丙烯酰胺化合物包含4
‑
丙烯酰吗啉。4.根据权利要求1至权利要求3中的任一项所述的聚合性组合物,其中,所述水溶性光自由基引发剂的溶解度是对于25℃的水为1质量%以上。5.根据权利要求1至权利要求4中的任一项所述的聚合性组合物,其中,所述水溶性光自由基引发剂包含由式(2)表示的化合物,X1是碳数为6以上15以下的芳基,其中,芳基中的至少1个氢基各自也可以被碳数为1以上8以下的直链状烷基、碳数为3以上8以下的支链状烷基、碳数为1以上8以下的直链状卤代烷基、碳数为3以上8以下的支链状卤代烷基、碳数为1以上8以下的直链状烷氧基、碳数为3以上8以下的支链状烷氧基、碳数为1以上8以下的直链状卤代烷氧基和碳数为3以上8以下的支链状卤代烷氧基中的任何一个取代,X2是碳数为1以上8以下的直链状烷基、碳数为3以上8以下的支链状烷基、碳数为1以上8以下的直链状烷氧基、碳数为3以上8以下的支链状烷氧基和碳数为6以上15以下的芳基中的任何一个,其中,芳基中的至少1个氢基各自也可以被碳数为1以上8以下的直链状烷基、碳数为3以上8以下的支链状烷基、碳数为1以上8以下的直链状卤代烷基、碳数为3以上8以下的支链状卤代烷基、碳数为1以上8以下的直链状烷氧基、碳数为3以上8以下的支链状烷氧基、碳数为1以上8以下的直链状卤代烷氧基、碳数为3以上8以下的支链状卤代烷氧基、卤基、硝基、氰基、羟基、氨基、羧基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、环氧基、乙烯基、乙烯基醚基、巯基、异氰酸酯基和含杂环的基团中的任何一个取代,
X2中的至少1个亚甲基各自也可以被
‑
O
‑
和
‑
S
‑
中的任何一个取代,A
m+
是碱金属离子、碱土金属离子和N
+
HY1Y2Y3中的任何一个,Y1、Y2和Y3各自是碳数为1以上6以下的直链状烷基、碳数为2以上6以下的直链状烯基、碳数为6以上15以下的芳基和碳数为7以上13以下的芳烷基中的任何一个,其中,Y1、Y2和Y3各自中的至少1个氢基各自也可以被羟基取代,Y1、Y2和Y3各自中的至少1个亚甲基各自也可以被
‑
O
‑
和
‑
N
+
H
‑
中的任何一个取代,Y1、Y2和Y3中的任意2个也可以互相键结,m是1以上3以下的整数。6.根据权利要求1至权利要求5中的任一项所述的聚合性组合物,其中,所述水溶性光敏剂包含由式(3)表示的化合物,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17和R18各自是氢基、氰基、硝基、碳数为1以上20以下的直链状烷基、碳数为3以上20以下的支链状烷基、碳数为6以上30以下的芳基、碳数为7以上30以下的芳烷基、碳数为2以上20以下的含杂环的基团和由式(4)表示的含成盐基的基团中的任何一个,其中,R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17和R18中的至少1个是由式(4)表示的含成盐基的基团,Z11是>NR19、
‑
O
‑
、
...
【专利技术属性】
技术研发人员:原宪司,长坂一辉,入沢正福,小田祐史,
申请(专利权)人:株式会社ADEKA,
类型:发明
国别省市:
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