一种远红外超透镜及其加工方法技术

技术编号:33476073 阅读:43 留言:0更新日期:2022-05-19 00:51
本公开涉及一种远红外超透镜,其包括结构层和基底层,且在所述结构层和基底层之间设置有间隔层;其中,所述间隔层对刻蚀气体呈惰性;所述结构层设置有阵列排布的结构单元,所述结构单元由周期性排布的纳米结构组成,所述纳米结构的高度一致。还涉及上述远红外超透镜的加工方法。本公开通过引入间隔层,使加工出来的微纳结构高度一致,即相位调制准确、成像清晰;并且,可以根据透过率的要求,选择相应的间隔层和结构层的材料和厚度,达到高透过率。达到高透过率。达到高透过率。

【技术实现步骤摘要】
一种远红外超透镜及其加工方法


[0001]本公开涉及光学超透镜的
,具体地,本公开涉及一种远红外超透镜及其加工方法。

技术介绍

[0002]对于远红外超透镜加工,可以直接使用单个硅片对表面进行结构化,即基底和微纳结构全部是一致的,从而达到特定光学效果如聚焦。这种方案设计加工简单。
[0003]但是,在实际加工过程中,会出现纳米结构高度一致性较差,致使相位调制不准确,最终导致超透镜的光学性能不理想的问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的缺陷,本公开提供了一种远红外超透镜及其加工方法,以提升相位调制的准确性,提高超透镜的光学性能。
[0005]本公开第一方面包括一种远红外超透镜的技术方案,其包括结构层和基底层,且在所述结构层和基底层之间设置有间隔层;
[0006]其中,所述间隔层对刻蚀介质呈惰性;
[0007]其中,所述结构层设置有阵列排布的结构单元,所述结构单元由周期性排布的纳米结构组成,以及
[0008]所述纳米结构具有一致高度。
[0009]优选地,所述结构层与间本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种远红外超透镜,包括结构层和基底层,且在所述结构层和基底层之间设置有间隔层;其中,所述间隔层对刻蚀介质呈惰性;其中,所述结构层设置有阵列排布的结构单元,所述结构单元由周期性排布的纳米结构组成,以及所述纳米结构具有一致高度。2.根据权利要求1所述的远红外超透镜,其特征在于,所述结构层与间隔层之间和/或所述间隔层与基底层之间,通过键合或胶合的方式连接。3.根据权利要求1所述的远红外超透镜,其特征在于,所述结构层、所述基底层和所述间隔层分别由对于目标波段的辐射能透过的材料构成。4.根据权利要求3所述的远红外超透镜,其特征在于,所述间隔层为如下中的一种构成:永久键合胶、硫系玻璃或氧化硅。5.根据权利要求3所述的远红外超透镜,其特征在于,所述结构层为如下中的一种构成:晶体硅、非晶硅、氢化非晶硅、锗、硫化锌、硫化硒或硫系玻璃。6.根据权利要求3所述的远红外超透镜,其特征在于,所述基底层为如下中的一种构成:晶体硅、非晶硅、氢化非晶硅、锗、硫化锌、硫化硒或硫系玻璃。7.根据权利要求4至6任一项所述的远红外超透镜,其特征在于,所述结构层、间隔层、基底层中的至少一个为晶圆形式。8.根据权利要求1所述的远红外超透镜,其特征在于,所述结构层厚度为7μm~15μm。9.根据权利要求1所述的远红外超透镜,其特征在于,所述间隔层厚度为400nm~1500nm。10.根据权利要求1所述的远红外超透镜,其特征在于,所述结构层的等效折射率...

【专利技术属性】
技术研发人员:谭凤泽郝成龙朱健
申请(专利权)人:深圳迈塔兰斯科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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