灰度滤光镜头及其制备方法、摄像头模组技术

一种灰度滤光镜头及其制备方法、摄像头模组，涉及光学技术领域。该灰度滤光镜头包括第一基板、第二基板、设于第一基板和第二基板之间的电致变色层、贯穿第一基板且间隔设置的两导电柱，以及正电极和负电极；其中，两导电柱靠近第二基板的一端均与电致变色层连接、另一端分别与正电极和负电极连接。该灰度滤光镜头能够提高灰度滤光镜头的使用灵活性和通用性。够提高灰度滤光镜头的使用灵活性和通用性。够提高灰度滤光镜头的使用灵活性和通用性。

【技术实现步骤摘要】
灰度滤光镜头及其制备方法、摄像头模组


[0001]本专利技术涉及光学
，具体而言，涉及一种灰度滤光镜头及其制备方法、摄像头模组。

技术介绍

[0002]灰度滤光镜头也称ND镜，是一种无色至灰色的摄影滤镜，它是利用物质对光的吸收特性而使光强得到衰减的光学元件。在摄影摄像领域，使用灰度滤光镜头的主要目的是防止过曝光，例如在阳光强烈的室外拍摄或者需要在正常光线条件下用较长的时间曝光。
[0003]传统的单片灰度滤光镜头只能对光强进行单一程度的衰减，因此在摄影中使用的灰度滤光镜头，根据减光量的不同被分为不同的规格，在实际使用时，则需要根据需求选择不同规格的灰度滤光镜头。然而，这种灰度滤光镜头当应用在光强变化范围很广的场景中时，为便于根据需要切换不同的滤光等级，则需要配备齐全不同规格的灰度滤光镜头备用，这就无疑增加了摄影成本和摄影工作强度。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种灰度滤光镜头及其制备方法、摄像头模组，该灰度滤光镜头及其制备方法、摄像头模组能够提高灰度滤光镜头的使用灵活性和通用性。
[0005]本专利技术的实施例是这样实现的：
[0006]本专利技术的一方面，提供一种灰度滤光镜头，该灰度滤光镜头包括第一基板、第二基板、设于第一基板和第二基板之间的电致变色层、贯穿第一基板且间隔设置的两导电柱，以及正电极和负电极；其中，两导电柱靠近第二基板的一端均与电致变色层连接、另一端分别与正电极和负电极连接。该灰度滤光镜头能够提高灰度滤光镜头的使用灵活性和通用性。r/>[0007]可选地，灰度滤光镜头还包括位于第二基板和电致变色层之间的密封胶层，密封胶层包覆电致变色层露出于第一基板的表面。
[0008]可选地，导电柱的材料为掺杂有磷或硼的硅。
[0009]可选地，导电柱的电阻率小于2mΩ
·
cm。
[0010]可选地，灰度滤光镜头还包括设于第一基板背离第二基板一侧的第一增透膜，第一增透膜在第一基板上的正投影和电致变色层在第一基板上的正投影至少部分重叠。
[0011]可选地，灰度滤光镜头还包括设于第二基板背离第一基板一侧的第二增透膜，第二增透膜在第一基板上的正投影和电致变色层在第一基板上的正投影至少部分重叠。
[0012]可选地，第一基板和第二基板的材料为玻璃。
[0013]本专利技术的另一方面，提供一种灰度滤光镜头的制备方法，该灰度滤光镜头的制备方法包括：
[0014]提供一第一基板，第一基板内设有两间隔的导电柱，且第一基板的一侧具有导电层；
[0015]在第一基板背离导电层的一面形成电致变色层，电致变色层分别与两导电柱连
接，且电致变色层在第一基板上的正投影位于第一基板之内；
[0016]将第二基板和第一基板靠近电致变色层的一面进行键合，第二基板具有盲孔，电致变色层位于盲孔内；
[0017]去除导电层，并使两导电柱露出；
[0018]在两导电柱背离第二基板的一侧形成与一导电柱连接的正电极和与另一导电柱连接的负电极。
[0019]可选地，上述提供一第一基板，第一基板内设有两间隔的导电柱，且第一基板的一侧具有导电层，包括：
[0020]在硅晶圆上涂敷光刻胶层，并图案化光刻胶层；
[0021]通过光刻胶层刻蚀硅晶圆，以在硅晶圆上形成三个间隔的凹槽、分别位于相邻两个凹槽之间的导电柱，以及位于凹槽和导电柱同侧的导电层，并去除光刻胶层；
[0022]在硅晶圆具有凹槽的一面上键合第一基板，并通过热熔工艺使得第一基板熔入三个凹槽内，以得到内嵌有两间隔的导电柱的第一基板；
[0023]对第一基板背离导电层的一面进行减薄抛光，以露出两导电柱。
[0024]本专利技术的又一方面，提供一种摄像头模组，该摄像头模组包括上述的灰度滤光镜头。
[0025]本专利技术的有益效果包括：
[0026]本申请提供的灰度滤光镜头包括第一基板、第二基板、设于第一基板和第二基板之间的电致变色层、贯穿第一基板且间隔设置的两导电柱，以及正电极和负电极；其中，两导电柱靠近第二基板的一端均与电致变色层连接、另一端分别与正电极和负电极连接。在使用时，用户将正电极和负电极接通电源，并对其根据需要施加不同等级的电压，这样，电致变色层便可以在可见光波段能够呈现不同的透过率。本申请通过上述设计，相对现有技术采用多个不同规格的灰度滤光镜头而言，本申请在需要获得不同滤光等级时，只需要根据需求改变所施加的电压等级即可，而无需拆卸更换其他规格的灰度滤光镜头，如此，一方面，能够提高灰度滤光镜头的通用性；另一方面，能够减少用户在摄影时的工作强度。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0028]图1为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的结构示意图；
[0029]图2为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备方法的流程示意图之一；
[0030]图3为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备方法的流程示意图之二；
[0031]图4为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之一；
[0032]图5为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之二；
[0033]图6为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之三；
[0034]图7为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之四；
[0035]图8为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之五；
[0036]图9为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之六；
[0037]图10为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之七；
[0038]图11为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之八；
[0039]图12为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之九；
[0040]图13为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之十；
[0041]图14为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之十一；
[0042]图15为本专利技术一些实施例提供的灰度滤光镜头的制备过程示意图之十二。
[0043]图标：10
‑
第一基板；20
‑
第二基板；30
‑
电致变色层；40
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硅晶圆；41
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导电柱；42
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导电层；51
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正电极；52
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负电极；60
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密封胶层；71
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第一增透膜；72
‑
第二增透膜；81
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种灰度滤光镜头，其特征在于，包括第一基板、第二基板、设于所述第一基板和所述第二基板之间的电致变色层、贯穿所述第一基板且间隔设置的两导电柱，以及正电极和负电极；其中，两所述导电柱靠近所述第二基板的一端均与所述电致变色层连接、另一端分别与所述正电极和所述负电极连接。2.根据权利要求1所述的灰度滤光镜头，其特征在于，所述灰度滤光镜头还包括位于所述第二基板和所述电致变色层之间的密封胶层，所述密封胶层包覆所述电致变色层露出于所述第一基板的表面。3.根据权利要求1所述的灰度滤光镜头，其特征在于，所述导电柱的材料为掺杂有磷或硼的硅。4.根据权利要求3所述的灰度滤光镜头，其特征在于，所述导电柱的电阻率小于2mΩ
·
cm。5.根据权利要求1所述的灰度滤光镜头，其特征在于，所述灰度滤光镜头还包括设于所述第一基板背离所述第二基板一侧的第一增透膜，所述第一增透膜在所述第一基板上的正投影和所述电致变色层在所述第一基板上的正投影至少部分重叠。6.根据权利要求1或5所述的灰度滤光镜头，其特征在于，所述灰度滤光镜头还包括设于所述第二基板背离所述第一基板一侧的第二增透膜，所述第二增透膜在所述第一基板上的正投影和所述电致变色层在所述第一基板上的正投影至少部分重叠。7.根据权利要求1所述的灰度滤光镜头，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板的材料为玻璃。8.一种灰度滤...

【专利技术属性】
技术研发人员：土克旭，金利剑，刘风雷，
申请(专利权)人：浙江水晶光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：