显示面板制造方法及显示面板技术

本发明专利技术公开了一种显示面板制造方法及显示面板。本发明专利技术实施例提供一种显示面板的制造方法，包括：提供阵列基板，具有第一区域和第二区域；在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；在所述牺牲层和有机发光层上形成第二电极层，并且从所述有机发光材料发出的光可穿透所述第二电极层；以牺牲层的二维图案为模板对应所述第一区域进行图案化处理所述第二电极层以形成与二维图案互补的图形化阴极。根据本发明专利技术实施例的显示面板的制造方法，能够保护有机发光层在后续刻蚀工艺中不受激光损伤。蚀工艺中不受激光损伤。蚀工艺中不受激光损伤。

【技术实现步骤摘要】
显示面板制造方法及显示面板


[0001]本专利技术涉及显示领域，具体涉及一种显示面板制造方法及显示面板。

技术介绍

[0002]随着手机等包括显示面板和摄像头的消费电子产品的发展，人们对这些电子产品的视觉体验性方面有更高的要求，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。
[0003]传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等。传统的设备通过在显示屏上设置透光区，外界光线可通过屏幕上的透光区进入位于屏幕下方的感光元件。然而，由于透光区的存在，导致电子设备需要设置Notch异形区，如苹果手机iphoneX的前刘海区域，而且透光区无法显示像素，影响显示面板的屏占比提升。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种显示面板及其制造方法，能够形成透明显示区，所述透明显示区具有图形化的阴极，形成图形化阴极的同时，避免了激光刻蚀过程中对阴极附近或者背面的膜层的损伤。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：
[0006]S1)提供阵列基板，具有第一区域和第二区域；
[0007]S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠；
[0008]S3)在像素开口内形成包含有机发光材料的有机发光层；<br/>[0009]S4)在所述牺牲层和有机发光层上形成第二电极层，并且从所述有机发光材料发出的光可穿透所述第二电极层；以牺牲层的二维图案为模板对应所述第一区域进行图案化处理所述第二电极层以形成与二维图案互补的图形化阴极。
[0010]根据本专利技术实施例的一个方面，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中，
[0011]所述牺牲层在所述阵列基板上对应所述第一区域形成；
[0012]所述牺牲层覆盖所述像素定义层背向所述阵列基板一侧表面形成，其中，所述像素定义层是透光的。
[0013]根据本专利技术实施例的一个方面，所述牺牲层为图案化处理形成的具有镂空图案的图案化牺牲层；
[0014]根据本专利技术实施例的一个方面，所述牺牲层选用耐热的透明材料；优选的，所述牺
牲层选用耐热的无机膜层；
[0015]根据本专利技术实施例的一个方面，所述牺牲层选用氧化硅、氮化硅、氧化铝的无机材料单层膜层或者选自氧化硅、氮化硅、氧化铝的无机材料单层膜层的复合层叠结构；优选的，所述牺牲层选自透明光刻胶材料；
[0016]根据本专利技术实施例的一个方面，所述牺牲层是通过磁控溅射法、化学气相沉积(CVD)法、喷雾热分解法、喷雾热分解法或水热法在所述阵列基板上对应所述第一区域形成，或采用溶液法直接涂敷或者打印所述牺牲层到所述阵列基板上。
[0017]根据本专利技术实施例的一个方面，所述牺牲层呈二维图案，所述二维图案的最小线宽大于等于激光的最小激光光斑直径。
[0018]根据本专利技术实施例的一个方面，在厚度方向上所述牺牲层的厚度大于等于所述像素定义层的厚度。
[0019]根据本专利技术实施例的一个方面，在厚度方向上所述牺牲层的截面呈倒置的梯形，所述倒置的梯形远离所述像素定义层一侧的底面宽度大于等于激光的最小激光光斑直径。
[0020]根据本专利技术实施例的一个方面，所述牺牲层形成具有二维图案的阴极隔离柱，所述阴极隔离柱将二维图案两侧的阴极以及像素定义层物理隔离。
[0021]根据本专利技术实施例的一个方面，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中包括：
[0022]预先在所述阵列基板上形成具有多个像素开口的像素定义层，然后在所述像素定义层上形成具有二维图案的牺牲层，所述第一电极层在所述阵列基板的正投影覆盖所述像素开口在所述阵列基板的正投影的步骤。
[0023]根据本专利技术实施例的一个方面，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中，
[0024]所述牺牲层在所述阵列基板上对应所述第一区域和所述第二区域均有形成；
[0025]所述牺牲层覆盖所述像素定义层背向所述阵列基板一侧表面形成，所述像素定义层包括对应所述牺牲层的非发光区域和对应所述第一电极层的发光区域。
[0026]优选的，所述非发光区域的光透过率大于所述发光区域的光透过率。
[0027]根据本专利技术实施例的一个方面，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中，
[0028]所述像素定义层为所述牺牲层覆盖，且所述像素定义层的所述开口内容纳所述有机发光层的有机发光材料；
[0029]在有机发光层上整体覆盖形成第二电极层；
[0030]优选的，所述开口包括对应所述第一区域的第一开口和对应所述第二区域的第二开口，所述像素定义层包括具有多个所述第一开口的第一像素定义层和具有多个所述第二
开口的第二像素定义层；
[0031]优选的，所述第一开口的开口率小于第二开口的开口率。
[0032]根据本专利技术实施例的一个方面，S4)在所述牺牲层和有机发光层上形成第二电极层，并且从所述有机发光材料发出的光可穿透所述第二电极层；以牺牲层的二维图案为模板对应所述第一区域进行图案化处理所述第二电极层以形成与二维图案互补的图形化阴极的步骤中，
[0033]在所述有机发光层和牺牲层的一侧的表面整体覆盖透明导电材料；
[0034]图案化处理所述透明导电材料以形成具有二维导电图案的所述图形化阴极；
[0035]优选的，所述图形化阴极在所述阵列基板的正投影覆盖至少部分所述第一电极层在所述阵列基板的正投影；
[0036]优选的，所述第一区域的平均光透过率大于所述第二区域的平均光透过率。
[0037]本专利技术的另一目的在于提供一种显示面板，其特征在于，具有第一显示区和第二显示区，所述第一显示区的光透过率大于所述第二显示区的光透过率，包括：
[0038]阵列基板；
[0039]第一电极层，位于所述阵列基板上；
[0040]有机发光层，位于第一电极层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：S1)提供阵列基板，具有第一区域和第二区域；S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠；S3)在像素开口内形成包含有机发光材料的有机发光层；S4)在所述牺牲层和有机发光层上形成第二电极层，并且从所述有机发光材料发出的光可穿透所述第二电极层；以牺牲层的二维图案为模板对应所述第一区域进行图案化处理所述第二电极层以形成与二维图案互补的图形化阴极。2.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中，所述牺牲层在所述阵列基板上对应所述第一区域形成；所述牺牲层覆盖所述像素定义层背向所述阵列基板一侧表面形成，其中，所述像素定义层是透光的。3.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述牺牲层为图案化处理形成的具有镂空图案的图案化牺牲层；优选的，所述牺牲层选用耐热的透明材料；优选的，所述牺牲层选用耐热的无机膜层；优选的，所述牺牲层选用氧化硅、氮化硅、氧化铝的无机材料单层膜层或者选自氧化硅、氮化硅、氧化铝的无机材料单层膜层的复合层叠结构；优选的，所述牺牲层选自透明光刻胶材料；优选的，所述牺牲层是通过磁控溅射法、化学气相沉积(CVD)法、喷雾热分解法、喷雾热分解法或水热法在所述阵列基板上对应所述第一区域形成，或采用溶液法直接涂敷或者打印所述牺牲层到所述阵列基板上。4.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述牺牲层呈二维图案，所述二维图案的最小线宽大于等于激光的最小激光光斑直径；优选的，在厚度方向上所述牺牲层的厚度大于等于所述像素定义层的厚度；优选的，在厚度方向上所述牺牲层的截面呈倒置的梯形，所述倒置的梯形远离所述像素定义层一侧的底面宽度大于等于激光的最小激光光斑直径；优选的，所述牺牲层形成具有二维图案的阴极隔离柱，所述阴极隔离柱将二维图案两侧的阴极以及像素定义层物理隔离。5.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中包括：预先在所述阵列基板上形成具有多个像素开口的像素定义层，然后在...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘如胜，邢汝博，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：