基于动态磁场辅助的磁力研磨装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种基于动态磁场辅助的磁力研磨装置，包括工件传动机构、磁场辅助机构和磁性磨料，工件传动机构用于安装待抛光管件，并驱动待抛光管件转动；磁场辅助机构包括静置磁铁、动态磁铁和磁铁移动组件，静置磁铁设置于待抛光管件的一侧，动态磁铁设置于磁铁移动组件上，动态磁铁位于待抛光管件的另一侧，并由磁铁移动组件驱动其靠近和远离静置磁铁，以使静置磁铁和动态磁铁之间的磁力线分布发生变化；磁性磨料用于装填在待抛光管件内的待打磨位置，其沿磁力线排列，并能够随磁力线的变化而翻动。本发明专利技术结构新颖合理，利用磁场的动态变化，使待打磨位置处排列在磁力线上的磨粒翻滚更新，其利用率增加，而且抛光效率也有所提高。提高。提高。

【技术实现步骤摘要】
基于动态磁场辅助的磁力研磨装置


[0001]本专利技术涉及零件抛光
，特别是涉及一种基于动态磁场辅助的磁力研磨装置。

技术介绍

[0002]目前，管件类零件内表面的抛光技术主要有电化学抛光技术、磁力研磨抛光技术、电解
‑
磁力复合研磨抛光技术、旋转磁极辅助磁力研磨抛光技术、超声波辅助磁力研磨抛光技术和交变磁场辅助磁力研磨抛光技术。
[0003]但是，现有的管件类零件抛光技术中：
[0004](一)电化学抛光技术加工时，电解液配置较复杂且成本高，且该技术使用范围受限制，只能用于导电材料的抛光，且抛光效果难以保证，还有污染环境等问题存在。
[0005](二)磁力研磨抛光技术在加工中由于磁铁相对于工件的运动静止，磁场相对静止，磨粒沿磁力线排列位置固定，参加切削的磨粒没有更新，抛光效率低、成本高。
[0006](三)电解
‑
磁力研磨技术虽然抛光效率高，但电化学抛光和磁力研磨抛光中的问题依然存在。
[0007](四)旋转磁极辅助磁力研磨抛光技术相比于磁力研磨抛光提高了抛光效率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于动态磁场辅助的磁力研磨装置，其特征在于，包括：工件传动机构，所述工件传动机构用于安装待抛光管件，并驱动所述待抛光管件转动；磁场辅助机构，所述磁场辅助机构包括静置磁铁、动态磁铁和磁铁移动组件；所述静置磁铁通过静置磁铁夹具设置于所述待抛光管件的一侧，所述动态磁铁设置于所述磁铁移动组件上，所述动态磁铁位于所述待抛光管件的另一侧，并由所述磁铁移动组件驱动其靠近和远离所述静置磁铁，以使所述静置磁铁和所述动态磁铁之间的磁力线分布发生变化；磁性磨料，所述磁性磨料用于装填在所述待抛光管件内的待打磨位置，其包括铁磁颗粒和磨粒，所述磨粒沿所述磁力线排列在所述待打磨位置，并能够随所述磁力线的变化而翻动。2.根据权利要求1所述的基于动态磁场辅助的磁力研磨装置，其特征在于，所述静置磁铁包括第一永磁铁，所述动态磁铁为动态永磁铁；所述第一永磁铁的N极与所述动态永磁铁的S极相对布置；或者所述第一永磁铁的S极与所述动态永磁铁的N极相对布置。3.根据权利要求1所述的基于动态磁场辅助的磁力研磨装置，其特征在于，所述静置磁铁包括第二永磁铁和第三永磁铁，所述动态磁铁为动态永磁铁；所述第二永磁铁、所述第三永磁铁和所述动态永磁铁间隔分布于所述待抛光管件的外周，其中，所述第二永磁铁和所述第三永磁铁中的一者和所述动态永磁铁均为S极朝向所述待抛光管件设置，所述第二永磁铁和所述第三永磁铁中的另一者为N极朝向所述待抛光管件设置；或者所述第二永磁铁和所述第三永磁铁中的一者和所述动态永磁铁均为N极朝向所述待抛光管件设置，所述第二永磁铁和所述第三永磁铁中的另一者为S极朝向所述待抛光管件设置。4.根据权利要求3所述的基于动态磁场辅助的磁力研磨装置，其特征在于，当所述动态永磁铁位于最靠近所述待抛光管件的位置时，所述第二永磁铁、所述第三永磁铁和所述动态永磁铁呈圆周均匀分布于所述待抛光管件的外周。5.根据权利要求1～4任意一项所述的基于动态磁场辅助的磁力研磨装置，其特征在于，所述工件传动机构包括：第一底座，所述第一底座上设置有第一电机和主轴座，所述主轴座上转动安装一主轴；传动组件，所述传动组件包括主动轮、从动轮和传动带，所述主动轮与所述第一电机连接，所述从动轮与所述主轴的一端连接，所述主动轮和所述从动轮通过所述传动带连接；三爪卡盘，所述三爪卡盘安装于所述主轴的另一端，用于夹持所述待抛光管件的一端。6.根据权利要求5所述的基于动态磁场辅助的磁力研磨...

【专利技术属性】
技术研发人员：王有良，孔建兵，刘俭辉，张文娟，陈秀娟，郎珊珊，
申请(专利权)人：兰州理工大学，
类型：发明
国别省市：