【技术实现步骤摘要】
一种电子半导体行业废气治理装置
[0001]本技术涉及半导体
,具体是一种电子半导体行业废气治理装置。
技术介绍
[0002]电子半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分。在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。产生的废气特点是含有颗粒物和酸、碱性废气、浓度不高、风量较大。
[0003]传统的蓄热式热力氧化炉(RTO)技术存在以下问题:1、无机的酸性物质进入RTO腐蚀性较强;2、粉尘颗粒物会堵塞转轮的微孔,同时会在蓄热体内沉积,影响换热效率。
[0004]因此,本技术提供了一种电子半导体行业废气治理装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种电子半导体行业废气治理装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种电子半导体行业废气治理装置,包括洗涤塔、除雾装置、多级干式过滤装置、转轮吸附脱附装置、加热器、蓄热式氧化炉、引风机一、引风机二、排气筒, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电子半导体行业废气治理装置,包括洗涤塔(1)、除雾装置(11)、多级干式过滤装置(15)、转轮吸附脱附装置(23)、加热器(28)、蓄热式氧化炉(31)、引风机一(35)、引风机二(36)、排气筒(38),其特征在于,所述洗涤塔(1)内设有除雾层(2)、水箱(5)、喷淋层(7)、滤料层一(3),洗涤塔(1)连接有循环给水泵(8),循环给水泵(8)与喷淋层(7)连通,洗涤塔(1)上设有进风口一(4)和出风口一(6)。2.根据权利要求1所述的一种电子半导体行业废气治理装置,其特征在于,所述除雾装置(11)内设有波形板(10),所述除雾装置(11)上设有进风口二(9)和出风口二(12),进风口二(9)通过出风口一(6)与洗涤塔(1)连通。3.根据权利要求1所述的一种电子半导体行业废气治理装置,其特征在于,所述多级干式过滤装置(15)内设有滤料层二(14),多级干式过滤装置(15)上设有进风口三(13)和出风口三(16),进风口三(13)通过出风口二(12)与除雾装置(11)连通,出风口三(16)连通吸附风...
【专利技术属性】
技术研发人员:张宏,张正星,
申请(专利权)人:上海科原环境科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。