一种透明耐磨熔块及其制备方法、抛釉砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及建筑陶瓷技术领域，尤其涉及一种透明耐磨熔块及其制备方法、抛釉砖及其制备方法。一种透明耐磨熔块，其原料包括以下组分：高岭土、石英、单晶氧化铝、刚玉、镁铝尖晶石、菱镁矿、硅灰石、碳酸锂、硝酸钾和硼砂。所述透明耐磨熔块的制备方法，进行高温烧制后制得的透明耐磨熔块不仅硬度高、耐磨性好，且具有透明度高的特点，制备方法简单，解决了现有熔块的耐磨性与透明性相矛盾的问题，所述抛釉砖的制备方法，制得的抛釉砖的表面的防污性能好，且表面硬度高，耐磨性能佳，同时提升了透明度，砖面美观，解决了现有抛釉砖产品颜色容易受到耐磨釉料影响的问题。磨釉料影响的问题。磨釉料影响的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种透明耐磨熔块及其制备方法、抛釉砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及建筑陶瓷
，尤其涉及一种透明耐磨熔块及其制备方法、抛釉砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]陶瓷抛釉砖集结了瓷质釉面砖和抛光砖的优点,不但图案形象丰富,而且表面光滑亮丽,其面世初期，凭借产品花色图案丰富和纹理层次清晰深受消费者的欢迎。但随着时间的推移，抛釉砖的一些弊端也逐渐凸显，其中最为突出的则是产品的耐磨度低，导致表面易磨花，目前针对耐磨性差的问题，主要采用耐磨釉料布施于砖坯喷墨层的表面，但是现有的耐磨釉料由于配方中形成大量晶体而产生耐磨性，这些耐磨釉料的透明度差，对产品的喷墨层的发色有影响，从而影响了产品的颜色，破坏了产品的美观度。

技术实现思路

[0003]针对
技术介绍
提出的问题，本专利技术的目的在于提出一种透明耐磨熔块，具有硬度高、耐磨性好以及透明度高、不影响釉料透明度的特点，解决了现有熔块的耐磨性与透明性相矛盾的问题。
[0004]本专利技术的另一目的在于提出一种透明耐磨熔块的制备方法，进行高温烧制后制得的透明耐磨熔块不仅硬度高、耐磨性好，且具有透明度高的特点，制备方法简单，解决了现有熔块的耐磨性与透明性相矛盾的问题。
[0005]本专利技术的另一目的在于提出一种抛釉砖的制备方法，制得的抛釉砖的表面的防污性能好，且表面硬度高，耐磨性能佳，同时提升了透明度，保证了产品的颜色不会发生变化。
[0006]本专利技术的另一目的在于提出一种抛釉砖，抛釉砖的表面硬度高，耐磨性能佳，且表面的防污性能好，透明度高，砖面美观，解决了现有抛釉砖产品颜色容易受到耐磨釉影响的问题。
[0007]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：一种透明耐磨熔块，其原料包括以下组分：高岭土、石英、单晶氧化铝、刚玉、镁铝尖晶石、菱镁矿、硅灰石、碳酸锂、硝酸钾和硼砂。
[0008]更进一步说明，按照质量百分比计算，其原料包括以下组分：高岭土18～25%、石英15～25%、单晶氧化铝2～7%、刚玉1～5%、镁铝尖晶石6～12%、菱镁矿15～22%、硅灰石5～12%、碳酸锂2～8%、硝酸钾3～8%和硼砂1～5%。
[0009]一种透明耐磨熔块的制备方法，用于制备所述的透明耐磨熔块，包括以下步骤：按照配比将透明耐磨熔块的原料混合，进行高温烧制后，入水淬冷制得透明耐磨熔块。
[0010]更进一步说明，所述透明耐磨熔块的高温烧制的温度曲线包括：（1）从常温升温至500℃，耗时2h；（2）从500℃升温至900℃，耗时2h；
（3）从900℃升温至1100℃，耗时1h；（4）从1100℃升温至1600℃，耗时2h；（5）从1600℃降温至1450℃，耗时0.1h；（6）在1450℃保温0.5h。
[0011]一种抛釉砖的制备方法，使用所述的透明耐磨熔块，包括以下步骤：步骤A、釉料的制备：制备抛釉料：将抛釉料的原料、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、水和印油进行球磨，制得抛釉料；制备耐磨釉：将透明耐磨熔块打粉过筛后，制得熔块粉，将熔块粉、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、水和印油进行球磨，制得耐磨釉；步骤B、在坯体的表面布施面釉，得到面釉层，在面釉层的表面喷墨打印，得到喷墨层，在喷墨层的表面布施抛釉料，得到第一抛釉层；步骤C、将耐磨釉通过丝网印刷的方式印刷于第一抛釉层的表面，得到耐磨釉层；步骤D、将抛釉料通过丝网印刷的方式印刷于所述耐磨釉层的表面，得到第二抛釉层；步骤E、入窑烧成后抛光，制得一种抛釉砖。
[0012]更进一步说明，所述步骤C中，将耐磨釉印刷于第一抛釉层的表面的印刷量为80～100g/m2。
[0013]更进一步说明，所述步骤A中，制备抛釉料的步骤包括：将抛釉料的原料、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水加入球磨机中球磨12h，然后加入印油继续球磨1h，球磨后的浆料比重为1.6～1.62g/cm3，浆料细度为过325目筛筛余0.1～0.2%，制得抛釉料，其中羧甲基纤维素钠的添加量为抛釉料的原料总质量的0.2%，三聚磷酸钠的添加量为抛釉料的原料总质量的0.4%，水的添加量为抛釉料的原料总质量的30%，印油的添加量为抛釉料的原料总质量的70%。
[0014]更进一步说明，所述步骤A中，制备耐磨釉的步骤包括：将透明耐磨熔块打粉过筛后，制得熔块粉，将熔块粉、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠和水加入球磨机中球磨12h，然后加入印油继续球磨2h，球磨后的浆料比重为1.6～1.62g/cm3，浆料细度为过325目筛筛余0.1～0.2%，制得耐磨釉，其中羧甲基纤维素钠的添加量为熔块粉的总质量的0.2%，三聚磷酸钠的添加量为熔块粉的总质量的0.45%，水的添加量为熔块粉的总质量的30%，印油的添加量为熔块粉的总质量的70%。
[0015]更进一步说明，所述步骤C中，采用80目的全通网将耐磨釉通过丝网印刷的方式印刷于第一抛釉层的表面；所述步骤D中，采用160目的全通网将抛釉料通过丝网印刷的方式印刷于所述耐磨釉层的表面。
[0016]一种抛釉砖，使用所述的抛釉砖的制备方法制备得到。
[0017]与现有技术相比，本专利技术的实施例具有以下有益效果：通过添加单晶氧化铝和刚玉，单晶氧化铝和刚玉均为高硬度的材料，镁铝尖晶石是具有一定透明度的材料，能有效提升熔块的硬度及耐磨性，此外，碳酸锂和硼砂的分解温度较低，在熔块烧制过程中形成活性强熔剂，能够腐蚀高熔点材料，使得镁铝尖晶石、刚玉、
单晶氧化铝和石英形成硅酸盐类玻璃粘体，硅酸盐类玻璃粘体指的是晶质和玻璃体的界面层，由于氧化铝熔点高，与熔剂长时间接触后，晶质表面会被腐蚀软化，从而产生界面层，起到粘结固定的作用，界面层越厚透明度越高，且界面层对硬度、耐磨性的影响小。进一步地，由于菱镁矿的分解温度较低，600℃即能分解成活性氧化镁，在高温条件下与高岭土中的活性氧化铝反应产生堇青石，且菱镁矿和碳酸锂低温分解为活性低熔点熔剂，更加容易合成堇青石晶体，合成的堇青石晶体具有透明、高硬度等特点，提高熔块的耐磨性能。该透明耐磨熔块，具有硬度高、耐磨性好以及透明度高、不影响釉料透明度的特点，解决了现有熔块的耐磨性与透明性相矛盾的问题。
附图说明
[0018]图1是本专利技术一个实施例的抛釉砖在烧成前的砖坯结构示意图；图2是现有常规抛釉砖的结构示意图；其中：坯体层1、面釉层2、喷墨层3、第一抛釉层4、耐磨釉层5、第二抛釉层6。
具体实施方式
[0019]一种透明耐磨熔块，其原料包括以下组分：高岭土、石英、单晶氧化铝、刚玉、镁铝尖晶石、菱镁矿、硅灰石、碳酸锂、硝酸钾和硼砂。
[0020]本专利技术通过添加单晶氧化铝和刚玉，单晶氧化铝和刚玉均为高硬度的材料，镁铝尖晶石是具有一定透明度的材料，能有效提升熔块的硬度及耐磨性，此外，碳酸锂和硼砂的分解温度较低，在熔块烧制过程中形成活性强熔剂，能够腐蚀高熔点材料，使得镁铝尖晶石、刚玉、单晶氧化铝和石英形成硅酸盐类玻璃粘体，硅酸盐类玻璃粘体指的是晶质和玻璃体的界面层，由于氧化铝熔点高，与熔剂长时间接触后，晶质表面会被腐蚀软化，从而产生界面层本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透明耐磨熔块，其特征在于，其原料包括以下组分：高岭土、石英、单晶氧化铝、刚玉、镁铝尖晶石、菱镁矿、硅灰石、碳酸锂、硝酸钾和硼砂。2.根据权利要求1所述的透明耐磨熔块，其特征在于，按照质量百分比计算，其原料包括以下组分：高岭土18～25%、石英15～25%、单晶氧化铝2～7%、刚玉1～5%、镁铝尖晶石6～12%、菱镁矿15～22%、硅灰石5～12%、碳酸锂2～8%、硝酸钾3～8%和硼砂1～5%。3.一种透明耐磨熔块的制备方法，其特征在于，用于制备如权利要求2所述的透明耐磨熔块，包括以下步骤：按照配比将透明耐磨熔块的原料混合，进行高温烧制后，入水淬冷制得透明耐磨熔块。4.根据权利要求3所述的透明耐磨熔块的制备方法，其特征在于，所述透明耐磨熔块的高温烧制的温度曲线包括：（1）从常温升温至500℃，耗时2h；（2）从500℃升温至900℃，耗时2h；（3）从900℃升温至1100℃，耗时1h；（4）从1100℃升温至1600℃，耗时2h；（5）从1600℃降温至1450℃，耗时0.1h；（6）在1450℃保温0.5h。5.一种抛釉砖的制备方法，其特征在于，使用如权利要求2所述的透明耐磨熔块，包括以下步骤：步骤A、釉料的制备：制备抛釉料：将抛釉料的原料、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、水和印油进行球磨，制得抛釉料；制备耐磨釉：将透明耐磨熔块打粉过筛后，制得熔块粉，将熔块粉、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、水和印油进行球磨，制得耐磨釉；步骤B、在坯体的表面布施面釉，得到面釉层，在面釉层的表面喷墨打印，得到喷墨层，在喷墨层的表面布施抛釉料，得到第一抛釉层；步骤C、将耐磨釉通过丝网印刷的方式印刷于第一抛釉层的表面，得到耐磨釉层；步骤D、将抛釉料通过丝网印刷的方式印刷于所述耐磨釉层的表面，得...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗强，钟保民，招键君，徐瑜，陈世清，
申请(专利权)人：广东东鹏控股股份有限公司佛山市东鹏陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：