一种IC基板多功能化学制程装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种IC基板多功能化学制程装置及方法，该装置包括：单板处理加工室，所述单板处理加工室内盛有用于浸没IC基板的溶液；多功能喷嘴系统，用于IC基板的表面处理；水流喷管，用于在溶液表面形成可带走任何可能存在的微粒和/或碎屑溢流通道；过滤系统，与溢流通道连通，用于过滤溢流通道中的微粒和/或碎屑。本发明专利技术将待处理的IC基板置于单板处理加工室的溶液中；利用多功能喷嘴系统对IC基板表面进行处理并去除任何可能存在的微粒和/或碎屑；通过水流喷管形成朝向过滤系统的溢流通道带动被去除的微粒和/或碎屑朝向过滤系统流动，并通过过滤系统对流动到的微粒和/或碎屑进行过滤处理，可以有效提高对于IC基板表面处理上的效率及灵活性。的效率及灵活性。的效率及灵活性。

【技术实现步骤摘要】
一种IC基板多功能化学制程装置及方法


[0001]本专利技术涉及高密度IC基板制造和高密度PCB板制造
，特别涉及一种IC基板多功能化学制程装置及方法。

技术介绍

[0002]伴随着高密度PCB板上图案复杂度以及IC基板的核心制造需求的提升，传统的去膜、干膜显影、闪蚀以及其他化学工艺制程已经不能很好的满足业界需求，迫切需要对传统的以上各项工艺进行改进以满足未来的需求。
[0003]同时，高密度的纹路图案设计以及如双层光刻技术的实现所带来的同类型或不同类型的膜层之间叠压的情况，需要更为高效的去膜手段，光靠化学方式已无法应对这一挑战。因此，如何实现高效去膜是本领域技术人员需要解决的问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供了一种IC基板多功能化学制程装置及方法，旨在提高对于IC基板或者其他应用方向的表面及布线区域制程处理效率和去除微粒和/或碎屑的灵活性。
[0005]本专利技术实施例提供了一种IC基板多功能化学制程装置，包括：单板处理加工室，所述单板处理加工室内盛有用于浸没IC基板的溶液；多功能喷嘴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种IC基板多功能化学制程装置，其特征在于，包括：单板处理加工室，所述单板处理加工室内盛有用于浸没IC基板的溶液；多功能喷嘴系统，用于对IC基板的表面进行制程处理并去除存在的微粒和/或碎屑；所述制程处理包括去膜、显影和蚀刻；水流喷管，用于在溶液表面形成可带动微粒和/或碎屑流动的溢流通道；过滤系统，与所述溢流通道连通，用于过滤所述溢流通道中的微粒和/或碎屑。2.根据权利要求1所述的IC基板多功能化学制程装置，其特征在于，所述单板处理加工室的底部开设有一排放口，所述排放口上设置有排放阀门。3.根据权利要求1所述的IC基板多功能化学制程装置，其特征在于，所述多功能喷嘴系统包括脉冲喷嘴、射流喷嘴、固定式喷淋喷嘴和旋流喷嘴。4.根据权利要求3所述的IC基板多功能化学制程装置，其特征在于，所述脉冲喷嘴、射流喷嘴、固定式喷淋喷嘴从上至下依次分布设置于所述单板处理加工室的侧边；所述旋流喷嘴设置有多个，且多个旋流喷嘴均匀分布在所述单板处理加工室的底部。5.根据权利要求1所述的IC基板多功能化学制程装置，其特征在于，所述过滤系统包括开设有进水口和出水口的过滤管道以及设置于所述过滤管道内且用于过滤存在的微粒和/或碎屑和溶液的过滤网，所述过滤网位于所述进水口和出水口之间或者所述出水口之后。6.根据权利要求5所述的IC基板多功能化学制程装置，其特征在于，所述进水口与所述水流喷管形成的溢流通道相连通，所述出水口与所述多功能喷嘴系统相连通。...

【专利技术属性】
技术研发人员：马库斯，
申请(专利权)人：鑫巨深圳半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：